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伯東企業(yè)（上海）有限公司

上海伯東是德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品,美國 KRI 離子源,美國HVA 真空閥門,美國 inTEST熱流儀代理商

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美國 KRi 射頻離子源 RFICP

型號： RFICP

--- 產(chǎn)品參數(shù) ---

  • 產(chǎn)地 美國
  • 類型 射頻離子源
  • 品牌 KRi

--- 產(chǎn)品詳情 ---

因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準

KRi 射頻離子源 RFICP 系列
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻源 RFICP  系列提供完整的系列, 包含離子源本體, 電子供應器, 中和器, 自動控制器等. 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等.
 

射頻離子源


射頻離子源 RFICP 系列技術參數(shù):

上海伯東美國 KRi 射頻離子源


射頻離子源 RFICP 系列應用:
離子輔助鍍膜 IBAD ( Ion beam assisted deposition in thermal & e-beam evaporation )
離子清洗 PC (In-situ preclean in sputtering & evaporation )
表面改性, 激活 SM (Surface modification and activation )
離子蝕刻 IBE (Ion beam etching of surface features in any material)
離子濺鍍 IBSD (Ion beam sputter deposition of single and multilayer structures)
 

離子濺射鍍膜


上海伯東美國考夫曼 KRi 大口徑射頻離子源 RFICP 220, RFICP 380 成功應用于 12英寸和 8英寸離子束刻蝕機, 作為蝕刻機的核心部件, KRI  射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求!

KRI 射頻離子源典型應用 IBE 離子蝕刻


1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解 KRi 射頻離子源, 請聯(lián)絡上海伯東葉女士,分機107

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