完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>
標(biāo)簽 > 清洗工藝
文章:10個 瀏覽:6705次 帖子:2個
晶圓制備是材料科學(xué)、熱力學(xué)與精密控制的綜合體現(xiàn),每一環(huán)節(jié)均凝聚著工程技術(shù)的極致追求。而晶圓清洗本質(zhì)是半導(dǎo)體工業(yè)與污染物持續(xù)博弈的縮影,每一次工藝革新都在...
隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小,清潔過程變得越來越復(fù)雜。每次清洗不僅要對晶圓進(jìn)行清洗,所使用的機器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑...
SK海力士用更加環(huán)保的氟氣替代三氟化氮用于芯片清潔工藝
SK 海力士,作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商,近期在環(huán)保領(lǐng)域邁出了重要一步,宣布在其芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵清洗工藝中,將采用更為環(huán)保的氣體——氟氣(F2)來替代傳統(tǒng)...
水泥公司懸窯12臺拖輪瓦座冷卻水路出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象,如何解決?
一、問題背景某水泥公司懸窯12臺拖輪瓦座冷卻水路出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象。由于水處理設(shè)備運行不當(dāng),水質(zhì)控制不嚴(yán)形成沉淀物。這些沉淀物粘結(jié)在受熱較大的冷卻系統(tǒng)受熱面上...
SAPS兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝
本文介紹了我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體將空間交替相移(SAPS)兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝,SAPS技術(shù)通過在兆頻超聲波裝置和晶片之間的間隙中...
關(guān)于臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒的研究報告
摘要 本研究開發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過商業(yè)脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過200...
摘要:采用DOE(實驗設(shè)計)方法,通過比較鋁線拉力的數(shù)值、標(biāo)準(zhǔn)方差及PpK,得到最適合鋁 線鍵合工藝的等離子清洗功率、時間和氣流速度參數(shù)的組合。同時分析...
摘 要:光罩清洗的流程以及優(yōu)化,需要在實際生產(chǎn)運用中來完善,要保證在不影響清洗能力的情況下來優(yōu)化各個工藝參數(shù),在各種工藝清洗時的時間和MASKStage...
本發(fā)明的工藝一般涉及到半導(dǎo)體晶片的清洗。更確切地說,本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機殘留物、金屬雜質(zhì)和其它特定的沾污物的清洗處理步...
編輯推薦廠商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語言教程專題
電機控制 | DSP | 氮化鎵 | 功率放大器 | ChatGPT | 自動駕駛 | TI | 瑞薩電子 |
BLDC | PLC | 碳化硅 | 二極管 | OpenAI | 元宇宙 | 安森美 | ADI |
無刷電機 | FOC | IGBT | 逆變器 | 文心一言 | 5G | 英飛凌 | 羅姆 |
直流電機 | PID | MOSFET | 傳感器 | 人工智能 | 物聯(lián)網(wǎng) | NXP | 賽靈思 |
步進(jìn)電機 | SPWM | 充電樁 | IPM | 機器視覺 | 無人機 | 三菱電機 | ST |
伺服電機 | SVPWM | 光伏發(fā)電 | UPS | AR | 智能電網(wǎng) | 國民技術(shù) | Microchip |
Arduino | BeagleBone | 樹莓派 | STM32 | MSP430 | EFM32 | ARM mbed | EDA |
示波器 | LPC | imx8 | PSoC | Altium Designer | Allegro | Mentor | Pads |
OrCAD | Cadence | AutoCAD | 華秋DFM | Keil | MATLAB | MPLAB | Quartus |
C++ | Java | Python | JavaScript | node.js | RISC-V | verilog | Tensorflow |
Android | iOS | linux | RTOS | FreeRTOS | LiteOS | RT-THread | uCOS |
DuerOS | Brillo | Windows11 | HarmonyOS |