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國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收

中科院長春光機所 ? 來源:lq ? 2018-12-07 15:19 ? 次閱讀
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11月29日,由中國科學院光電技術(shù)研究所承擔的國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收,該裝備用365nm波長的紫外光單次成像實現(xiàn)了22nm的分辨率,為光學超材料/超表面、第三代光學器件、傳感芯片等納米光學加工提供了全新的解決途徑。

本項目利用表面等離子體(surface plasma,SP)超分辨成像原理,突破了衍射極限,開辟了“新”光刻技術(shù)和裝備,并擁有完全自主產(chǎn)權(quán),解決了產(chǎn)業(yè)應用難題。項目完成驗收的消息一出,立即刷爆了所內(nèi)職工、同學的朋友圈,卻也引發(fā)了行業(yè)內(nèi)和公眾的爭論和質(zhì)疑。

“中國芯片白菜價在即”、“彎道超車”這些詞匯,讓不明真相的群眾振奮不已,也讓光學、精密機械、微電子等領(lǐng)域的人士生疑和擔憂。這些其實都是部分媒體對國產(chǎn)***的過度宣傳所致。***因能生產(chǎn)芯片而被人們熟知,是除了印鈔機以外,大概最能賺錢的機器。然而光電所研制的超分辨***與ASML、尼康等公司的***定位不同,并不用于IC(Integrated Circuit,集成電路)芯片的生產(chǎn),媒體的誤導性宣傳讓超分辨***項目成果和相關(guān)科研人員受到了不應有的質(zhì)疑。

光電所自2003年起在超分辨成像光刻技術(shù)方面進行了深入系統(tǒng)地探索,取得了多項技術(shù)突破。2012年承擔了國家重大科研裝備——超分辨光刻裝備項目,在近7年間,先后實現(xiàn)了50nm、45nm、32nm超分辨成像光刻,到目前單次曝光最高線寬分辨力達到22nm的結(jié)果,是經(jīng)過了長期的技術(shù)攻關(guān)、積累和沉淀的。

超分辨光刻裝備研制項目目前已獲得了授權(quán)國內(nèi)發(fā)明專利47項,國外發(fā)明專利4項,擁有完全自主知識產(chǎn)權(quán)。

***不止于制造芯片,本項目所研制的光刻設備用于多種納米功能器件的制造,并已為多所高校及研究所制備大口徑薄膜鏡、超導納米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、生化傳感芯片、超表面成像器件等,達到實用化水平。

驗收會上,光電所稱超分辨光刻設備用于芯片生產(chǎn)還需要攻克一系列技術(shù)難關(guān),與國際領(lǐng)先技術(shù)的距離還很遙遠。然而,光電所經(jīng)過多年的技術(shù)積累和沉淀,開辟“新”光刻技術(shù)和裝備,技術(shù)完全自主可控,達到實用化水平,在超分辨成像光刻領(lǐng)域仍是國際領(lǐng)先水平。

科學工作者們深知飯要一口一口吃的道理,項目通過驗收后,光電所專家們將繼續(xù)擴展超分辨光刻裝備的功能。而媒體也應在宣傳我國科研力量崛起的同時,尊重事實,讓大眾了解真相,也避免科研人員背鍋。

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原文標題:光電所22nm光刻機通過驗收,并不能解決我國的“芯”酸事

文章出處:【微信號:cas-ciomp,微信公眾號:中科院長春光機所】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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