資料介紹
針對(duì)現(xiàn)有電解式測(cè)厚儀測(cè)量的鍍種有限、測(cè)量數(shù)據(jù)難以存儲(chǔ)、處理等迫切需要解決的問(wèn)題,介紹了一種基于PC 機(jī)的數(shù)控電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀的軟、硬件設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn),很好地克服了現(xiàn)有的模擬電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀的不足。設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單、成本低,測(cè)量準(zhǔn)確,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)處理能力強(qiáng),經(jīng)實(shí)際應(yīng)用證明具有較好的實(shí)際應(yīng)用效果。
關(guān)鍵詞: 電解式測(cè)厚儀 測(cè)厚采集卡 數(shù)控恒流源 電位采樣
當(dāng)前各種工業(yè)產(chǎn)品廣泛采用表面處理工藝對(duì)材料進(jìn)行保護(hù),表面處理覆層的質(zhì)量受很多因素的影響,其中覆層厚度是一項(xiàng)十分重要的指標(biāo)。如何測(cè)量覆層厚度是在實(shí)際應(yīng)用中必須解決好的問(wèn)題。覆層厚度的測(cè)量根據(jù)實(shí)際情況的不同有多種測(cè)量方法,例如,磁法、渦流法、射線法、光學(xué)法等。常用的測(cè)量金屬覆層厚度的方法是陽(yáng)極溶解庫(kù)侖法,又稱(chēng)電解法。它主要是利用電解方法對(duì)被測(cè)量覆層進(jìn)行陽(yáng)極溶解,根據(jù)所消耗的電量計(jì)算覆層厚度。該方法測(cè)量速度快、測(cè)量范圍較寬、測(cè)得的結(jié)果可靠,雖然對(duì)被測(cè)覆層有損壞,屬于有損檢測(cè),但其應(yīng)用仍非常普遍。
目前常見(jiàn)的電解式測(cè)厚儀主要由恒流源、脈沖發(fā)生器、計(jì)時(shí)電路、比較器、電子開(kāi)關(guān)等模擬電路組成。只能對(duì)預(yù)先設(shè)計(jì)好的有限種鍍層(通常為10 種左右)進(jìn)行測(cè)量。隨著用戶需求的提高,這類(lèi)系統(tǒng)暴露出不少弱點(diǎn),主要有:
① 測(cè)量數(shù)據(jù)精度過(guò)多依賴(lài)于系統(tǒng)調(diào)校水平,調(diào)校復(fù)雜;
② 不能適應(yīng)新鍍層的測(cè)量要求;
③ 不能實(shí)時(shí)繪制電位曲線,除非另外配合電位繪圖裝置;
④ 不能保存以往的測(cè)量原始數(shù)據(jù);
⑤ 不能自動(dòng)打印輸出詳細(xì)的測(cè)試報(bào)告(個(gè)別系統(tǒng)加裝微型打印機(jī)可以打印輸出簡(jiǎn)單報(bào)告)。
本文設(shè)計(jì)了一種數(shù)控電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀,采用自研的測(cè)厚采集板與 PC 機(jī)配合的方式進(jìn)行鍍層厚度測(cè)量,很好地克服了現(xiàn)有的模擬電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀的不足。
關(guān)鍵詞: 電解式測(cè)厚儀 測(cè)厚采集卡 數(shù)控恒流源 電位采樣
當(dāng)前各種工業(yè)產(chǎn)品廣泛采用表面處理工藝對(duì)材料進(jìn)行保護(hù),表面處理覆層的質(zhì)量受很多因素的影響,其中覆層厚度是一項(xiàng)十分重要的指標(biāo)。如何測(cè)量覆層厚度是在實(shí)際應(yīng)用中必須解決好的問(wèn)題。覆層厚度的測(cè)量根據(jù)實(shí)際情況的不同有多種測(cè)量方法,例如,磁法、渦流法、射線法、光學(xué)法等。常用的測(cè)量金屬覆層厚度的方法是陽(yáng)極溶解庫(kù)侖法,又稱(chēng)電解法。它主要是利用電解方法對(duì)被測(cè)量覆層進(jìn)行陽(yáng)極溶解,根據(jù)所消耗的電量計(jì)算覆層厚度。該方法測(cè)量速度快、測(cè)量范圍較寬、測(cè)得的結(jié)果可靠,雖然對(duì)被測(cè)覆層有損壞,屬于有損檢測(cè),但其應(yīng)用仍非常普遍。
目前常見(jiàn)的電解式測(cè)厚儀主要由恒流源、脈沖發(fā)生器、計(jì)時(shí)電路、比較器、電子開(kāi)關(guān)等模擬電路組成。只能對(duì)預(yù)先設(shè)計(jì)好的有限種鍍層(通常為10 種左右)進(jìn)行測(cè)量。隨著用戶需求的提高,這類(lèi)系統(tǒng)暴露出不少弱點(diǎn),主要有:
① 測(cè)量數(shù)據(jù)精度過(guò)多依賴(lài)于系統(tǒng)調(diào)校水平,調(diào)校復(fù)雜;
② 不能適應(yīng)新鍍層的測(cè)量要求;
③ 不能實(shí)時(shí)繪制電位曲線,除非另外配合電位繪圖裝置;
④ 不能保存以往的測(cè)量原始數(shù)據(jù);
⑤ 不能自動(dòng)打印輸出詳細(xì)的測(cè)試報(bào)告(個(gè)別系統(tǒng)加裝微型打印機(jī)可以打印輸出簡(jiǎn)單報(bào)告)。
本文設(shè)計(jì)了一種數(shù)控電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀,采用自研的測(cè)厚采集板與 PC 機(jī)配合的方式進(jìn)行鍍層厚度測(cè)量,很好地克服了現(xiàn)有的模擬電解式化學(xué)鍍測(cè)厚儀的不足。
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