MCU批量生產(chǎn)下載程序的幾種常見方法
2023-10-24 17:22:46
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光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:1524 
線路板的光刻技術(shù)
2023-09-21 10:20:34202 
1.電機啟動的五種常見方式 ①.星三角降壓啟動：正常運行為三角形接法的電動機，在啟動時將定子繞組接成星形，可以降低啟動電流。
2023-09-14 11:28:40235 
COD即化學(xué)需氧量，是指水中的還原性物質(zhì)在強氧化劑的作用下，發(fā)生氧化還原反應(yīng)時消耗氧的量。測定COD的主要方法有重鉻酸鉀法、高錳酸鉀法、庫侖法、催化快速法、節(jié)能加熱法、比色法和紫外吸收法。 重鉻酸鉀
2023-09-12 09:10:19471 
方法其實有很多，但基本原理都是在指定存儲區(qū)域（Flash）中寫入軟件版本信息，這里講述其中一種比較常見的方法。
2023-09-11 09:32:1189 
光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:53581 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
在本文中，我將介紹處理空閑總線條件的兩種常見方法，以便保證總線上的邏輯狀態(tài)。
2023-07-04 11:30:16666 
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-30 10:06:02131 
中國科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對先進光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進光刻技術(shù)與版圖設(shè)計優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17161 
市面上很多基于單片機的產(chǎn)品都具有在線或離線升級功能，為了防止升級過程出現(xiàn)意外，一般我們都會對Flash程序數(shù)據(jù)進行校驗，常見的就是添加 CRC 校驗信息。
2023-05-19 10:49:191077 
SIP是一種源于互聯(lián)網(wǎng)的IP語音會話控制協(xié)議，具有靈活、易于實現(xiàn)、便于擴展等特點，最常見的用途之一是互聯(lián)網(wǎng)通信。由于SIP比傳統(tǒng)的電話系統(tǒng)便宜得多，因此該技術(shù)為連接到公用電話交換網(wǎng)（PSTN）提供了很好的替代方案。
2023-05-19 10:42:03356 EUV光刻技術(shù)仍被認為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041286 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:03697 光刻技術(shù)簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:321324 
光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:13691 
箱式變壓器是工業(yè)、礦山、建筑等各個領(lǐng)域中常見的基礎(chǔ)設(shè)施，作為電力系統(tǒng)中不可缺少的設(shè)備之一，需要定期進行保養(yǎng)與維護，以確保其正常、安全、穩(wěn)定地運行。以下是箱式變壓器保養(yǎng)的常見方法：
2023-04-19 14:45:51737 逆變器的維護對于不同的元器件有不同的維護方法，所以維護時需要不同的維護工具，只能掌握一些電子線路上的基本技能。然而，在部件修復(fù)之前，檢測故障點是一個非常復(fù)雜的過程。
2023-03-24 14:11:166836 GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導(dǎo)體光刻 計算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術(shù)提速40倍。這對于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377287 
用于集成電路制造的光刻機有兩種：半導(dǎo)體光刻機和光學(xué)（光刻）光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關(guān)知識。半導(dǎo)體光刻機是根據(jù)芯片制造的工藝和設(shè)備來劃分的，可以分為：193納米濕法光刻、 DUV、 ArF+ ALD等技術(shù)路線，以及傳統(tǒng)的干法光刻等技術(shù)路線。
2023-03-03 11:36:546651 光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。其中光刻系統(tǒng)被稱為光刻機，帶有圖形的石英板稱為掩膜，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。
2023-02-08 14:58:333240 隨著表面貼裝技術(shù)的引人，電路板的封裝密度飛速增加。因此，即使對于密度不高、一般數(shù)量的電路板，電路板的自動檢測不但是基本的，而且也是經(jīng)濟的。在復(fù)雜的電路板檢測中，兩種常見的方法是針床測試法和雙探針或飛
2023-02-02 18:31:061477 導(dǎo)讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。 光刻機的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:546622 前烘就是在一定溫度下，使膠膜里的溶劑緩慢地揮發(fā)出來，使膠膜干燥，并增加其粘附性和耐磨性。
2022-12-16 11:55:181793 對于光刻機難道我們真就毫無還手之力了？其實也不見得，華為最新的專利端上來了，看看這道硬菜。日前，華為一項名為“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”的新專利公開，專利申請
2022-11-21 15:10:072470 
光刻是半導(dǎo)體工業(yè)的核心技術(shù)。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發(fā)明單片集成電路以來，光刻一直是主要的光刻技術(shù)。
2022-11-14 11:36:461920 計算光刻 (Computational Lithography)技術(shù)是指利用計算機輔助技術(shù)來增強光刻工藝中圖形轉(zhuǎn)移保真度的一種方法，它是分辦率增強技術(shù)(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:221935 產(chǎn)生量子糾纏的設(shè)備通常體積龐大，且每次只能產(chǎn)生一對糾纏光子?，F(xiàn)在，科學(xué)家們發(fā)明了一種厚度約為一便士三分之一的裝置，它不僅可以成對產(chǎn)生復(fù)雜的糾纏光子網(wǎng)，還可以將多對糾纏光子連在一起。本發(fā)明不僅可以大大簡化量子技術(shù)所需的設(shè)置，而且有助于支持更復(fù)雜的量子應(yīng)用。
2022-10-18 16:52:023233 光刻是半導(dǎo)體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當(dāng)今半導(dǎo)體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:052736 傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應(yīng)用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術(shù)節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2912687 沉浸式光刻技術(shù)是在傳統(tǒng)的光刻技術(shù)中，其鏡頭與光刻膠之間的介質(zhì)是空氣，而所謂浸入式技術(shù)是將空氣介質(zhì)換成液體。實際上，浸入式技術(shù)利用光通過液體介質(zhì)后光源波長縮短來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質(zhì)的折射率。
2022-10-13 16:51:382506 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:214726 PCBA工廠確保采購物料原裝的常見方法是先核驗供應(yīng)商的資質(zhì)，然后讓供應(yīng)商提供欲采購物料的原廠授權(quán)證明。在收到物料后讓倉管仔細檢查核對，避免收到氧化料、老料、型號參數(shù)不對的物料。
2022-08-20 12:09:59698 根據(jù)所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學(xué)光刻技術(shù)中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區(qū)域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:532708 
從 2D 擴展到異構(gòu)集成和 3D 封裝對于提高半導(dǎo)體器件性能變得越來越重要。近年來，先進封裝技術(shù)的復(fù)雜性和可變性都在增加，以支持更廣泛的設(shè)備和應(yīng)用。在本文中，我們研究了傳統(tǒng)光刻方法在先進封裝中的局限性，并評估了一種用于后端光刻的新型無掩模曝光。
2022-07-26 10:42:12887 壓印光刻是許多新興應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)，例如微光學(xué)、增強現(xiàn)實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071054 
與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰(zhàn)，更少的隨機效應(yīng)、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統(tǒng)的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學(xué)放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現(xiàn)瓶頸
2022-07-22 10:40:081783 PCB檢測用以提高產(chǎn)品生產(chǎn)良率的幾種檢查方法
2022-07-15 14:15:314142 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1014121 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1075655 3C周邊配件常見方案簡述，可提供部分設(shè)計資料，也可以幫忙審核部分資源等。
2022-05-05 14:05:481520 
本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:42712 
平版印刷術(shù)被定義為“一種從已經(jīng)準(zhǔn)備好的平坦表面(如光滑的石頭或金屬板)印刷的方法，以便油墨僅粘附在將要印刷的設(shè)計上”。在半導(dǎo)體器件制造中，石頭是硅片，而墨水是沉積、光刻和蝕刻工藝的綜合效果，從而產(chǎn)生
2022-03-14 15:20:531611 
軟件代碼有bug，可以通過人工查找，也可以通過編譯發(fā)現(xiàn)，同時也可以通過代碼靜態(tài)分析工具找到錯誤或警告。
2022-03-10 17:55:132230 Futurrex,成立于1985年，位總部設(shè)在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業(yè)務(wù)范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發(fā)最高端產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
電子發(fā)燒友網(wǎng)為你提供電平轉(zhuǎn)換常見方法的匯總比較資料下載的電子資料下載，更有其他相關(guān)的電路圖、源代碼、課件教程、中文資料、英文資料、參考設(shè)計、用戶指南、解決方案等資料，希望可以幫助到廣大的電子工程師們。
2021-04-09 08:44:21
9 5nm光刻技術(shù)與ASML光刻機有何區(qū)別？ EUV光刻機產(chǎn)能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產(chǎn)能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產(chǎn)手機芯片麒麟990，每天能產(chǎn)多少片？中芯國際有多少臺投入生產(chǎn)的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023048 隨著表面貼裝技術(shù)的引人，電路板的封裝密度飛速增加。因此，即使對于密度不高、一般數(shù)量的電路板，電路板的自動檢測不但是基本的，而且也是經(jīng)濟的。在復(fù)雜的電路板檢測中，兩種常見的方法是針床測試法和雙探針或飛針測試法。
2020-12-17 15:48:0014 是如何一步一步變成了芯片制造的卡脖子技術(shù)？本文試圖一探究竟。 光刻技術(shù)是利用光學(xué)和化學(xué)反應(yīng)的原理，以及利用化學(xué)和物理的刻蝕方法，把電路圖形制作到半導(dǎo)體基片、或者下一層介質(zhì)材料之上，經(jīng)過有序的多次光刻工序疊加，
2020-12-04 15:45:284938 近兩年來，芯片制造成為了半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術(shù)則是光刻機發(fā)展的重要推動力。在過去數(shù)十載的發(fā)展中，光刻技術(shù)也衍生了多個分支，除了光刻機外，還包括光源、光學(xué)元件、光刻膠等材料設(shè)備，也形成了極高的技術(shù)壁壘和錯綜復(fù)雜的產(chǎn)業(yè)版圖。
2020-11-27 16:03:3618314 作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0411220 
光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。
2020-08-13 15:09:2217158 
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-12-21 09:58:4019373 LED電子顯示屏很重要的組成部分就有LED單元板，如果單元板有問題，會直接影響LED顯示屏的整體質(zhì)量！所以，如何辨別LED單元板的好壞是LED顯示屏商家關(guān)心的問題，下面整理了一些檢測LED單元板的常見方法。
2019-05-04 17:31:003048 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-03-03 10:00:313864 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。
2019-03-02 09:41:2910877 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發(fā)展中，光刻技術(shù)的增長，直接關(guān)系到大型計算機的運作等高科技領(lǐng)域。
2019-02-25 10:07:535619 光刻技術(shù)是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術(shù)，涉及光、機、電、物理、化學(xué)、材料等多個研究方向。目前科學(xué)家正在探索更短波長的F2激光（波長為157納米）光刻技術(shù)。由于大量的光吸收，獲得用于光刻系統(tǒng)
2019-01-02 16:32:2322173 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-06-27 15:43:5011578 光刻技術(shù)是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術(shù)。光刻也是制造芯片的最關(guān)鍵技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003010 光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得
2018-04-17 16:07:4133297 本文提到MEMS技術(shù)中所應(yīng)有的光刻技術(shù)，幫助讀者了解光刻技術(shù)的原理，應(yīng)用。
2016-04-28 11:35:3210 光耦隔離的4種常見方法對比
2012-05-31 11:06:35130218 
隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小，光刻技術(shù)和光刻設(shè)備發(fā)生著顯著變化。通過對目前國內(nèi)外光刻設(shè)備生產(chǎn)廠商對下一代光刻技術(shù)的開發(fā)及目前已經(jīng)應(yīng)用到先進生產(chǎn)線上
2011-10-31 16:38:1769 簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術(shù),集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085199 擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術(shù)仍然遠遠領(lǐng)先。業(yè)界一度認為193nm浸入式光刻會在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:332363 
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21127
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