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標(biāo)簽 > 半導(dǎo)體

半導(dǎo)體

半導(dǎo)體

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半導(dǎo)體( semiconductor),指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體(conductor)與絕緣體(insulator)之間的材料。半導(dǎo)體在收音機(jī)、電視機(jī)以及測溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制,范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無論從科技或是經(jīng)濟(jì)發(fā)展的角度來看,半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。

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半導(dǎo)體技術(shù)

PFA表面上的IPA冷凝和電荷去除研究

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由于圖案密度和晶圓直徑的增加,對于非常精細(xì)的圖案ULSI器件高度堅(jiān)固的表面進(jìn)行完整的清洗、清洗和干燥是極其困難的。IPA蒸汽干燥是半導(dǎo)體制造中廣泛應(yīng)用的...

2022-04-29 標(biāo)簽:半導(dǎo)體靜電干燥系統(tǒng) 1347 0

半導(dǎo)體工藝 臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒

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摘要 本研究開發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過商業(yè)脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過200...

2022-04-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片 2157 0

半導(dǎo)體工藝中化學(xué)機(jī)械拋光后刷洗的理論分析

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摘要 化學(xué)機(jī)械平面化后的葉片清洗,特別是刷子擦洗,是半導(dǎo)體器件制造的一個(gè)關(guān)鍵步驟,尚未得到充分了解。臨界粒子雷諾數(shù)方法用于評估在刷擦洗過程中去除晶圓表面...

2022-04-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片 1771 0

半導(dǎo)體晶片鍵合的對準(zhǔn)方法

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多年來,半導(dǎo)體晶片鍵合一直是人們感興趣的課題。使用中間有機(jī)或無機(jī)粘合材料的晶片鍵合與傳統(tǒng)的晶片鍵合技術(shù)相比具有許多優(yōu)點(diǎn),例如相對較低的鍵合溫度、沒有電壓...

2022-04-26 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片鍵合 4243 0

一文看懂:光刻膠的創(chuàng)新應(yīng)用與國產(chǎn)替代機(jī)會(huì)

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引言 ? 光刻膠又稱“光致抗蝕劑”或“光阻劑”,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是微納制造技術(shù)的關(guān)鍵性材料。 光刻膠是光刻工藝最重要的...

2022-04-25 標(biāo)簽:電子元器件半導(dǎo)體光刻膠 1.1萬 0

兩款工業(yè)機(jī)器人開發(fā)方案平臺加速從設(shè)計(jì)到對接上線進(jìn)程

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后疫情時(shí)代,各個(gè)行業(yè)都面對復(fù)工復(fù)產(chǎn)的迫切需求。如何應(yīng)對用工荒,如何把生產(chǎn)效率提高上來,生產(chǎn)制造自動(dòng)化、智能化無疑將提上日程。再加之今年我國將大概率進(jìn)入人...

2022-04-21 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工業(yè)機(jī)器人工業(yè)制造 7077 0

多化學(xué)品供應(yīng)系統(tǒng)在濕法站的應(yīng)用

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半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?;蛉毕?。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、...

2022-04-21 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝 986 0

半導(dǎo)體制造CMP工藝后的清洗技術(shù)

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半導(dǎo)體的制造以硅晶圓為起點(diǎn),經(jīng)過形成前工序的晶體管的FEOL,插頭形成的MOL,以及連接晶體管作為電子電路發(fā)揮作用的布線工序的BEOL,形成器件芯片,在...

2022-04-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體工藝CMP 3061 0

半導(dǎo)體器件制造過程中的清洗技術(shù)

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2022-04-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體清洗技術(shù) 4069 1

利用臭氧微泡清洗半導(dǎo)體晶片

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小氣泡顯示出與普通氣泡不同的行為。普通氣泡在水中急速浮起,在表面破裂消失。但是,如果成為直徑小于50μm的氣泡,則會(huì)慢慢浮起并縮小,最終在水中消失。在水...

2022-04-20 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶片清洗 1043 0

300毫米直徑硅片的快速熱處理實(shí)驗(yàn)研究

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在半導(dǎo)體熱處理應(yīng)用中,批處理在工業(yè)的早期階段被采用,并且仍然非常流行。我們研究了直徑為200毫米和300毫米的硅(100)晶片在單晶片爐中高溫快速熱處理...

2022-04-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體熱處理硅晶片 1478 0

通過臭氧微氣泡進(jìn)行半導(dǎo)體晶圓的光刻膠去除實(shí)驗(yàn)

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半導(dǎo)體的清洗在制造工序中也是非常重要的。特別是光刻膠的去除是最困難的,一般使用硫酸和過氧化氫混合的溶液(SPM)等。但是,這些廢液的處理是極其困難的,與...

2022-04-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓光刻膠 1453 0

制備用于清潔半導(dǎo)體的新型H2O2水實(shí)驗(yàn)研究

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半導(dǎo)體晶片和器件清洗工序中使用的清洗藥液和超純水的純度要求隨著半導(dǎo)體的微細(xì)化而變得嚴(yán)格,金屬雜質(zhì)的含有濃度達(dá)到了ppt水平。在使用該藥液的半導(dǎo)體清洗工序...

2022-04-19 標(biāo)簽:半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)晶片 968 0

臭氧輔助硅蝕刻技術(shù)的研究

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本文章提出了一種新的半導(dǎo)體超鹵素深度分析方法,在通過臭氧氧化去除一些硅原子層,然后用氫氟酸蝕刻氧化物后,重復(fù)測量,然后確定了成分和表面電位的深度分布,因...

2022-04-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體臭氧蝕刻 519 0

半導(dǎo)體制造工序中CMP后的晶圓清洗工序

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CMP裝置被應(yīng)用于納米級晶圓表面平坦化的拋光工藝。拋光顆粒以各種狀態(tài)粘附到拋光后的晶片表面。必須確實(shí)去除可能成為產(chǎn)品缺陷原因的晶圓表面附著物,CMP后的...

2022-04-18 標(biāo)簽:半導(dǎo)體晶圓CMP 4240 0

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在全球半導(dǎo)體產(chǎn)能緊缺的大背景下,樂鑫科技?(688018.SH) 作為芯片設(shè)計(jì)公司,在盡力爭取產(chǎn)能的同時(shí)不斷進(jìn)化產(chǎn)品設(shè)計(jì),讓同等數(shù)量的晶圓能夠產(chǎn)出更多芯...

2022-04-15 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體樂鑫 8666 0

使用高頻超聲波的半導(dǎo)體單片清洗中的微粒子去除研究

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本文使用高頻超聲波的半導(dǎo)體單片清洗中的微粒子去除進(jìn)行了研究。水中的超聲波在波導(dǎo)管內(nèi)傳播時(shí),根據(jù)波導(dǎo)管的內(nèi)徑形成平面波以外的波導(dǎo)管模式,此時(shí),通過LDV測...

2022-04-14 標(biāo)簽:半導(dǎo)體超聲波清洗 982 0

半導(dǎo)體清洗液中溶解氫氣對晶圓清洗的影響

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在最近的半導(dǎo)體清潔方面,以生物堿為基礎(chǔ)的RCA清潔法包括大量的超純和化學(xué)液消耗量以及清潔時(shí)多余薄膜的損失; 由于環(huán)境問題,對新的新精液和清潔方法的研究正...

2022-04-14 標(biāo)簽:半導(dǎo)體蝕刻清洗 790 0

三極管基礎(chǔ)知識科普

三極管是最重要的電子元器件之一,成功制作世界上第一只半導(dǎo)體三極管的美國物理學(xué)家約翰·巴丁(John Bardeen)和他的同事布拉頓(Brattain)...

2022-04-14 標(biāo)簽:三極管電流半導(dǎo)體 1.7萬 0

一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法

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本發(fā)明涉及一種去除光刻膠的方法,更詳細(xì)地說,是一種半導(dǎo)體制造用光刻膠去除方法,該方法適合于在半導(dǎo)體裝置的制造過程中進(jìn)行吹掃以去除光刻膠。在半導(dǎo)體裝置的制...

2022-04-13 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造工藝光刻膠 1289 0

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    靜電防護(hù)
    +關(guān)注
    為防止靜電積累所引起的人身電擊、火災(zāi)和爆炸、電子器件失效和損壞,以及對生產(chǎn)的不良影響而采取的防范措施。其防范原則主要是抑制靜電的產(chǎn)生,加速靜電泄漏,進(jìn)行靜電中和等。
  • ESP8266
    ESP8266
    +關(guān)注
    wifi模塊ESP8266的默認(rèn)波特率是115200,但是單片機(jī)不能達(dá)到那么快的傳輸速率,只能使用4800bps,那么設(shè)置的時(shí)候,必不可少的要先用轉(zhuǎn)串口調(diào)試下載器。
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