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標(biāo)簽 > 掩模
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光刻圖形質(zhì)量的主要判據(jù)是圖形成像的對比度,移相掩模方法可使對比度得到改善,從而使得其分辨率比傳統(tǒng)方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分...
p-i-n光電探測器封裝中最具挑戰(zhàn)性的任務(wù)之一是將光纖耦合到探測器。由于探測器和光纖的尺寸都非常小,精確和準(zhǔn)確的對準(zhǔn)非常關(guān)鍵。如今,在大多數(shù)情況下,這是...
龍圖光罩90nm掩模版量產(chǎn),已啟動28nm制程掩模版的規(guī)劃
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/莫婷婷)近日,龍圖光罩宣布珠海項目順利投產(chǎn),公司第三代掩模版PSM產(chǎn)品取得顯著進展。KrF-PSM和ArF-PSM陸續(xù)送往部分客戶...
佳能推出納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備 或為中美競爭增添新戰(zhàn)線
據(jù)佳能介紹,傳統(tǒng)的光刻設(shè)備將電路圖案投射到涂有防腐劑的晶片上,而新產(chǎn)品就像郵票一樣,在晶片上印上印有電路圖案的掩模來實現(xiàn)這一目標(biāo)。由于電路圖案的傳遞過程...
5月12日,皖江經(jīng)濟帶核心城市合肥的邊界上,御微首臺掩?;迦毕輽z測產(chǎn)品Halo-100正式裝車,準(zhǔn)備運輸交付給國內(nèi)頂尖掩模工廠。
2024-05-15 標(biāo)簽:玻璃基板掩模軟件系統(tǒng) 1.7k 0
半影光學(xué)微納光學(xué)器件及半導(dǎo)體光掩模生產(chǎn)項目簽約江蘇南通
來源:海門開發(fā)區(qū) 據(jù)海門開發(fā)區(qū)官微報道,日前,半影光學(xué)(南京)有限公司與海門開發(fā)區(qū)簽訂投資協(xié)議,規(guī)劃建設(shè)微納光學(xué)器件及半導(dǎo)體光掩模生產(chǎn)項目,總投資5億元...
上交所:龍圖光罩將于12月15日科創(chuàng)板首發(fā)上會
龍圖光罩的主要經(jīng)營業(yè)務(wù)是半導(dǎo)體掩模版的研究、開發(fā)、生產(chǎn)和銷售,是國內(nèi)罕見的獨立的第三方半導(dǎo)體掩模版制造企業(yè)。公司是國內(nèi)半導(dǎo)體特性工程的發(fā)展路線繼續(xù)按照技...
武漢新芯集成電路專利“半導(dǎo)體器件及其制備方法”公布?
在此項專利中,申請人展示了一種新型半導(dǎo)體器件及其制作流程。其主要步驟包括先制備出含有第一鈍化層,第一金屬層和第二鈍化層的半導(dǎo)體基體;接著在第二鈍化層背對...
2024-02-23 標(biāo)簽:集成電路掩模半導(dǎo)體器件 1.1k 0
半導(dǎo)體濕法腐蝕工藝中,如何選擇合適的掩模圖形來控制腐蝕區(qū)域?
在半導(dǎo)體濕法腐蝕工藝中,選擇合適的掩模圖形以控制腐蝕區(qū)域是一個關(guān)鍵環(huán)節(jié)。以下是一些重要的考慮因素和方法: 明確設(shè)計目標(biāo)與精度要求 根據(jù)器件的功能需求確定...
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