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安森美垂直GaN技術(shù)賦能功率器件應用未來

安森美 ? 來源:安森美 ? 2025-12-04 09:28 ? 次閱讀
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在傳統(tǒng)橫向結(jié)構(gòu)的GaN器件中,電流沿芯片表面流動。而垂直 GaN 的 GaN 層生長在氮化鎵襯底上,其獨特結(jié)構(gòu)使電流能直接從芯片頂部流到底部,而不是僅在表面流動。這種垂直電流路徑讓器件能夠承受更高的電壓和更大的電流,從而實現(xiàn)更高的功率密度、更高的效率和更緊湊的系統(tǒng)設計。

垂直架構(gòu):功率技術(shù)新高度

垂直 GaN 創(chuàng)新:vGaN 支持高電壓和高頻率運行, 效率優(yōu)于硅芯片

先進制造工廠:GaN 研發(fā)工作在占地 66,000 平方英尺、 配備 GaN 生產(chǎn)專用工具的潔凈室設施中進行

專有 GaN 生長工藝:工程師借助安森美 (onsemi) 獨特的專有技術(shù), 直接在 GaN晶圓上生長 GaN 層

市場領先與發(fā)展進度:安森美率先實現(xiàn) vGaN 技術(shù)規(guī)?;a(chǎn), 目前已向早期客戶提供 700V 和 1,200V 器件樣品

什么是垂直 GaN?

垂直 GaN 結(jié)構(gòu):GaN 層生長在 GaN 襯底上, 電流可以垂直流過芯片

更高性能:與橫向 GaN 器件相比, 可實現(xiàn)更高的電流密度和電壓

出色的開關速度:支持的開關頻率超越硅和碳化硅技術(shù)的能力范圍

先進應用:非常適合用于人工智能數(shù)據(jù)中心、 電動汽車充電樁與主驅(qū)逆變器, 以及可再生能源系統(tǒng)

垂直 GaN 與橫向 GaN

功率性能比較:

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vGaN 正推動眾多關鍵領域的創(chuàng)新和效率提升

安森美的垂直 GaN賦能未來

人工智能數(shù)據(jù)中心:通過減小 800V 電源轉(zhuǎn)換器的尺寸,提高計算密度

電動汽車:電動汽車充電速度更快,相關設備尺寸更小、效率更高

可再生能源:高效的太陽能逆變器和風能系統(tǒng),減少能源浪費

航空航天:緊湊、堅固、可靠的高性能電源系統(tǒng)

安森美成功駕馭復雜技術(shù), 助力實現(xiàn)規(guī)?;瘎?chuàng)新

垂直 GaN 技術(shù)的重要進展:研究人員對這項技術(shù)的探索已逾 15 年。安森美實現(xiàn)垂直 GaN 的商業(yè)化, 是制造領域的重要里程碑。

先進制造工藝:垂直 GaN 制造需要在塊狀襯底上生長厚實且無缺陷的 GaN 層, 這一過程依賴精密外延生長技術(shù)和新型制造方法。

創(chuàng)新與專利組合:安森美擁有 130 多項相關專利, 涵蓋器件架構(gòu)和加工工藝, 展現(xiàn)其強大的創(chuàng)新能力和知識產(chǎn)權(quán)保護水平。

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GaN 的科學原理

纖鋅礦結(jié)構(gòu) - 六方晶系的優(yōu)勢

高鍵合強度與低本征缺陷

垂直 GaN 晶體的生長和摻雜過程旨在提升其性能和可靠性, 同時簡化制造工藝。這一特性使垂直 GaN 有別于硅和碳化硅, 成為未來高能效電子產(chǎn)品的戰(zhàn)略材料。

六方晶系的優(yōu)勢:纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)提升性能

垂直 GaN 的六方纖鋅礦晶體結(jié)構(gòu)是其優(yōu)異性能的基礎。 這一結(jié)構(gòu)賦予其獨特的電子特性, 顯著增強其耐高壓能力, 并有助于電源系統(tǒng)微型化。

這種晶系優(yōu)勢與 pGaN 和 nGaN 的制備方法使垂直 GaN 有別于傳統(tǒng)材料,成為推動下一代電子產(chǎn)品性能提升的關鍵因素。

高精準度:垂直 GaN 在高溫環(huán)境中表現(xiàn)穩(wěn)定

垂直 GaN 通過高溫生長工藝獲得出色的穩(wěn)定性和性能, 為高能效、 高可靠性電力電子技術(shù)的發(fā)展提供支撐。

垂直 GaN 器件能夠承受超過 1,200 V 的電壓。 利用該技術(shù), 已經(jīng)研制出額定電壓達 3,300V 的器件。

Si、 SiC 和 GaN 材料參數(shù)

GaN 在高頻應用中表現(xiàn)出色

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GaN-on-GaN 具備高耐用性

與 GaN-on-Si/GaN-on-SiC 等橫向器件相比, 垂直結(jié)構(gòu)的 GaN-onGaN 器件因其同質(zhì)外延結(jié)構(gòu), 天然具備更強的穩(wěn)健性。

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垂直 GaN:簡單的 GaN-on-GaN 三維結(jié)構(gòu)

垂直 GaN-on-GaN e-JFET 提供了一種可擴展的高導電性功率開關

JFET 溝道利用 GaN的高體遷移率, 實現(xiàn)較低的整體 RDS(ON)

器件結(jié)構(gòu)具備穩(wěn)健的邊緣端接設計,可實現(xiàn)完整的雪崩防護能力

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適用于各種應用的功率開關技術(shù)

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安森美的垂直 GaN 技術(shù)不僅是一項技術(shù)突破。對于那些尋求在能效、電氣化和先進制造領域占據(jù)領先地位的企業(yè)和國家而言,它更是一項戰(zhàn)略資產(chǎn)。

能源需求:以高效率、 高性能的電力電子器件滿足 AI 和電動汽車市場日益增長的能源需求

性能和效率:相比傳統(tǒng)解決方案, 更小巧、 更輕便、 更高效;支持先進的產(chǎn)品設計

行業(yè)投資:為高能效電子產(chǎn)品提供競爭優(yōu)勢, 同時具備技術(shù)前瞻性, 能夠滿足未來市場需求

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
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原文標題:小巧、輕便、高效,安森美垂直GaN解鎖功率器件應用更多可能

文章出處:【微信號:onsemi-china,微信公眾號:安森美】歡迎添加關注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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