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標(biāo)簽 > 3nm

3nm

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在半導(dǎo)體制造中,3納米工藝是繼5納米MOSFET 技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后的下一個(gè)芯片縮小。截至2019年,三星和臺(tái)積電已宣布計(jì)劃將3 nm 半導(dǎo)體節(jié)點(diǎn)投入商業(yè)生產(chǎn)。它基于GAAFET(全能柵極場(chǎng)效應(yīng)晶體管)技術(shù),這是一種多柵極MOSFET技術(shù)。

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3nm資訊

斥資100億美元!三星計(jì)劃在美國(guó)建立3納米芯片工廠 追趕臺(tái)積電

1月23日,彭博社最新消息,三星電子公司正在考慮斥資逾100億美元,在美國(guó)建設(shè)其最先進(jìn)的芯片制造廠,這是一項(xiàng)重大投資。三星希望借此贏得更多美國(guó)客戶,并幫...

2021-01-23 標(biāo)簽:芯片三星電子臺(tái)積電 5.2k 0

ASML 昨日交付了第一臺(tái) YieldStar 385 檢測(cè)系統(tǒng) 可用于 3nm 制程芯片檢測(cè)

1月21日消息 據(jù)微博 @科創(chuàng)版日?qǐng)?bào) 消息,ASML 昨日交付了第一臺(tái) YieldStar 385 檢測(cè)系統(tǒng)。這款產(chǎn)品具備更快速的工作臺(tái)以及更快的波長(zhǎng)切...

2021-01-21 標(biāo)簽:檢測(cè)系統(tǒng)芯片檢測(cè)ASML 3k 0

臺(tái)積電宣布今年大規(guī)模資本支出計(jì)劃后,將面臨巨大的盈利壓力

智通財(cái)經(jīng)APP獲悉,全球最大的代工芯片制造商臺(tái)積電預(yù)計(jì)2021年將投入250億至280億美元用于生產(chǎn)先進(jìn)芯片。 薩斯奎哈納金融集團(tuán)(Susquehann...

2021-01-20 標(biāo)簽:芯片臺(tái)積電3nm 1.6k 0

臺(tái)積電上演極限技術(shù)冒險(xiǎn),是福還是禍

目前來(lái)看,臺(tái)積電全球晶圓代工霸主的地位似乎已經(jīng)不可動(dòng)搖。 十三年前,張仲謀在金融危機(jī)中復(fù)出,在28nm關(guān)鍵制程節(jié)點(diǎn)上,為臺(tái)積電打好了崛起的基礎(chǔ)。2015...

2021-01-19 標(biāo)簽:臺(tái)積電晶圓先進(jìn)制程 1.6k 0

中芯國(guó)際8大項(xiàng)技術(shù)“進(jìn)入全面開(kāi)發(fā)階段”

恰逢新任副董事長(zhǎng)蔣尚義到來(lái)之際,此前中芯國(guó)際的聯(lián)席CEO梁孟松鬧出了辭職風(fēng)波,有報(bào)道稱這次事件背后是中芯國(guó)際的技術(shù)路線之爭(zhēng)。

2021-01-19 標(biāo)簽:中芯國(guó)際3nmEUV光刻機(jī) 2.6k 0

臺(tái)積電的3nm工藝將在2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn)

1月15日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,根據(jù)臺(tái)積電公布的計(jì)劃,他們的3nm工藝,計(jì)劃在今年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),2022年下半年大規(guī)模量產(chǎn)。

2021-01-17 標(biāo)簽:臺(tái)積電3nm 3.5k 0

臺(tái)積電資本支出沖上新高 蘋(píng)果、英特爾、超微大客戶紛紛下單

據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,近日,臺(tái)積電發(fā)布2020年第四季度報(bào)告,對(duì)于未來(lái)5年?duì)I運(yùn)超級(jí)樂(lè)觀,2021年資本支出更沖上250億~280億美元,臺(tái)積電表示8成將用在美...

2021-01-17 標(biāo)簽:英特爾臺(tái)積電3nm 8.3k 0

臺(tái)積電擬砸150億美元研發(fā)3nm工藝

臺(tái)積電日前公布了2020年Q4季度財(cái)報(bào),營(yíng)收為3615.3億元新臺(tái)幣,同比增長(zhǎng)14.0%。凈利潤(rùn)為1427.7億元新臺(tái)幣,同比增長(zhǎng)23.0%。

2021-01-15 標(biāo)簽:芯片臺(tái)積電3nm 1.5k 0

消息稱蘋(píng)果 A17、英特爾包攬臺(tái)積電 3nm 產(chǎn)能

1月15日消息 據(jù)供應(yīng)鏈權(quán)威媒體 Digitimes 報(bào)道,有業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電所定于 2021 年支的 250 億~ 280 億美元中大部分(超過(guò) ...

2021-01-15 標(biāo)簽:英特爾臺(tái)積電蘋(píng)果 2.2k 0

臺(tái)積電三星3nm制程工藝研發(fā)均受阻

2020年,臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商,均把芯片制程工藝提升至5nm,而且更先進(jìn)的3nm制程也在計(jì)劃中,不過(guò),最近它們好像都遇到了一些麻煩。

2021-01-12 標(biāo)簽:芯片臺(tái)積電3nm 2.8k 0

新思科技攜手三星加快3nm節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)的收斂和簽核

雙方合作包括多個(gè)簽核域和跨庫(kù)特征提取,以加速設(shè)計(jì)收斂 簽核解決方案的創(chuàng)新能夠解決從5納米到3納米的獨(dú)特挑戰(zhàn),以確保簽核準(zhǔn)確性,并將運(yùn)行速度提高20倍、內(nèi)...

2021-01-11 標(biāo)簽:三星電子新思科技3nm 2k 0

麒麟9000迭代升級(jí)芯片將命名為麒麟9010

此前有消息稱,麒麟9000迭代升級(jí)芯片將命名為麒麟9010,基于3nm制造工藝設(shè)計(jì),由于麒麟芯片目前的特殊處境,使得消息傳出后,引起了網(wǎng)友的熱議。

2021-01-06 標(biāo)簽:芯片3nm麒麟芯片 9.3k 0

臺(tái)積電研發(fā)3nm工藝遇阻

近日,外媒援引供應(yīng)鏈內(nèi)部消息稱,目前晶圓代工廠的兩大頭部企業(yè)臺(tái)積電和三星的3nm制程工藝均遭遇不同程度的挑戰(zhàn),因此,最終3nm芯片的量產(chǎn)可能會(huì)相應(yīng)的推遲。

2021-01-05 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電3nm 2.6k 0

臺(tái)積電3nm工藝遭遇挑戰(zhàn),仍有足夠時(shí)間在2022年開(kāi)始量產(chǎn)

1月5日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在此前的報(bào)道中,英文媒體援引產(chǎn)業(yè)鏈方面的消息報(bào)道稱,臺(tái)積電和三星的3nm工藝研發(fā)均遭遇關(guān)鍵瓶頸,研發(fā)進(jìn)度也不得不推遲。

2021-01-05 標(biāo)簽:芯片三星電子臺(tái)積電 820 0

臺(tái)積電計(jì)劃今年3nm工藝將完成試生產(chǎn)

外媒報(bào)道,臺(tái)積電和三星在3nm工藝技術(shù)的開(kāi)發(fā)中遇到了不同卻關(guān)鍵的瓶頸。 因此,臺(tái)積電和三星將不得不推遲3nm工藝技術(shù)的開(kāi)發(fā)進(jìn)度。

2021-01-05 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電3nm 2.2k 0

臺(tái)積電今年的資本支出超過(guò)200億美元

1月4日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,從公布的月度營(yíng)收來(lái)看,芯片代工商臺(tái)積電去年的營(yíng)收將創(chuàng)下新高,而在芯片代工市場(chǎng)需求龐大、先進(jìn)工藝投產(chǎn)及研發(fā)的推動(dòng)下,他們的資...

2021-01-05 標(biāo)簽:臺(tái)積電5nm3nm 1.7k 0

臺(tái)積電將砸超200億美元全力推進(jìn)3nm

對(duì)于芯片代工龍頭,臺(tái)積電正在加大自己的研發(fā)費(fèi)用,從而獲得更領(lǐng)先的優(yōu)勢(shì)。

2021-01-04 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體臺(tái)積電 1.6k 0

臺(tái)積電 FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)遇瓶頸,量產(chǎn)時(shí)間恐將推遲

據(jù) Digitimes 報(bào)道,業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電 FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)的開(kāi)發(fā)過(guò)程中都遇到了不同但關(guān)鍵的瓶頸。報(bào)道稱,臺(tái)積...

2021-01-04 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電3nm 2.9k 0

臺(tái)積電和三星3nm制程遭遇挑戰(zhàn),研發(fā)進(jìn)度推遲

1月3日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商的制程工藝,均已提升到了5nm,更先進(jìn)的3nm也在按計(jì)劃推進(jìn)中,臺(tái)積電3nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠...

2021-01-04 標(biāo)簽:三星電子臺(tái)積電3nm 2.7k 0

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瑞薩 沁恒股份 全志 國(guó)民技術(shù) 瑞芯微 兆易創(chuàng)新 芯海科技 Altium
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adi Cypress Littelfuse Avago FTDI Cirrus LogIC Intersil Qualcomm
st Murata Panasonic Altera Bourns 矽力杰 Samtec 揚(yáng)興科技
microchip TDK Rohm Silicon Labs 圣邦微電子 安費(fèi)諾工業(yè) ixys Isocom Compo
安森美 DIODES Nidec Intel EPSON 樂(lè)鑫 Realtek ERNI電子
TE Connectivity Toshiba OMRON Sensirion Broadcom Semtech 旺宏 英飛凌
Nexperia Lattice KEMET 順絡(luò)電子 霍尼韋爾 pulse ISSI NXP
Xilinx 廣瀨電機(jī) 金升陽(yáng) 君耀電子 聚洵 Liteon 新潔能 Maxim
MPS 億光 Exar 菲尼克斯 CUI WIZnet Molex Yageo
Samsung 風(fēng)華高科 WINBOND 長(zhǎng)晶科技 晶導(dǎo)微電子 上海貝嶺 KOA Echelon
Coilcraft LRC trinamic
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