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標(biāo)簽 > 3d nand
3D NAND是英特爾和鎂光的合資企業(yè)所研發(fā)的一種新興的閃存類(lèi)型,通過(guò)把內(nèi)存顆粒堆疊在一起來(lái)解決2D或者平面NAND閃存帶來(lái)的限制。固態(tài)硬盤(pán)的數(shù)據(jù)傳輸速度雖然很快,但售價(jià)和容量還都是個(gè)問(wèn)題。這種寬度為2.5英寸的硬盤(pán)用來(lái)容納存儲(chǔ)芯片的空間較為有限,容量越高的芯片可以增加硬盤(pán)的總體存儲(chǔ)空間,但更高的成本也拉高了硬盤(pán)的售價(jià)。
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pSLC帶來(lái)的“新”存儲(chǔ)容量 偽SLC如何兼顧耐用性和經(jīng)濟(jì)性
( 作者:Swissbit AG 存儲(chǔ)解決方案總經(jīng)理 Roger Griesemer)如今,在 NAND 閃存行業(yè)中,隨處可見(jiàn)存儲(chǔ)密度又達(dá)到新高的各種新...
存儲(chǔ)芯片是什么 存儲(chǔ)芯片的分類(lèi)及發(fā)展歷史
存儲(chǔ)芯片是半導(dǎo)體行業(yè)中非常重要的一類(lèi)產(chǎn)品,我們?nèi)粘K械碾娮釉O(shè)備基本都會(huì)用到存儲(chǔ)器。據(jù)WSTS預(yù)測(cè),2023年全球存儲(chǔ)芯片市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到1675億美元,...
64層第二代3D NAND存儲(chǔ)產(chǎn)品及解決方案
幫助智能手機(jī)制造商通過(guò)人工智能 (AI)、虛擬現(xiàn)實(shí)和面部識(shí)別等新一代移動(dòng)功能來(lái)增強(qiáng)用戶(hù)體驗(yàn).
探討半導(dǎo)體制造原子層刻蝕與沉積工藝的自限性反應(yīng)
原子層刻蝕和沉積工藝?yán)米韵扌苑磻?yīng),提供原子級(jí)控制。 泛林集團(tuán)先進(jìn)技術(shù)發(fā)展事業(yè)部公司副總裁潘陽(yáng)博士 分享了他對(duì)這個(gè)話(huà)題的看法。 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的每次進(jìn)步都要求...
2021-02-08 標(biāo)簽:半導(dǎo)體行業(yè)3d nand 8446 0
基于64層3D NAND技術(shù)的企業(yè)級(jí)SATA固態(tài)硬盤(pán)
更輕松地向數(shù)據(jù)中心添加閃存,并憑借快速、一致的性能消除存儲(chǔ)瓶頸,降低總體擁有成本。
2018-04-10 標(biāo)簽:美光科技固態(tài)硬盤(pán)3D NAND 6486 0
市場(chǎng)對(duì)于3D NAND的需求有多大?140層3D NAND層數(shù)還會(huì)遠(yuǎn)嗎?
而且在堆疊層數(shù)增加的時(shí)候,存儲(chǔ)堆棧的高度也在增大,然而每層的厚度卻在縮小,以前的32/36層3D NAND的堆棧厚度為2.5μm,層厚度大約70nm,4...
3D NAND技術(shù)工藝發(fā)展與主流內(nèi)存標(biāo)準(zhǔn)探討
本文為您講述ROM存儲(chǔ)介質(zhì)3D NAND技術(shù)工藝的發(fā)展,現(xiàn)階段主流的內(nèi)存標(biāo)準(zhǔn),包括傳統(tǒng)eMMC,三星和蘋(píng)果提出的UFC標(biāo)準(zhǔn)和NVMe標(biāo)準(zhǔn)。
高深寬比刻蝕和納米級(jí)圖形化推進(jìn)存儲(chǔ)器的路線(xiàn)圖
探索未來(lái)三到五年生產(chǎn)可能面臨的挑戰(zhàn),以經(jīng)濟(jì)的成本為晶圓廠提供解決方案
SSD容量突破關(guān)鍵:3D存儲(chǔ)芯片大揭秘
3D NAND的好處自然就是能夠比現(xiàn)在的閃存提供功能大的存儲(chǔ)空間,存儲(chǔ)密度可以達(dá)到現(xiàn)有閃存的三倍以上,未來(lái)甚至可以做出10TB以上的2.5寸SSD出來(lái)。
2015-06-01 標(biāo)簽:存儲(chǔ)技術(shù)SSD3D NAND 2812 0
3D NAND閃存是一種把內(nèi)存顆粒堆疊在一起解決2D或平面NAND閃存限制的技術(shù)。這種技術(shù)垂直堆疊了多層數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元,具備卓越的精度,可支持在更小的空間...
原子級(jí)工藝實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖形結(jié)構(gòu)的要求
技術(shù)節(jié)點(diǎn)的每次進(jìn)步都要求對(duì)制造工藝變化進(jìn)行更嚴(yán)格的控制。最先進(jìn)的工藝現(xiàn)在可以達(dá)到僅7 nm的fin寬度,比30個(gè)硅原子稍大一點(diǎn)。半導(dǎo)體制造已經(jīng)跨越了從納...
典型3D NAND閃存結(jié)構(gòu)技術(shù)分析
這種存儲(chǔ)技術(shù)的成功與其不斷擴(kuò)展密度和成本的能力有關(guān)——這是 NAND 閃存技術(shù)發(fā)展的主要驅(qū)動(dòng)力。大約每?jī)赡辏琋AND 閃存行業(yè)就會(huì)顯著提高位存儲(chǔ)密度,以...
2023-06-27 標(biāo)簽:存儲(chǔ)器3d nand隨機(jī)存取存儲(chǔ)器 2561 0
深入解析泛林集團(tuán)Striker ICEFill電介質(zhì)填充技術(shù)
沉積技術(shù)是推進(jìn)存儲(chǔ)器件進(jìn)步的關(guān)鍵要素。但隨著3D NAND堆棧的出現(xiàn),現(xiàn)有填充方法的局限性已開(kāi)始凸顯。
數(shù)據(jù)安全是研華解決方案的核心。研華SQFlash系列提供全方位保護(hù),包括數(shù)據(jù)加密(TCG-OPAL、FIPS)、數(shù)據(jù)安全擦除和異常斷電保護(hù)。
存儲(chǔ)芯片將走向何方?存儲(chǔ)芯片的分類(lèi)
應(yīng)用了閃存堆疊技術(shù)的3D NAND Flash的出現(xiàn),比以往的2D NAND Flash提供了更大存儲(chǔ)空間,滿(mǎn)足了業(yè)界日益增長(zhǎng)的存儲(chǔ)需求,因而成為主流。
關(guān)于半導(dǎo)體價(jià)值鏈分析(設(shè)計(jì)、制造和后制造)
半導(dǎo)體價(jià)值鏈的制造階段包括晶圓制造、前段制程、中段制程、后段制程和遠(yuǎn)端制程。
2024-02-19 標(biāo)簽:DRAMNAND半導(dǎo)體制造 1939 0
溝道通孔(Channel Hole)指的是從頂層到底層垂直于晶圓表面,穿過(guò)多層存儲(chǔ)單元的細(xì)長(zhǎng)孔洞。這些通孔貫穿整個(gè)堆疊結(jié)構(gòu),并填充了導(dǎo)電材料,它們?cè)诿總€(gè)...
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