近日，韓國DRAM內(nèi)存芯片巨頭SK海力士宣布，位于江蘇無錫的第二工廠（C2F）已經(jīng)竣工，產(chǎn)出的第一批晶圓良品率也符合預(yù)期，計劃今年5月正式投入量產(chǎn)。

SK海力士是江蘇省單體投資規(guī)模最大的外企，雙方合作已經(jīng)超過14年，累計投資額超105億美元。

就在日前，SK海力士剛剛宣布將一方面提高第一代10nm級工藝（1xnm）內(nèi)存芯片的產(chǎn)能，另一方面今年下半年開始銷售基于第二代10nm級工藝（1ynm）的內(nèi)存芯片。

SK海力士無錫二廠項目2016年12月宣布，2017年10月簽約，2017年6月開工，2018年11月開始設(shè)備遷入，總投資達86億美元，其中16億美元用于建設(shè)3.3萬平米的新廠房和附屬設(shè)施，70億美元用于引入全球最先進的內(nèi)存芯片生產(chǎn)設(shè)備。

作為現(xiàn)有工廠（C2）的延伸項目，新工廠建設(shè)周期2017-2026年，全部完成后將成為全球單體投資規(guī)模最大、月產(chǎn)能最大、技術(shù)最先進的10nm級別工藝內(nèi)存芯片生產(chǎn)基地，月產(chǎn)能可達18萬塊300毫米晶圓，年銷售額可達33億美元。

目前，SK海力士占有中國內(nèi)存芯片市場大約35％的份額，無錫二廠投用后預(yù)計可升至超過45％。