chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

南大光電入股北京科華 共同開展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開發(fā)

mvj0_SEMI2025 ? 來源:yxw ? 2019-06-24 08:46 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

早在2015年,南大光電入股北京科華并對外宣稱,雙方將共同開展193nm光刻膠的研究與產(chǎn)品開發(fā);如今,或許進(jìn)展不順等原因影響,南大光電將全部轉(zhuǎn)讓其持有的北京科華股權(quán)。

南大光電日前發(fā)布公告,公司擬轉(zhuǎn)讓參股公司北京科華31.39%股權(quán)予深投控、疌盛投資、高盟新材、四川潤資、弘坤創(chuàng)投、西藏漢普森、沃燕創(chuàng)投。上述交易同時(shí),北京科華的其他股東美國Meng Tech公司和杭州誠和創(chuàng)業(yè)投資有限公司自愿支付公司股權(quán)轉(zhuǎn)讓差價(jià)款1619萬元人民幣。此次交易完成后,南大光電不再持有北京科華的股權(quán)。

根據(jù)《資產(chǎn)評估報(bào)告》顯示,北京科華股東全部權(quán)益于評估基準(zhǔn)日(2018年12月31日)的市場價(jià)值約人民幣5.44億元,對應(yīng)南大光電持有的31.39%股權(quán)市場價(jià)值約1.71億元。

南大光電披露,此次交易若順利實(shí)施,預(yù)計(jì)獲得股權(quán)所得款項(xiàng)共計(jì)約1.87億元人民幣,公司預(yù)計(jì)增加投資收益7000余萬元(未經(jīng)審計(jì)),將對公司2019年度經(jīng)營業(yè)績產(chǎn)生積極影響。

近年來,隨著12英寸先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)生產(chǎn)線的興建和多次曝光工藝的大量應(yīng)用,193nm及其它先進(jìn)光刻膠的需求量將快速增加,北京科華正是受益者。

據(jù)了解,北京科華是一家中美合資企業(yè),成立于2004年,產(chǎn)品覆蓋KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑,產(chǎn)品打入了中芯國際、華潤上華、杭州士蘭、吉林華微電子、三安光電、華燦光電、德豪光電等供應(yīng)體系。

那么,在此節(jié)點(diǎn),南大光電為什么要轉(zhuǎn)讓北京科華股權(quán)?

南大光電此前解釋道,北京科華大股東希望南大光電轉(zhuǎn)讓其持有的全部股權(quán)。此外,公司已組成光刻膠獨(dú)立的研發(fā)團(tuán)隊(duì),轉(zhuǎn)讓北京科華股權(quán),對公司推進(jìn)“ArF193nm光刻研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目”沒有任何影響。

不過,據(jù)知情人士稱,南大光電原本是要控股北京科華,并幫助其擴(kuò)充產(chǎn)能、客戶導(dǎo)入。不過,收購后卻一直存在后續(xù)有效管理問題,根本無法控制北京科華,只能放棄上述打算。本次退出確實(shí)是北京科華的要求,同時(shí),南大光電193nm光刻膠并未與北京科華合作,正好出現(xiàn)同業(yè)競爭。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    335

    文章

    28880

    瀏覽量

    237378
  • 光刻膠
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    339

    瀏覽量

    30941

原文標(biāo)題:北京科華光刻膠打入中芯國際、華潤上華,南大光電卻要轉(zhuǎn)讓其31.39%股權(quán)

文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導(dǎo)體前沿】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    國產(chǎn)光刻膠突圍,日企壟斷終松動(dòng)

    量產(chǎn)到ArF浸沒式驗(yàn)證,從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破,一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進(jìn)入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
    的頭像 發(fā)表于 07-13 07:22 ?1735次閱讀

    針對晶圓上芯片工藝的光刻膠剝離方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí),光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
    的頭像 發(fā)表于 06-25 10:19 ?189次閱讀
    針對晶圓上芯片工藝的<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí),光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
    的頭像 發(fā)表于 06-14 09:42 ?290次閱讀
    減少<b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量

    引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí),精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
    的頭像 發(fā)表于 05-29 09:38 ?217次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>剝離液及其制備方法及白光干涉儀在<b class='flag-5'>光刻</b>圖形的測量

    光刻膠的類型及特性

    光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
    的頭像 發(fā)表于 04-29 13:59 ?2200次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的類型及特性

    晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究

    表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝展開研究,旨在進(jìn)一步完善這一關(guān)鍵制造技術(shù)。 一、光刻膠涂覆工藝 光刻膠的涂覆工藝是決定光刻質(zhì)量的重要因素之一。該工
    的頭像 發(fā)表于 01-03 16:22 ?662次閱讀

    光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料

    光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能,增感劑有助于提高
    的頭像 發(fā)表于 12-19 13:57 ?983次閱讀

    光刻膠清洗去除方法

    光刻膠作為掩模進(jìn)行干法刻蝕或是濕法腐蝕后,一般都是需要及時(shí)的去除清洗,而一些高溫或者其他操作往往會(huì)導(dǎo)致光刻膠碳化難以去除。
    的頭像 發(fā)表于 11-11 17:06 ?1671次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>清洗去除方法

    一文解讀光刻膠的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán),而光刻膠,又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展,對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強(qiáng),光刻膠的需求也水漲船高,在微電子制造和納米技
    的頭像 發(fā)表于 11-11 10:08 ?1869次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應(yīng)用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅(jiān)膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關(guān)于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領(lǐng)取公眾號資料
    的頭像 發(fā)表于 11-01 11:08 ?2470次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發(fā)表于 10-31 15:59 ?1550次閱讀

    國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    來源:太紫微公司 近日,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破:武漢太紫微光電科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方
    的頭像 發(fā)表于 10-17 13:22 ?655次閱讀
    國產(chǎn)<b class='flag-5'>光刻膠</b>通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證

    掩膜版與光刻膠的功能和作用

    掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色,它們的功能和作用各有側(cè)重,但共同促進(jìn)了芯片的精確制造。? 掩膜版?,也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版,是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版。它的主要功能
    的頭像 發(fā)表于 09-06 14:09 ?1680次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺(tái)或者烤設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進(jìn)行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進(jìn)行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發(fā)表于 08-27 15:54 ?793次閱讀

    如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠?

    在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中,需要把PDMS或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS或SU-8涂布均勻化。 如何成功的旋涂微流控SU-
    的頭像 發(fā)表于 08-26 14:16 ?843次閱讀