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電子發(fā)燒友網(wǎng)>EMC/EMI設(shè)計(jì)>深亞微米CMOS IC全芯片ESD保護(hù)技術(shù)

深亞微米CMOS IC全芯片ESD保護(hù)技術(shù)

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2012-04-23 10:17:424709

CMOS電路中ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求

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2014-12-24 11:05:473291

全面了解cmos電路中esd保護(hù)結(jié)構(gòu)原理及應(yīng)用

要求,重點(diǎn)討論了在I/O電路中ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)要求。 1 引言 靜電放電會(huì)給電子器件帶來破壞性的后果,它是造成集成電路失效的主要原因之一。隨著集成電路工藝不斷發(fā)展,CMOS電路的特征尺寸不斷縮小,管子的柵氧厚度越來越薄,芯片的面積規(guī)模越來越大,MOS管能
2017-12-05 09:03:4013455

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近年來,有關(guān)將CMOS工藝在射頻(RF)技術(shù)中應(yīng)用的可能性的研究大量增多。微米技術(shù)允許CMOS電路的工作頻率超過1GHz,這無疑推動(dòng)了集成CMOS射頻電路的發(fā)展。目前,幾個(gè)研究組已利用標(biāo)準(zhǔn)
2021-07-29 07:00:00

CMOS集成電路ESD防護(hù)設(shè)計(jì)研討會(huì)

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2015-04-22 22:19:54

ESD保護(hù)元件優(yōu)化高亮LED使用 (1)

?! ?b class="flag-6" style="color: red">IC制造商已經(jīng)將ESD損傷確定為互補(bǔ)式金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)元件現(xiàn)場(chǎng)可靠性的一項(xiàng)主要威脅,它可能損害品牌形象并妨礙市場(chǎng)接受新技術(shù)。為避免此情況,業(yè)界積極努力用后續(xù)新制程世代來最佳化整合ESD
2011-11-24 15:00:58

ESD保護(hù)器件的種類及應(yīng)用

UM5051/5052的重要參數(shù)ESD保護(hù)器件的種類ESD應(yīng)用舉例
2021-04-02 07:37:30

ESD保護(hù)方法的對(duì)比分析

能夠承受ESD的沖擊,并繼續(xù)正常工作。ESD保護(hù)方法為了給電子系統(tǒng)提供ESD保護(hù),可以從不同的角度來著手。一種方法是在半導(dǎo)體芯片內(nèi)建ESD保護(hù)架構(gòu)。不過,日趨縮小的CMOS芯片已經(jīng)越來越不足以承受進(jìn)行
2011-07-05 14:19:03

ESD保護(hù)界線新技術(shù)

取舍,實(shí)際上會(huì)使系統(tǒng)整體性能在某種程度上受損。對(duì)于設(shè)計(jì)能夠同時(shí)符合更高數(shù)據(jù)率和更好ESD保護(hù)新需求的芯片的制造商來說,要實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo)極具挑戰(zhàn)性。ESD保護(hù)領(lǐng)域的變化 由于采用更小的制造幾何尺寸、片上保護(hù)
2011-01-27 10:35:10

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水平,以便使那些采用了對(duì)ESD越來越敏感的IC的終端產(chǎn)品保持高可靠性。 ESD波形 以系統(tǒng)級(jí)的方法來定義典型的ESD事件所采用的最常見的波形,是以其納秒上升時(shí)間和高電流電平(參見圖1)為顯著特征
2010-08-18 19:44:07

ESD保護(hù)

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2018-10-17 16:04:52

ESD傳遞模式有哪幾種?如何提高ESD保護(hù)

如何正確保護(hù)IC?ESD傳遞模式有哪幾種?ESD保護(hù)和應(yīng)用電路如何提高ESD保護(hù)?
2021-04-23 06:23:47

ESDIC設(shè)計(jì)又一挑戰(zhàn)

告訴《中國電子報(bào)》記者,據(jù)統(tǒng)計(jì),超過60%的IC失效都源于ESD?! ‰S著超大規(guī)模集成電路工藝的高速發(fā)展,特征尺寸已經(jīng)到微米階段,大大提高了集成電路的性能及運(yùn)算速度,但隨著器件尺寸的減小,對(duì)可靠性
2013-02-21 10:54:18

ESD成為IC設(shè)計(jì)的又一挑戰(zhàn)

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2013-08-16 10:22:02

ESD接口處需要靜電保護(hù)

[table][tr][td]隨著現(xiàn)代社會(huì)的飛速發(fā)展,我們對(duì)電子設(shè)備的依靠與日俱增.現(xiàn)代電腦越來越多的采用低功率邏輯芯片,由于MOS的電介質(zhì)擊穿和雙極反向結(jié)電流的限制,使這些邏輯芯片對(duì)ESD非常敏感
2013-11-20 15:43:19

ESD設(shè)計(jì)與綜合

`隨著半導(dǎo)體工藝尺寸從微米量級(jí)向納米量級(jí)縮小,靜電放電(ESD)對(duì)于半導(dǎo)體器件與系統(tǒng)的影響仍在持續(xù)。本書從芯片ESD設(shè)計(jì)綜合的角度,對(duì)EOS、ESD以及Latchup進(jìn)行了探討。針對(duì)ESD保護(hù)
2013-09-04 09:17:26

ESD靜電抑制器解讀

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保護(hù)元件免受ESD的方法

。不過,日趨縮小的CMOS芯片已經(jīng)越來越不足以承受進(jìn)行內(nèi)部2 kV等級(jí)的ESD保護(hù)所需要的面積。安森美半導(dǎo)體標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品部亞太區(qū)市場(chǎng)營銷副總裁麥滿權(quán)指出:真正有效的ESD保護(hù)是不能完全集成到CMOS芯片之中
2013-01-04 14:58:24

保護(hù)元件免受ESD的方法

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聯(lián)華的安全技術(shù)

的安全保護(hù)傘的所有部分都應(yīng)該“硬化”或者屏蔽攻擊,包括加密密鑰、驗(yàn)證碼和固件。聯(lián)華 基于硬件的安全性可在很小的空間內(nèi)通過簡(jiǎn)單且高成本效益的方式實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。幾乎沒有任何方法可以下載已鎖定在芯片中的秘密
2013-12-30 16:04:47

EDA技術(shù)與FPGA設(shè)計(jì)應(yīng)用的詳細(xì)闡述

摘 要:EDA技術(shù)是現(xiàn)代電子設(shè)計(jì)技術(shù)的核心,它在現(xiàn)代集成電路設(shè)計(jì)中占據(jù)重要地位。隨著微米與超微米技術(shù)的迅速發(fā)展,F(xiàn)PGA設(shè)計(jì)越來越多地采用基于VHDL的設(shè)計(jì)方法及先進(jìn)的EDA工具。本文詳細(xì)
2019-06-18 07:33:04

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2019-06-27 08:01:28

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2013-11-21 09:57:59

HDMI接口靜電保護(hù)解決方案

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2020-12-31 15:57:17

MH251霍爾效應(yīng)傳感器 5uA超低功耗CMOS輸出 極型霍爾開關(guān)

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2019-06-13 08:18:01

TVS的ESD保護(hù)原理解析

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TVS管在汽車電子的保護(hù)方案

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如何設(shè)計(jì)ESD保護(hù)電路?

,提高了芯片的運(yùn)算速度?! 〉牵S著工藝的進(jìn)步和尺寸的減小,靜電釋放(ESD),Elecyro Static Discharge)問題變得日益嚴(yán)峻。據(jù)統(tǒng)計(jì),在集成電路設(shè)計(jì)中大約40%的失效電路是ESD問題造成的。如何設(shè)計(jì)ESD保護(hù)電路?這個(gè)問題急需解決。  
2019-08-07 06:24:17

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數(shù)字集成電路-電路、系統(tǒng)與設(shè)計(jì) 免費(fèi)下載

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新型互補(bǔ)電容耦合ESD保護(hù)電路的設(shè)計(jì)提出了一種改進(jìn)型的基于微米工藝中ESD 保護(hù)電路, 它由互補(bǔ)式電容實(shí)現(xiàn), 結(jié)構(gòu)與工藝簡(jiǎn)單。電路采用0.6μm1P2MCMOS 工藝進(jìn)行了驗(yàn)證, 結(jié)果表明
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特征工藝尺寸對(duì)CMOS SRAM抗單粒子翻轉(zhuǎn)性能的影響

【作者】:張科營;郭紅霞;羅尹虹;何寶平;姚志斌;張鳳祁;王園明;【來源】:《原子能科學(xué)技術(shù)》2010年02期【摘要】:采用TCAD工藝模擬工具按照等比例縮小規(guī)則構(gòu)建了從微米到超微米級(jí)7種
2010-04-22 11:50:00

電子器件的ESD靜電保護(hù)

,不普通數(shù)字電路更容易遭到損壞,因?yàn)橛糜?b class="flag-6" style="color: red">ESD保護(hù)的傳輸入保護(hù)結(jié)構(gòu)會(huì)增加輸入泄露,因此不能使用。所有ESD敏感器件均采用保護(hù)性封裝。IC通常裝在導(dǎo)電泡沫中或者防靜電包裝套管中,而后將容器密封在一個(gè)靜電
2018-01-16 14:21:19

解讀ESD靜電抑制器

解讀ESD靜電抑制器 因?yàn)橐蟾呒啥?、快速度和小體積,如今的新興電子產(chǎn)品都使用基于先進(jìn)深次微米制程的芯片。但制程越先進(jìn),芯片對(duì) ESD 耐受度也就越差。當(dāng)這些電子產(chǎn)品在實(shí)際環(huán)境下受到 ESD沖擊
2013-12-11 15:58:03

采用HDMI接口實(shí)現(xiàn)ESD保護(hù)

使用液晶電視等HDMI終端設(shè)備支持的音頻/視頻格式?! DMI接收器和發(fā)射器的IC芯片全部采用微米工藝制造。微米CMOS制程十分敏感,通常設(shè)有ESD保護(hù)限制(最高2kV),必須符合人體放電模式
2019-06-17 05:00:06

針對(duì)HDMI 1.3接口的ESD設(shè)計(jì)實(shí)戰(zhàn)詳解

摩爾定律對(duì)先進(jìn)CMOS ICESD保護(hù)的影響 持續(xù)不斷的特征尺寸小型化趨勢(shì),已經(jīng)使半導(dǎo)體制造商能夠在過去幾十年中通過把幾十億三極管集成到單一芯片之中來提高芯片性能、降低功耗及驅(qū)動(dòng)成本的下降。盡管
2018-12-05 10:39:44

針對(duì)USB端口的ESD保護(hù)

隨著現(xiàn)代社會(huì)的飛速發(fā)展,我們對(duì)電子設(shè)備的依賴與日俱增.現(xiàn)代電腦越來越多的采用低功率邏輯芯片,由于MOS的電介質(zhì)擊穿和雙極反向結(jié)電流的限制,使這些邏輯芯片對(duì)ESD非常敏感。大多數(shù)USB集成電路都是
2019-08-02 17:43:22

SOC與芯片設(shè)計(jì)方法

本文介紹了以超微米技術(shù)為支撐的 SOC 的定義以及芯片設(shè)計(jì)方法,并闡述了軟硬件協(xié)同設(shè)計(jì)理論、IP 核生成及復(fù)用技術(shù)、超微米IC 設(shè)計(jì)面對(duì)的難題以及SOC 測(cè)試與驗(yàn)證技術(shù)。
2009-06-19 09:28:1235

微米集成電路靜態(tài)功耗的優(yōu)化

隨著工藝的發(fā)展,器件閾值電壓的降低,導(dǎo)致靜態(tài)功耗呈指數(shù)形式增長。進(jìn)入微 米工藝后,靜態(tài)功耗開始和動(dòng)態(tài)功耗相抗衡,已成為低功耗設(shè)計(jì)一個(gè)不可忽視的因素
2009-09-15 10:18:1018

微米集成電路靜態(tài)功耗的優(yōu)化

隨著工藝的發(fā)展,器件閾值電壓的降低,導(dǎo)致靜態(tài)功耗呈指數(shù)形式增長。進(jìn)入微米工藝后,靜態(tài)功耗開始和動(dòng)態(tài)功耗相抗衡,已成為低功耗設(shè)計(jì)一個(gè)不可忽視的因素。針對(duì)近
2009-09-15 10:18:1026

CMOS工藝中GG2NMOS結(jié)構(gòu)ESD保護(hù)電路設(shè)計(jì)

CMOS工藝中GG2NMOS結(jié)構(gòu)ESD保護(hù)電路設(shè)計(jì):采用GG2NMOS 結(jié)構(gòu)的ESD 保護(hù)電路的工作原理和對(duì)其進(jìn)行的ESD 實(shí)驗(yàn),提出了一種保護(hù)電路的柵耦合技術(shù)方案,并達(dá)到了預(yù)期效果. 通過實(shí)驗(yàn)可以看出其性
2009-11-20 14:48:4341

CMOS電路中ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)

本文研究了在CMOS 工藝中I/O 電路的 ESD 保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)以及相關(guān)版圖的要求,其中重點(diǎn)討論了PAD 到VSS 電流通路的建立。關(guān)鍵詞:ESD 保護(hù)電路,ESD 設(shè)計(jì)窗口,ESD 電流通路Constru
2009-12-14 10:45:5455

微米ESD保護(hù)器件GGNMOS性能分析與設(shè)計(jì)

本文采用 MEDICI 作為集成電路ESD 保護(hù)常用器件—柵極接地N 型MOS 管(GGNMOS)ESD 性能分析的仿真工具,綜合分析了各種對(duì)GGNMOS 的ESD 性能有影響的因素,如襯底摻雜、柵長、接觸
2009-12-14 10:59:0222

微米下ASIC后端設(shè)計(jì)及實(shí)例

本文通過對(duì)傳統(tǒng)大規(guī)模集成電路設(shè)計(jì)流程的優(yōu)化,得到了更適合于微米工藝集成電路的后端設(shè)計(jì)流程,詳細(xì)介紹了包括初步綜合、自定義負(fù)載線的生成、版圖規(guī)劃、時(shí)鐘樹綜合
2009-12-14 11:03:0915

0.16微米CMOS工藝技術(shù)

和艦科技自主創(chuàng)新研發(fā)的0.16 微米硅片制造工藝技術(shù)在原有比較成熟的0.18 微米工藝技術(shù)基礎(chǔ)上,將半導(dǎo)體器件及相關(guān)繞線尺寸進(jìn)行10%微縮(實(shí)際尺寸為0.162 微米),大大降低了芯
2009-12-14 11:23:3625

基于微米MOS器件溝道的熱噪聲淺析

基于微米MOS 器件溝道的熱噪聲淺析曾獻(xiàn)芳摘要: 隨著 MOS 器件工藝尺寸的不斷減小,其不斷增高的單位增益截止頻率足以滿足射頻/模擬電路的工作要求。然而,隨著溝
2009-12-15 14:31:0410

微米IC設(shè)計(jì)中的天線效應(yīng)

微米IC設(shè)計(jì)中的天線效應(yīng)李蜀霞 劉輝華 趙建明 何春(電子科技大學(xué)電子電子科學(xué)技術(shù)研究院 成都 610054)【摘要】本文主要分析了超微米集成電路設(shè)計(jì)中天線效應(yīng)
2009-12-19 14:54:5345

微米集成電路可靠性技術(shù)

摘要:就超微米集成電路中高K柵介質(zhì)、金屬柵、cU/低K互連等相關(guān)可靠性熱點(diǎn)問題展開討論.針對(duì)超微米集成 電路可靠性問題.提出可靠性設(shè)計(jì)、生產(chǎn)過程的質(zhì)量控制、可
2010-04-27 14:13:3319

一種增強(qiáng)超微米集成電路測(cè)試質(zhì)量和抑制測(cè)試代價(jià)增長趨勢(shì)的可

摘要:增強(qiáng)測(cè)試質(zhì)量和抑制測(cè)試代價(jià)是超微米集成電路測(cè)試及可測(cè)性設(shè)計(jì)領(lǐng)域的兩個(gè)研究主題。本文介紹了一個(gè)基于Mentor公司可測(cè)性設(shè)計(jì)工具的面向多種故障模型的超
2010-06-07 11:01:1710

微米設(shè)計(jì)中串?dāng)_的影響及避免

分析了在超微米階段,串?dāng)_對(duì)高性能芯片設(shè)計(jì)的影響,介紹了消除串?dāng)_影響的方法。    關(guān)鍵詞:串?dāng)_,布線,關(guān)鍵路徑,
2009-05-05 20:59:161434

一種全新的微米IC設(shè)計(jì)方法

一種全新的微米IC設(shè)計(jì)方法 本文分析了傳統(tǒng)IC設(shè)計(jì)流程存在的一些缺陷,并且提出了一種基于Logical Effort理論的全新IC設(shè)計(jì)方法。 眾所周知,傳統(tǒng)的IC設(shè)計(jì)流
2009-12-27 13:28:50896

TSMC推出最新微米互通式EDA格式

TSMC推出最新微米互通式EDA格式 TSMC 7日宣布針對(duì)65納米、40納米及28納米工藝推出已統(tǒng)合且可交互操作的多項(xiàng)電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化(Electronic Design Automatio
2010-04-09 10:36:49939

新型微米電流靈敏放大器技術(shù)設(shè)計(jì)

新型微米電流靈敏放大器技術(shù)設(shè)計(jì) 隨著便攜式電子設(shè)備(PDA、射頻卡、GPS等)的廣泛應(yīng)用,半導(dǎo)體存儲(chǔ)器得到了長足的發(fā)展。半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的性能
2010-04-27 17:37:46873

手機(jī)接口的ESD保護(hù)設(shè)計(jì)

目前幾乎所有的芯片組都有片上ESD保護(hù)ESD電路放在芯片的外圍和鄰近I/O焊墊處,它用于在晶圓制造和后端裝配流程中保護(hù)芯片組。在這些環(huán)境中,ESD可通過設(shè)備或工廠的生產(chǎn)線工作人員引入到芯片組上
2011-02-18 10:29:071260

模擬/混合信號(hào)IC版圖設(shè)計(jì)技術(shù)

模擬/混合信號(hào)Ic設(shè)計(jì)一直是困擾很多中國Ic設(shè)計(jì)工程師的難題。與數(shù)字電路設(shè)計(jì)相比,模擬/混合電路設(shè)計(jì)要求更為嚴(yán)苛,而且需要嚴(yán)格的環(huán)境控制工藝。而對(duì)于微米級(jí)的SOC設(shè)計(jì)還必
2011-03-31 16:16:100

微米IC設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)

下一代的實(shí)體設(shè)計(jì)系統(tǒng)IC Compiler,為Synopsys Galaxy Design Platform 2005的核心,其設(shè)計(jì)概念就在解決這些浮現(xiàn)的挑戰(zhàn),提供從RTL到芯片的一貫解決方案
2011-04-19 11:14:511312

微米pMOS器件的HCI和NBTI耦合效應(yīng)與物理機(jī)制

研究了微米pMOS 器件的熱載流子注入(hot2carrier injection ,HCI) 和負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定效應(yīng)(negative bias temperature instability ,NBTI) 的耦合效應(yīng)和物理機(jī)制.
2012-04-23 15:35:3934

基于CMOS工藝的RF集成電路設(shè)計(jì)

近年來,有關(guān)將CMOS工藝在射頻(RF)技術(shù)中應(yīng)用的可能性的研究大量增多。微米技術(shù)允許CMOS電路的工作頻率超過1GHz,這無疑推動(dòng)了集成CMOS射頻電路的發(fā)展。目前,幾個(gè)研究組已利
2012-05-21 10:06:192373

ESD保護(hù)基礎(chǔ)知識(shí)#電子元器件 #ESD #保護(hù)器件 #技術(shù)分享 #電子產(chǎn)品

ESD保護(hù)ESDA
學(xué)習(xí)電子知識(shí)發(fā)布于 2023-05-07 01:11:15

如何設(shè)計(jì)對(duì)esd保護(hù)

ESD保護(hù)
上海雷卯電子科技有限公司發(fā)布于 2023-07-09 21:38:07

微米BiCMOS[B]芯片及其剖面結(jié)構(gòu)與制程技術(shù)分享

BiCMOS[B]的 Twin-Well[1]與P-Well[2]或 N-Well[3] 的制造技術(shù)有很大的不同。主要是 CMOS 特征尺寸為微米級(jí),使制造技術(shù)發(fā)生了重要的變化。 由于器件
2017-12-18 14:30:187653

微米 BiCMOS[B] 芯片與制程剖面結(jié)構(gòu)

1 微米 BiCMOS[B] 技術(shù) 器件進(jìn)入微米特征尺寸,為了抑制 MOS 穿通電流和減小短溝道效應(yīng),微米制造工藝提出如下嚴(yán)格的要求: (1)高質(zhì)量柵氧化膜。柵氧化膜厚度
2018-03-16 10:29:548670

基于CMOS電路的ESD保護(hù)設(shè)計(jì)

ESD保護(hù)電路的設(shè)計(jì)目的就是要避免工作電路成為ESD的放電通路而遭到損害,保證在任意兩芯片引腳之間發(fā)生的ESD,都有適合的低阻旁路將ESD電流引入電源線。這個(gè)低阻旁路不但要能吸收ESD電流,還要能箝位工作電路的電壓,防止工作電路由于電壓過載而受損。
2019-03-04 14:24:015070

CMOS電路的ESD保護(hù)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

ESD保護(hù)電路的設(shè)計(jì)目的就是要避免工作電路成為ESD的放電通路而遭到損害,保證在任意兩芯片引腳之間發(fā)生的ESD,都有適合的低阻旁路將ESD電流引入電源線。這個(gè)低阻旁路不但要能吸收ESD電流,還要能箝位工作電路的電壓,防止工作電路由于電壓過載而受損。
2019-04-08 15:26:112997

CMOS芯片ESD保護(hù)電路設(shè)計(jì)

隨著CMOS集成電路產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,越來越多的CMOS芯片應(yīng)用在各種電子產(chǎn)品中,但在電子產(chǎn)品系統(tǒng)的設(shè)計(jì)過程中,隨著CMOS工藝尺寸越求越小,單位面積上集成的晶體管越來越多,極大地降低了芯片的成本
2020-12-30 10:28:002

芯片輸入輸出緩沖電路和ESD保護(hù)電路的應(yīng)用設(shè)計(jì)

ESD保護(hù)設(shè)計(jì)隨著CMOS工藝的演進(jìn)而越來越困難,迄今已有六百多件ESD相關(guān)的美國專利。而且,ESD更應(yīng)當(dāng)從芯片全局考慮,而不只是Input PAD,Output PAD,或Power PAD的問題。
2021-03-17 22:28:5525

微米無負(fù)載四管與六管SRAM SNM的對(duì)比

采用基于物理的指數(shù)MOSFET模型與低功耗傳輸域MOSFET模型,推導(dǎo)了新的超微米無負(fù)載四管與六管SRAM存儲(chǔ)單元靜態(tài)噪聲容限的解析模型.對(duì)比分析了由溝道摻雜原子本征漲落引起的相鄰MOSFET的閾值電壓失配對(duì)無負(fù)載四管和六管SRAM單元靜態(tài)噪聲容限的影響。
2021-03-26 15:17:546

數(shù)字集成電路分析與設(shè)計(jì):微米工藝

數(shù)字集成電路分析與設(shè)計(jì):微米工藝免費(fèi)下載。
2021-05-12 14:52:40180

ESD保護(hù)芯片CH412技術(shù)手冊(cè)

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《ESD保護(hù)芯片CH412技術(shù)手冊(cè).pdf》資料免費(fèi)下載
2022-09-09 11:29:033

On chip ESD和EOS保護(hù)設(shè)計(jì)

點(diǎn)擊上方“藍(lán)字”關(guān)注我們!IC片上保護(hù)設(shè)計(jì)對(duì)EOS的影響全面的方法可以減少與EOS相關(guān)的故障通常理解的是,芯片ESD保護(hù)是必不可少的,以滿足人體模型(HBM)和充電裝置模型產(chǎn)品合格(CDM)ESD
2021-12-31 16:08:023499

請(qǐng)教一下經(jīng)受過嚴(yán)重ESD電擊的CMOS IC的可靠性會(huì)降低嗎?

靜電放電(ESD)是電子設(shè)備中一種常見的危害,它可能導(dǎo)致集成電路(IC)的損壞。對(duì)于CMOS IC來說,經(jīng)受過嚴(yán)重ESD電擊的可靠性會(huì)降低。
2023-12-15 15:32:091548

盛合晶微引領(lǐng)半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)入微米時(shí)代

據(jù)江陰發(fā)布的信息透露,此次發(fā)布的微米互聯(lián)技術(shù)依托本土設(shè)備技術(shù)實(shí)力,運(yùn)用大視場(chǎng)光刻技術(shù)達(dá)到了0.8um/0.8um的線寬線距技術(shù)水準(zhǔn),所生產(chǎn)的硅穿孔轉(zhuǎn)接板產(chǎn)品達(dá)到3倍光罩尺寸,這標(biāo)志著盛合晶微在先進(jìn)封裝技術(shù)領(lǐng)域邁入微米時(shí)代
2024-05-20 11:47:571632

芯片ESD防護(hù)網(wǎng)絡(luò)

據(jù)統(tǒng)計(jì),靜電放電(Electro-Static Discharge, ESD)造成的芯片失效占到集成電路產(chǎn)品失效總數(shù)的38%。完好的芯片ESD防護(hù)設(shè)計(jì),一方面取決于滿足ESD設(shè)計(jì)窗口要求的優(yōu)質(zhì)ESD器件結(jié)構(gòu),另一方面芯片ESD防護(hù)網(wǎng)絡(luò)的考量也格外重要。
2024-06-22 00:31:592157

HDMI接口的ESD保護(hù)方案

如下圖1所示為HDMI接口與ESD保護(hù)芯片連接示意圖,其中HDMI CONNECTOR指的是HDMI接口,HDMI RECEVIER指的是各種器件所配置的HDMI連接端口,ESD保護(hù)芯片主要
2024-12-29 13:56:102044

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