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光刻技術

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隨著半導體技術的發(fā)展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數(shù)量級（從毫米級到亞微米級），已從常規(guī)光學技術發(fā)展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數(shù)量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。

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光刻技術技術

ASML光刻小講堂電子束量測中的透視眼電壓襯度檢測

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Mulith將激進光學技術擴展到原位計量

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關于光刻技術的五大分類

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2023-10-08 標簽：集成電路半導體器件光刻技術 2157 0

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2023-12-18 標簽：集成電路摩爾定律光刻機 2086 0

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2022-11-25 標簽：晶體管光刻技術 EUV 1893 0

光刻工藝的基本知識

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一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

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2024-11-11 標簽：集成電路光刻技術光刻膠 1705 0

硅基光刻技術在柔性電子器件制造中的應用

近日，湖南大學段輝高教授團隊通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉印”技術的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高...

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***和半導體有什么關系

IRDS路線圖光刻委員會主席、廈門大學嘉庚創(chuàng)新實驗室產業(yè)運營平臺科技總監(jiān)，廈門大學半導體科學與技術學院客座教授Mark Neisser對光刻技術與半導體...

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光刻工藝中分辨率增強技術詳解

分辨率增強及技術(Resolution Enhancement Technique, RET)實際上就是根據(jù)已有的掩膜版設計圖形，通過模擬計算確定最佳光...

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光刻機精密碳化硅陶瓷部件揭秘

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