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標簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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詳解光刻膠技術(shù)并闡述光刻膠產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀和國內(nèi)發(fā)展趨勢
光刻膠是電子領(lǐng)域微細圖形加工關(guān)鍵材料之一,是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下...
光刻膠的組成:樹脂(resin/polymer),光刻膠中不同材料的粘合劑,給與光刻膠的機械與化學性質(zhì)(如粘附性、膠膜厚度、熱穩(wěn)定性等);感光劑,感光劑...
到2002年底浸入式技術(shù)迅速成為光刻技術(shù)中的新寵,而此前業(yè)界并沒有認為浸入式技術(shù)有如此大的功效。
光刻機的制造是一項復雜而精密的工藝,需要高度專業(yè)化的技術(shù)和設(shè)備。它涉及到許多關(guān)鍵的工藝步驟和組件,如光學系統(tǒng)、曝光光源、掩模制作等。
2023-07-04 標簽:集成電路光學系統(tǒng)光刻機 1.4萬 0
一文看懂:光刻膠的創(chuàng)新應用與國產(chǎn)替代機會
引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”,被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作,是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的...
國內(nèi)光刻膠領(lǐng)頭企業(yè):北京科華微電子材料有限公司獲得1.7億元投資
近日,沃衍資本攜手江蘇盛世投資、紫荊資本、深圳市投控通產(chǎn)新材料創(chuàng)業(yè)投資企業(yè)、四川潤資、北京高盟新材料等投資機構(gòu)完成了對國內(nèi)光刻膠領(lǐng)頭企業(yè)—北京科華微電子...
國產(chǎn)高端光刻膠新進展,KrF、ArF進一步突破!
近日,上海新陽發(fā)布公告稱,公司自主研發(fā)的KrF(248nm)厚膜光刻膠產(chǎn)品已經(jīng)通過客戶認證,并成功取得第一筆訂單,取得不錯進展。 ? 光刻膠用于半導體光...
2021-07-03 標簽:光刻膠 2.6萬 0
半導體作為信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的核心,是支撐我國社會經(jīng)濟發(fā)展和保障國家安全的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性和先導性產(chǎn)業(yè)。
我國光刻膠工藝技術(shù)突破,國內(nèi)企業(yè)受制于人
在北京化工大學理學院院長聶俊眼里,我國雖然已成為世界半導體生產(chǎn)大國,但面板產(chǎn)業(yè)整體產(chǎn)業(yè)鏈仍較為落后。目前,上游高端電子化學品(LCD用光刻膠)幾乎全部依...
2018-06-25 標簽:光刻膠 2.3萬 0
光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一,是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成,是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化...
從晶圓到芯片,有哪些工藝流程?晶圓制造工藝流程步驟如下: 1.表面清洗 2.初次氧化 3.CVD 4.涂敷光刻膠 5.用干法氧化法將氮化硅去除 6.去除...
光刻膠是芯片制造的關(guān)鍵材料,圣泉集團實現(xiàn)了
這是一種老式的旋轉(zhuǎn)涂膠機,將芯片上涂上光刻膠然后將芯片放到上邊,可以通過機器的旋轉(zhuǎn)的力度將光刻膠均勻分布到芯片表面,光刻膠只有均勻涂抹在芯片表面,才能保...
2018-05-17 標簽:互聯(lián)網(wǎng)芯片制造光刻膠 2.0萬 0
來源:浙商證券研究院 光刻膠又稱光致抗蝕劑,是一種對光敏感的混合液體。其組成部分包括:光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體、溶劑和其他...
芯片流片是什么意思 芯片流片流程介紹 芯片流片是芯片制造中的一個重要環(huán)節(jié)。它是指把原來設(shè)計好的芯片電路圖轉(zhuǎn)化為實際的芯片模型。在這個過程中,設(shè)計好的芯片...
光刻膠是光刻機研發(fā)的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網(wǎng)硅片上涂一層光刻膠。
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