本文研究了金屬蝕刻殘留物，尤其是鈦和鉭殘留物對等離子體成分和均勻性的影響。通過所謂的漂浮樣品的x射線光電子能譜分析來分析室壁，并且通過光發(fā)射光譜來監(jiān)測Cl2、HBr、O2和SF6等離子體中的Cl
2022-05-05 14:26:56
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我們?nèi)A林科納討論了一些重要的等離子體蝕刻和沉積問題（從有機(jī)硅化合物）的問題，特別注意表面條件，以及一些原位表面診斷的例子。由于等離子體介質(zhì)與精密的表面分析裝置不兼容，講了兩種原位表面調(diào)查的技術(shù)
2022-05-19 14:28:151666 
沉積。離子注入使用等離子體源制造晶圓摻雜所需的離子，并提供電子中和晶圓表面上的正電荷。物理氣相沉積(PVD)利用離子轟擊金屬靶表面，使金屬濺鍍沉積于晶圓表面。遙控等離子體系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于清潔機(jī)臺的反應(yīng)室、薄膜去除及薄膜沉積工藝中。
2022-11-15 09:57:312625 光捕獲技術(shù)是提高太陽能電池光吸收率的有效方法之一，它可以減少材料厚度，從而降低成本。近年來，表面等離子體（SP）在這一領(lǐng)域取得了長足的進(jìn)步。利用表面等離子體的光散射和耦合效應(yīng)，可以大大提高太陽能電池的效率。
2023-12-05 10:52:27497 
是在晶圓上制作電路及電子元件（如晶體管、電容、邏輯開關(guān)等），其處理程序通常與產(chǎn)品種類和所使用的技術(shù)有關(guān)，但一般基本步驟是先將晶圓適當(dāng)清洗，再在其表面進(jìn)行氧化及化學(xué)氣相沉積，然后進(jìn)行涂膜、曝光、顯影、蝕刻
2011-12-01 15:43:10
】：1引言電子元器件在生產(chǎn)過程中由于手印、焊劑、交叉污染、自然氧化等，其表面會形成各種沾污。這些沾污包括有機(jī)物、環(huán)氧樹脂、焊料、金屬鹽等，會明顯影響電子元器件在生產(chǎn)過程中的相關(guān)工藝質(zhì)量，例如繼電器的接觸電阻，從而降低了電子元器件的可靠性和成品合格率。等離子體是全文下載
2010-06-02 10:07:40
液晶顯示器(LCD)之后的最新顯示技術(shù)之一。這種顯示器能夠用作適應(yīng)數(shù)字化時代的各種多媒體顯示器，適用于制造大屏幕和薄型彩色電視機(jī)等，有著廣闊的應(yīng)用前景。等離子體顯示器具有體積小、重量輕、無X射線輻射
2011-01-06 16:09:23
空間。在兩塊玻璃基板的內(nèi)側(cè)面上涂有金屬氧化物導(dǎo)電薄膜作激勵電極。 當(dāng)向電極上加入電壓，放電空間內(nèi)的混合氣體便發(fā)生等離子體放電現(xiàn)象。色彩還原能力好，顯示色彩自然。由于等離子電視是通過紫外線激發(fā)熒光粉發(fā)光
2014-02-10 18:20:48
當(dāng)高頻發(fā)生器接通電源后，高頻電流I通過感應(yīng)線圈產(chǎn)生交變磁場(綠色)。開始時，管內(nèi)為Ar氣，不導(dǎo)電，需要用高壓電火花觸發(fā)，使氣體電離后，在高頻交流電場的作用下，帶電粒子高速運(yùn)動，碰撞，形成“雪崩”式放電，產(chǎn)生等離子體氣流。
2019-10-09 09:11:46
合有局限，不適用于聚四氟乙烯微波板的三防涂覆前處理。 基于以上原因，開展了應(yīng)用等離子體處理法替代鈉萘處理法進(jìn)行聚四氟乙烯表面活化處理的研究工作。
2019-05-28 06:50:14
潤濕性幫助油墨和涂料均勻地粘附在材料上，或者通過活化表面來增加粘合劑的強(qiáng)度。由于這些特性，低溫等離子體被用于半導(dǎo)體制造和各種其他工業(yè)設(shè)備中。此外，等離子體技術(shù)無需化學(xué)物質(zhì)即可清潔和消毒表面，安全性高，在
2022-05-18 15:16:16
等離子體顯示器又稱電漿顯示器，是繼CRT(陰極射線管）、LCD（液晶顯示器）后的最新一代顯示器，其特點(diǎn)是厚度極薄，分辨率佳?？梢援?dāng)家中的壁掛電視使用，占用極少的空間，代表了未來顯示器的發(fā)展趨勢（不過對于現(xiàn)在中國大多...
2021-04-20 06:33:47
表面波等離子體激勵源設(shè)計，不看肯定后悔
2021-04-22 07:01:33
性能(回復(fù)到不潤濕表面狀態(tài))，化學(xué)沉銅之孔金屬化處理需在經(jīng)等離子體處理后的48小時內(nèi)完成。麥|斯|艾|姆|P|CB樣板貼片,麥1斯1艾1姆1科1技全國1首家P|CB樣板打板 B．含填料聚四氟乙烯材料
2013-10-22 11:36:08
聚四氟乙烯材料的復(fù)原性能(回復(fù)到不潤濕表面狀態(tài))，化學(xué)沉銅之孔金屬化處理需在經(jīng)等離子體處理后的48小時內(nèi)完成。 B．含填料聚四氟乙烯材料的活化處理 對于含填料的聚四氟乙烯材料制造的印制電路板(如不
2018-11-22 16:00:18
活性的表面，從而提高阻焊膜層的附著力。 (5) 殘留物去除 等離子體技術(shù)在殘留物的去除方面，主要有著下述三方面的作用： (A) 在印制電路板制造，尤其在精細(xì)線條制作時，等離子體被用來蝕刻前去除干膜
2018-09-21 16:35:33
`電路板廠家生產(chǎn)高密度多層板要用到等離子體切割機(jī)蝕孔及等離子體清洗機(jī).大致的生產(chǎn)工藝流程圖為:PCB芯板處理→涂覆形成敷層劑→貼壓涂樹脂銅箔→圖形轉(zhuǎn)移成等離子體蝕刻窗口→等離子體切割蝕刻導(dǎo)通孔→化學(xué)
2017-12-18 17:58:30
的表面，短時間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料
2012-09-25 16:21:58
潤濕性幫助油墨和涂料均勻地粘附在材料上，或者通過活化表面來增加粘合劑的強(qiáng)度。由于這些特性，低溫等離子體被用于半導(dǎo)體制造和各種其他工業(yè)設(shè)備中。此外，等離子體技術(shù)無需化學(xué)物質(zhì)即可清潔和消毒表面，安全性高，在
2022-05-17 16:41:13
關(guān)于舉辦2020年會-COMSOL半導(dǎo)體器件+等離子體+RF光電+電化學(xué)燃燒電池專題”的通知COMSOL Multiphysics 燃料電池、電化學(xué)模塊1.電化學(xué)-熱耦合方法2. 傳質(zhì)-導(dǎo)電-電化學(xué)
2019-12-10 15:24:57
uPD16305的性能特點(diǎn)是什么？uPD16305在等離子體顯示器中有什么應(yīng)用？
2021-06-04 06:54:10
)、HF 等，已廣泛應(yīng)用于濕法清洗工藝，以去除硅片表面上的光刻膠、顆粒、輕質(zhì)有機(jī)物、金屬污染物和天然氧化物。然而，隨著硅電路和器件架構(gòu)的規(guī)模不斷縮?。ɡ鐝?VLSI 到 ULSI 技術(shù)），探索有效和可靠
2021-07-06 09:36:27
3.3 ICP 干蝕刻引入等離子體誘導(dǎo)損傷的證據(jù)3.4 概括 4. 結(jié)論 首次直接比較了 CMP 和干蝕刻 GaN 襯底表面處理方法，并通過實(shí)驗比較了 GaN 襯底表面處理的優(yōu)缺點(diǎn)，以了解這些技術(shù)
2021-07-07 10:26:01
大多數(shù) III 族氮化物的加工都是通過干式等離子體蝕刻完成的。 干式蝕刻有幾個缺點(diǎn)，包括產(chǎn)生離子誘導(dǎo)損傷 并且難以獲得激光所需的光滑蝕刻側(cè)壁。通過干法蝕刻產(chǎn)生的側(cè)壁的粗糙度約為 50 nm，盡管最近
2021-07-07 10:24:07
的電極創(chuàng)造了一個射頻電場。能量場將混合氣體激發(fā)或等離子體狀態(tài)。在激發(fā)狀態(tài)，氟刻蝕二氧化硅，并將其轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性成分由真空系統(tǒng)排出。干法刻蝕的優(yōu)點(diǎn)在于如下幾個方面：刻蝕率、輻射損傷、選擇性、微粒的產(chǎn)生、刻蝕后腐蝕和擁有成本優(yōu)勢。來源：網(wǎng)絡(luò)，如侵刪
2018-12-21 13:49:20
1. 低溫等離子體及廢氣處理原理低溫等離子體技術(shù)是一門涉及生物學(xué)、高能物理、放電物理、放電化學(xué)反應(yīng)工程學(xué)、高壓脈沖技術(shù)和環(huán)境科學(xué)的綜合性學(xué)科，是治理氣態(tài)污染物的關(guān)鍵技術(shù)之一，因其高效、低能耗、處理
2022-04-21 20:29:20
的芯片可以繼續(xù)涂膠、曝光。越復(fù)雜的芯片，線路圖的層數(shù)越多，也需要更精密的曝光控制過程。等離子刻蝕刻機(jī)等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等
2018-09-03 09:31:49
使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓去除晶圓表面的有機(jī)污染物等雜質(zhì)，但是同時在等離子產(chǎn)生過程中電極會出現(xiàn)金屬離子析出，如果金屬離子附著在晶圓表面也會對晶圓造成損傷，如果在使用等離子清洗技術(shù)清洗晶圓如何規(guī)避電極產(chǎn)生的金屬離子？
2021-06-08 16:45:05
1.引言微波測量方法是將電磁波作為探測束入射到等離子體中，對等離子體特性進(jìn)行探測，不會對等離子體造成污染。常規(guī)微波反射計也是通過測量電磁波在等離子體截止頻率時的反射信號相位來計算等離子密度。當(dāng)等離子
2019-06-10 07:36:44
【作者】：呂鵬;劉春芳;張潮海;趙永蓬;王騏;賈興;【來源】：《強(qiáng)激光與粒子束》2010年02期【摘要】：描述了Z箍縮放電等離子體極紫外光源系統(tǒng)中的主脈沖電源,給出了主電路拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),重點(diǎn)介紹了三級磁
2010-04-22 11:41:29
spec-troscopy,LIBS)是近年發(fā)展起來的一種基于激光與材料相互作用的物理學(xué)與光譜學(xué)交叉的物質(zhì)組分定量分析技術(shù)[1-3]。其原理是利用聚焦的強(qiáng)激光束入射樣品表面產(chǎn)生激光等離子體,等離子體輻射光譜含有被測物質(zhì)的組分和組分全文下載
2010-04-22 11:33:27
等離子體NOX 脫除技術(shù)作為一種脫硝新工藝，受到世界各國的廣泛關(guān)注。在敘述了等離子體脫硝的的兩種反應(yīng)機(jī)理、等離子體NOX 脫除的主要方法（電子束照射法、高壓脈沖電暈法
2009-02-13 00:35:58
12 采用分層介質(zhì)方法處理非均勻等離子體層，研究了電磁波射向覆蓋磁化等離子體層的金屬平板時電磁波的衰減特性。著重討論Epstein密度分布的等離子體層，分析了等離子體電子密
2009-03-14 15:07:3426 主要分析了各種廢水處理技術(shù)的優(yōu)缺點(diǎn)，提出了一種新型等離子體處理廢水的方案，說明了利用低溫等離子體是一種新型的具有廣闊應(yīng)用前景的廢水處理一體化技術(shù)。并對產(chǎn)生等離
2009-04-08 14:56:4035 介紹了一種利用光纖表面等離子體波傳感器進(jìn)行折射率測量的方法,并利用此方法對環(huán)氧樹脂復(fù)合材料進(jìn)行固化監(jiān)測。對不同折射率的溶液進(jìn)行了測試研究,并設(shè)計了一種用于折射率
2009-07-09 14:24:0421 本規(guī)范規(guī)定了數(shù)字電視等離子體顯示器（以下簡稱PDP 顯示器）功能和性能的技術(shù)要求，檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存等的基本要求。本規(guī)范適用于數(shù)字電視等離子體顯示器
2009-08-21 22:31:237 一種大氣微波環(huán)形波導(dǎo)等離子體設(shè)備:微波等離子體相對其它等離子體而言有很多的優(yōu)點(diǎn)，具有極高的工業(yè)應(yīng)用價值。但在大氣條件下，大體積的微波等離子體較難獲得
2009-10-29 13:59:3214 平面磁控陰極用于PEPC等離子體放電實(shí)驗研究:平面磁控陰極用于大面積等離子體放電具有大幅降低放電電壓和放電氣壓的優(yōu)點(diǎn)，是PEPC首選的放電途徑。通過對不同尺寸、
2009-10-29 14:07:5219 等離子體噴射X光時空分辨測量:在“神光”強(qiáng)激光裝置上對0.53 μm 激光產(chǎn)生的等離子體噴射進(jìn)行了X光時空分辯診斷。首次利用多針孔陣列成像技術(shù)結(jié)合軟X光掃描相機(jī)觀
2009-10-29 14:09:2416 斜輻照激光等離子體輻射X光子特性:在神光Ⅱ高功率激光裝置上，實(shí)驗研究了激光斜輻照形成的激光等離子體輻射X射線光子的特性及真空噴射熱等離子體流的方向。采用
2009-10-29 14:11:3915 陽極化膜用于等離子體電光開關(guān)放電腔絕緣模擬研究:殼體金屬化是等離子體電光開關(guān)實(shí)現(xiàn)陣列結(jié)構(gòu)的必須，放電腔的絕緣是殼體金屬化的技術(shù)關(guān)鍵和難點(diǎn)。分析了等離
2009-10-29 14:16:4215 本文研究了高頻區(qū)等離子體包覆目標(biāo)的RCS 可視化計算,將等離子體包覆目標(biāo)的RCS計算分兩部分完成，首先分析電磁波在等離子體中傳播的折射衰減及碰撞衰減，將衰減后電磁波利
2009-12-30 17:10:4010 因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source上海伯東代理美國 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22
以西門子S7-200PLC和TP170B觸摸屏為主要控制元件,實(shí)現(xiàn)自動等離子體清洗系統(tǒng)的綜合控制和管理。本文詳細(xì)的闡述了此系統(tǒng)的硬件組成和軟件設(shè)計。
2010-02-11 14:22:2233 行業(yè)簡介：微弧氧化(MAO)又稱微等離子體氧化(MPO)、陽極火花沉積(ASD)或火花放電陽極氧化(ANOF),還有人稱之為等離子體增強(qiáng)電化學(xué)表面陶瓷化(PECC)。該技術(shù)的基本原理及特點(diǎn)是：在普通
2023-07-11 14:27:42
人類生活對能源的需求核聚變及受控核聚變原理等離子體約束的基本問題等離子體約束的各種模式等離子體輸運(yùn)與能量約束定標(biāo)約束改善與邊緣局域?？刂瓶偨Y(jié)和
2010-05-30 08:26:5614 以西門子S7-200PLC和TP170B觸摸屏為主要控制元件,實(shí)現(xiàn)自動等離子體清洗系統(tǒng)的綜合控制和管理。本文詳細(xì)的闡述了此系統(tǒng)的硬件組成和軟件設(shè)計。
2010-07-13 16:08:5323 摘要：以玻碳電極為基礎(chǔ)電極，用微波等離子體技術(shù)聚合沉積聚乙二胺等離子體膜，使之形成帶氨基功能團(tuán)的表面。再通過戊二醛交聯(lián)共價固定辣根過氧化物酶，制得H：02生物傳
2010-12-30 21:35:4121 利用微波在介質(zhì)表面激發(fā)出截止密度以上的等離子體，然后微波在介質(zhì)與等離子體間形成表面波的傳輸，具有一定電場強(qiáng)度的表面波在其傳輸?shù)姆秶鷥?nèi)可生成和維持高密度的等離子
2010-07-29 11:00:011037 
等離子體又叫做電漿，是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì)，它廣泛存在于宇宙中，常被視為是除去固、液、氣外，物質(zhì)存
2010-07-29 11:02:383997 離子注八材料表面陡性技術(shù)， 是材料科學(xué)發(fā)展的一個重要方面。文中概述7等離子體源離子注八技術(shù)的特點(diǎn) 基皋原理 應(yīng)用效果。取覆等離子體源離子注八技術(shù)的發(fā)展趨勢。例如， 除7在
2011-05-22 12:35:2948 等離子體模塊是用于模擬低溫等離子源或系統(tǒng)的專業(yè)工具。借助模塊中預(yù)置的物理場接口，工程師或科學(xué)家可以探究物理放電機(jī)理或用于評估現(xiàn)有或未來設(shè)計的性能，例如直流放電、感應(yīng)耦合等離子體、容性耦合等離子體、微波等離子體、表面氣相沉積等。
2015-12-31 10:30:1557 Ag_TiO_2薄膜表面等離子體共振光譜特性研究_劉超
2017-03-19 18:58:180 等離子體天線因為等離子體獨(dú)特的物理性質(zhì)，在解決天線隱身和互耦方面有難以估量的發(fā)展?jié)摿?，是?dāng)今天線技術(shù)的一大進(jìn)步。世界上不少大公司都在研究和開發(fā)等離子體天線。在跟蹤和分析等離子體技術(shù)發(fā)展動態(tài)的基礎(chǔ)上
2018-06-01 10:31:004425 放電等離子體有著非常廣泛的實(shí)際工程應(yīng)用價值，其內(nèi)部溫度特性是表征等離子體性質(zhì)的一個重要參數(shù)。為了探明大氣壓下放電等離子體的氣體溫度空間分布特性參數(shù)，搭建了一套基于莫爾偏折原理的光學(xué)測試系統(tǒng)，對銅電極
2018-01-02 16:37:196 隨著高壓直流輸電迅猛發(fā)展，絕緣材料在直流電壓下表面電荷積聚現(xiàn)象嚴(yán)重威脅直流輸電系統(tǒng)的安全可靠運(yùn)行。為加快絕緣材料表面電荷的消散，采用大氣壓等離子體射流，以TEOS為前驅(qū)物，在環(huán)氧樹脂表面沉積Si0
2018-01-16 11:07:443 對氣體施加電壓使之產(chǎn)生輝光放電的技術(shù)，或者稱做等離子體技術(shù)，在醫(yī)療器械領(lǐng)域已經(jīng)成為了一種解決表面預(yù)處理問題的有力工具。
2018-02-15 20:35:008250 
低溫等離子體廢氣處理技術(shù)正越來越引起人們的重視，它是未來環(huán)保產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向。由于強(qiáng)溫室氣體SF6本身的理化特性，等離子體處理SF6面臨著更多的挑戰(zhàn)，目前該方面的研究綜述鮮見。本文嘗試根據(jù)國內(nèi)外
2018-03-16 10:20:234 的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。 目前等離子清洗應(yīng)用越來越廣泛，國內(nèi)外的使用者對等離子體清洗技術(shù)的要求也是越來越高。好的產(chǎn)品還需要專業(yè)的技術(shù)支持與維護(hù)!
2018-09-20 11:11:45458 人造等離子體。2.等離子清洗設(shè)備可應(yīng)用于哪些方面？粘結(jié)材料或者按照您的需求改變表面特性。通過這種先進(jìn)的技術(shù)，可以對各種表面作出修改。故此，其應(yīng)用范圍極為廣泛，例如小型和微型部件的精密清洗；在膠結(jié)、上漆之前
2018-10-11 15:57:301875 然而，自從我開始自己閱讀關(guān)于等離子體的在線資源以來，我身邊來自cryptoeconomics Lab的專業(yè)等離子體研究人員為我提供了一種非常接近的方式，讓完全的初學(xué)者可以從頭開始學(xué)習(xí)等離子體。他們給我提供了一大堆文章的參考資料，我們可以按照正確的順序閱讀。
2019-01-16 11:19:46673 摘要：等離子技術(shù)在印制電路板行業(yè)中主要作為處理鉆孔殘膠的一種重要手段。文章介紹了PCB等離子清洗設(shè)備的維護(hù)方法。在等離子清洗設(shè)備在使用中，會遇到除膠清洗達(dá)不到要求、設(shè)備本身故障率異常等問題。如何保證
2020-09-24 10:52:297010 
的影響，引線框架置于等離子氣體濃度高的位置清洗效果較好，引線拉力值 能獲得更低的方差和更優(yōu)的過程控制能力。 1前言 等離子清洗技術(shù)被廣泛應(yīng)用于電子、生物醫(yī)藥、珠寶制作、紡織等眾多行業(yè)，由于各個行業(yè)的特殊性，需要針對行業(yè)需
2020-12-30 10:26:391199 機(jī)的原理吧! 等離子清洗機(jī)是利用等離子體內(nèi)各種高能物質(zhì)的活化作用，將附著在物體表面的污垢完全剝離掉。以等離子體作用于材料表面，使其產(chǎn)生一系列物理化學(xué)變化，利用其中含有的活性微粒和高能射線，與表面有機(jī)污染物分子發(fā)生反應(yīng)，
2021-09-07 13:51:063388 等離子體位移快控電源設(shè)計(現(xiàn)代電源技術(shù)基礎(chǔ)下載)-等離子體位移快控電源設(shè)計等離子體位移快控電源設(shè)計
2021-09-29 17:45:395 等離子清洗是通過使用稱為等離子體的電離氣體從物體表面去除所有有機(jī)物質(zhì)的過程。這通常在使用氧氣和/或氬氣的真空室中進(jìn)行。清潔過程是一種環(huán)境安全的過程，因為不涉及刺激性化學(xué)品。等離子體通常會在被清潔的表面上留下自由基，以進(jìn)一步增加該表面的粘合性。
2021-12-22 14:35:074946 本文提供了用于蝕刻膜的方法和設(shè)備。一個方面涉及一種在襯底上蝕刻氮化硅的方法，該方法包括:(a)將氟化氣體引入等離子體發(fā)生器并點(diǎn)燃等離子體以a形成含氟蝕刻溶液；(b)從硅源向等離子體提供硅；以及
2022-04-24 14:58:51979 
等離子清洗不僅可以大大提高引線框架的粘接性能和粘接強(qiáng)度，而且可以避免人為因素長期接觸引線框架造成的二次污染。等離子清洗技術(shù)后，產(chǎn)品處理的結(jié)果通常通過水滴角或達(dá)因值來測量。下圖是某企業(yè)硅光敏三極管等離子清洗技術(shù)前后水滴角的對比。
2022-06-29 16:12:218964 反應(yīng)性離子蝕刻綜合了離子蝕刻和等離子蝕刻的效果：其具有一定的各向異性，而且未與自由基發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的材料會被蝕刻。首先，蝕刻速率顯著增加。通過離子轟擊，基材分子會進(jìn)入激發(fā)態(tài)，從而更加易于發(fā)生反應(yīng)。
2022-09-19 15:17:553386 在半導(dǎo)體行業(yè)，晶圓是用光刻技術(shù)制造和操作的。蝕刻是這一過程的主要部分，在這一過程中，材料可以被分層到一個非常具體的厚度。當(dāng)這些層在晶圓表面被蝕刻時，等離子體監(jiān)測被用來跟蹤晶圓層的蝕刻，并確定等離子體
2022-09-21 14:18:37694 
等離子清洗的反應(yīng)機(jī)理如圖 1 所示，通常包括 以下過程：反應(yīng)氣體被離解為等離子體；等離子體作 用于固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子與 殘余物脫離固體表面。由于等離子體中的電子、離 子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固 體表面發(fā)生反應(yīng)，這種反應(yīng)可分為物理的或化學(xué)的。
2023-02-10 13:50:39972 近年來，等離子體技術(shù)的使用范圍正在不斷擴(kuò)大。在半導(dǎo)體制造、殺菌消毒、醫(yī)療前線等諸多領(lǐng)域，利用等離子體特性的應(yīng)用不斷壯大。CeraPlas? 是TDK 開發(fā)的等離子體發(fā)生器，與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比，它可以在緊湊的封裝中產(chǎn)生低溫等離子體*1，并具有更低的功耗。它有望促進(jìn)各種設(shè)備的開發(fā)，使離子體技術(shù)更容易使用。
2023-02-27 17:54:38746 
氧等離子體和氫等離子體都可用于蝕刻石墨烯。兩種石墨烯氣體等離子刻蝕的基本原理是通過化學(xué)反應(yīng)沿石墨烯的晶面進(jìn)行刻蝕。不同的是，氧等離子體攻擊碳碳鍵后形成一氧化碳、二氧化碳等揮發(fā)性氣體，而氫等離子體則形成甲烷氣體并與之形成碳?xì)滏I。
2022-06-21 14:32:25391 
如何直觀地識別旋轉(zhuǎn)瓶等離子玻璃清洗器對泳鏡表面的處理效果？讓我們看看等離子清洗機(jī)前后鏡片外觀達(dá)因值的變化。測量未經(jīng)等離子清洗機(jī)處理過的鏡片的達(dá)因值?？梢钥吹竭_(dá)因值小于 36 達(dá)因，鏡面能量
2022-06-23 10:38:24325 
低溫等離子體清洗機(jī)可以提高含氟材料的親水性，改善含氟材料與太陽能封裝膜乙烯-醋酸乙烯共聚物(EVA)的結(jié)合功能，為太陽能電池提供穩(wěn)定有用的保護(hù)。
???????經(jīng)金徠?低溫等離子清洗機(jī)處理
2022-06-28 14:57:00368 
等離子體清洗技術(shù)自問世以來，隨著電子等行業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用范圍逐漸擴(kuò)大，用于活化蝕刻和等離子體清洗，以提高膠粘劑的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18433 
腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級。
2022-07-08 10:17:512036 
根據(jù)金徠的研究，火焰等離子設(shè)備的表面改性技術(shù)是一種非常先進(jìn)的清洗技術(shù)，簡而言之就是等離子中各種活性粒子相互碰撞而使等離子與材料表面相互作用的過程。材料面層進(jìn)一步提高了材料面層的性能。
2022-07-13 11:04:32759 
等離子體表面處理具有時間敏感性，增加的表面能需要針對客戶特定的產(chǎn)品和工藝進(jìn)行測試。遺憾的是，我們無法改善plasma清洗后的確切有效期。因為等離子體清洗是一個物理化學(xué)變化的過程，產(chǎn)品不同，工藝不同，產(chǎn)品暴露在空氣中，材料表面的活性分子容易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化，所以金徠不能給出時效的標(biāo)準(zhǔn)答案。
2022-08-03 10:37:171501 
大家都知道，目前等離子表面處理工藝應(yīng)用于LCD、LED、IC、PCB、SMT、BGA、引線框、平板顯示器的清洗和蝕刻等領(lǐng)域。等離子表面清洗IC可以顯著提高導(dǎo)線耦合強(qiáng)度，降低電路故障的可能性。溢出
2022-09-27 10:05:05892 
鋁金屬材料的等離子體表面處理可以消除原材料表面的微觀污染物、氧化物等成分。等離子清洗機(jī)因其工作效率高、操作方便等優(yōu)點(diǎn)，在該領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用。
2022-09-29 14:34:39582 
使用等離子清洗機(jī)清洗液晶玻璃，可以去除雜質(zhì)顆粒，提高材料表面能，產(chǎn)品良率提高一個數(shù)量級。同時，由于射流低溫等離子體是電中性的，在處理過程中保護(hù)膜、ITO膜和偏振濾光片都不會受到損傷。
2022-10-19 11:37:55453 
等離子清洗機(jī)的出現(xiàn)解決了傳統(tǒng)電纜電線噴碼的問題。?
低溫等離子體主要用于轟擊材料表面。材料表面分子的化學(xué)鍵打開，與等離子體中的自由基結(jié)合，在材料表面形成極性基團(tuán)。簡單來說，金徠等離子清洗機(jī)可以有效提高材料表面的附著力。電線電纜經(jīng)過等離子清洗機(jī)處理后，噴涂印刷時油漆不會脫落。
2022-10-24 09:34:57421 
金徠常壓等離子體技術(shù)與其他表面處理方法相比有哪些主要優(yōu)點(diǎn)?
與其他表面活化方法相比，最主要優(yōu)點(diǎn)是具有高效率。 等離子體系統(tǒng)能夠非常容易地集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線里，它環(huán)保，節(jié)約空間，還具有低運(yùn)行成本的優(yōu)勢。
2022-10-26 09:48:12335 
都使用Cl基蝕刻化學(xué)物質(zhì)。當(dāng)在等離子體放電中分解時，CCl為還原物質(zhì)提供了來源，并用于去除表面氧化物和Cl，與下面的Al反應(yīng)。
2023-06-27 13:24:11318 
使用德國析塔FluoScan 3D自動表面污染物檢測儀檢測不銹鋼等離子清洗后表面的油污清洗，對不銹鋼等離子清洗效果進(jìn)行評估。翁開爾是德國析塔中國獨(dú)家代理。
2022-06-27 11:48:08363 
等離子體工藝是干法清洗應(yīng)用中的重要部分，隨著微電子技術(shù)的發(fā)展，等離子體清洗的優(yōu)勢越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點(diǎn)和應(yīng)用，討論了它的清洗原理和優(yōu)化設(shè)計方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關(guān)鍵技術(shù)及解決方法。
2023-10-18 17:42:36447 
技術(shù)開發(fā)了一種基于局部表面等離子體成像的新成像技術(shù)，可以檢測直徑小于25納米的粒子。 研究人員將該技術(shù)稱為PANORAMA(超近場調(diào)制等離子體納米孔徑無標(biāo)記成像)。與其他基于等離子體的成像技術(shù)相比，PANORAMA利用局域化等離子體效應(yīng)
2023-11-27 06:35:23121 基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應(yīng)用于高頻放大器和高壓功率開關(guān)中。就器件制造而言，GaN的相關(guān)材料，如AlGaN，憑借其物理和化學(xué)穩(wěn)定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
01、重點(diǎn)和難點(diǎn) 等離子體通常被認(rèn)為是物質(zhì)的第四態(tài)，除了固體、液體和氣體之外的狀態(tài)。等離子體是一種高能量狀態(tài)的物質(zhì)，其中原子或分子中的電子被從它們的原子核中解離，并且在整個系統(tǒng)中自由移動。這種狀態(tài)
2023-12-26 08:26:29209 
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