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標簽 > 半導(dǎo)體工藝
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IMEC上周宣布了一項新的技術(shù),制造了全球最小的SRAM芯片
地球上除了IBM、英特爾、臺積電、三星具有強大的半導(dǎo)體工藝研發(fā)技術(shù)實力之外,比利時微電子中心IMEC也是全球知名的半導(dǎo)體研發(fā)中心,國內(nèi)的14nm Fin...
2018-05-29 標簽:imecfinfet半導(dǎo)體工藝 2.7k 0
北方華創(chuàng)12英寸CCP晶邊干法刻蝕設(shè)備已在客戶端實現(xiàn)量產(chǎn)
9月17日,北方華創(chuàng)在投資者互動平臺表示,公司前期已經(jīng)發(fā)布了首臺國產(chǎn)12英寸CCP晶邊干法刻蝕設(shè)備研發(fā)成功有關(guān)信息,目前已在客戶端實現(xiàn)量產(chǎn),其優(yōu)秀的工藝...
工業(yè)泵在半導(dǎo)體濕法腐蝕清洗設(shè)備中的應(yīng)用
【摘要】 在半導(dǎo)體濕法工藝中,后道清洗因使用有機藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進行對比研究,論述不同藥液與機臺...
2023-04-20 標簽:半導(dǎo)體工藝 2.3k 0
老兵回歸擔任CEO 讓Intel半導(dǎo)體工藝再次偉大
今天Intel公司發(fā)布了2020年Q4及全年財報,參會的高管中除了現(xiàn)任CEO、CFO等人之外,2月份接任CEO的帕特·基辛格也參加了會議,這種安排也非比...
2021-01-23 標簽:CEOintel半導(dǎo)體工藝 2.3k 0
很顯然,這一波兒的競爭Intel是要落后AMD的,而后者起來的其中一個原因是臺積電先進的工藝制程,而Intel正在醞釀新的調(diào)整,并以此追上。 據(jù)外媒最新...
據(jù)最新消息,中國科學(xué)院微電子研究所集成電路先導(dǎo)工藝研發(fā)中心,在22納米關(guān)鍵工藝技術(shù)先導(dǎo)研究與平臺建設(shè)上,實現(xiàn)了重要突破。
2013-07-12 標簽:LED封裝半導(dǎo)體工藝電子快訊 2.2k 0
根據(jù)測試和用戶的數(shù)據(jù)顯示,即使考慮到誤差,iPhone 6s和6s Plus上采用的兩種芯片續(xù)航差異只在2-3%之間。
2015-10-09 標簽:半導(dǎo)體芯片半導(dǎo)體工藝A9芯片 2.2k 0
針對該情況,工程師們想出了一些熱管理策略:例如通過增加PCB導(dǎo)熱系數(shù)(高TC)來提升散熱能力;側(cè)重于讓材料和器件能夠經(jīng)受更高操作溫度(高TD裂解溫度)的...
2017-01-03 標簽:PCB半導(dǎo)體工藝散熱板 2.2k 0
新技術(shù)再突破!英特爾四核芯片離10nm工藝還有多遠?
電子發(fā)燒友網(wǎng)訊【編譯/David】:據(jù)信,英特爾已經(jīng)通過最新技術(shù)——浸潤式微影技術(shù),半導(dǎo)體工藝再次獲得突破。
微影技術(shù)日益精進 半導(dǎo)體工藝持續(xù)成長
半導(dǎo)體工業(yè)在光學(xué)微影技術(shù)的幫助下,長期形成持續(xù)且快速的成長態(tài)勢,但光學(xué)微影在面對更精密的制程已開始出現(xiàn)應(yīng)用瓶頸,尤其在小于0.1微米或更精密的制程,必須...
2014-09-04 標簽:半導(dǎo)體工藝微影技術(shù) 2.2k 0
PCB的表面處理工藝方面的變化并不是很大,好像還是比較遙遠的事情,但是應(yīng)該注意到:長期的緩慢變化將會導(dǎo)致巨大的變化。在環(huán)保呼聲愈來愈高的情況下,PCB的...
2016-12-15 標簽:PCB自動布線半導(dǎo)體工藝 2k 0
臺灣地區(qū)試圖以同樣的方法,希望在8英寸過渡到12英寸晶圓廠的世代交替時,以擁有全球最多的12英寸晶圓廠來取勝。結(jié)果臺灣并未成功,三星及SK海力士仍雄居全...
2017-01-16 標簽:DRAM存儲器半導(dǎo)體工藝 1.9k 0
近日,全球知名微電子研究中心IMEC發(fā)布了一篇關(guān)于未來半導(dǎo)體工藝發(fā)展的報告,并且在比利時的FUTURE SUMMITS 2022大會上放出了半導(dǎo)體工藝發(fā)...
2022-05-23 標簽:IMEC半導(dǎo)體工藝 1.8k 0
SK海力士系統(tǒng)IC主要專注于晶圓代工業(yè)務(wù),服務(wù)對象為沒有晶圓廠的IC設(shè)計商。據(jù)SK海力士表示,分拆晶圓代工業(yè)務(wù)主要目的是想強化這方面的競爭力。
2017-07-12 標簽:海力士晶圓代工半導(dǎo)體工藝 1.8k 4
北方華創(chuàng)公開“刻蝕方法和半導(dǎo)體工藝設(shè)備”相關(guān)專利
該專利詳細闡述了一種針對含硅有機介電層的高效刻蝕方法及相應(yīng)的半導(dǎo)體工藝設(shè)備。它主要涉及到通過交替運用至少兩個刻蝕步驟來刻蝕含硅有機介電層。這兩個步驟分別...
2023-12-06 標簽:邏輯器件半導(dǎo)體工藝刻蝕 1.7k 0
工藝性能大提升 可實現(xiàn)最大6GB內(nèi)存封裝
三星電子公司今天宣布批量生產(chǎn)基于其高級20納米工藝技術(shù)的業(yè)界首款12Gb LPDDR4(低功耗雙數(shù)據(jù)速率4)移動DRAM。
2015-09-11 標簽:DRAM半導(dǎo)體工藝LPDDR4 1.7k 0
現(xiàn)代芯片設(shè)計流程,可以劃分為,spec定義,架構(gòu)定義,功能設(shè)計(RTL),邏輯設(shè)計(logic design), 電路設(shè)計(circuit design...
采用全新工藝方法,超越微細化界限的世界最小※元器件“RASMID?系列”
近年來,伴隨著各種設(shè)備的高性能化發(fā)展,對元器件小型化的需求日益高漲。在這種背景下,ROHM很早就開始利用獨創(chuàng)的微細化技術(shù),不斷推進元器件小型化的技術(shù)創(chuàng)新...
2013-11-07 標簽:二極管ROHM半導(dǎo)體工藝 1.6k 0
其中Exynos 8895M為高配版,CPU核心架構(gòu)為貓鼬M2+A53,其中貓鼬M2最高主頻為2.5GHz,而A53主頻為1.7GHz,GPU為20核的...
2016-12-29 標簽:FinFET半導(dǎo)體工藝Exynos8895 1.5k 0
高昂的研發(fā)費用和生產(chǎn)成本,與芯片的性能提升無法持續(xù)等比例延續(xù)。為解決這一問題,“后摩爾時代”下的芯片異構(gòu)集成技術(shù)——Chiplet應(yīng)運而生,或?qū)牧硪粋€...
2023-09-20 標簽:云計算半導(dǎo)體工藝chiplet 1.5k 0
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