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      標(biāo)簽　>　euv光刻機

      euv光刻機

      +關(guān)注2人關(guān)注

      極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產(chǎn)。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

      文章：123個 瀏覽：15738次 帖子：0個

      euv光刻機資訊

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      ASML最新一代EUV設(shè)備2025年量產(chǎn)

      當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮到10納米節(jié)點以下，包括開始采用的7納米制程，以及未來5納米、3納米甚至2納米制程，EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備。藉由E...

      2019-07-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ASMLEUV光刻機 3.5k 0

      光刻機ASML拒收中國籍員工，緣由美國政府干涉

      在光刻機領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場，在EUV光刻機中更是獨一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。在高科技領(lǐng)域，美國這一年...

      2018-08-23 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機ASML 6.7k 0

      中國EUV購買受限,半導(dǎo)體面臨難產(chǎn)

      　盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是其未來應(yīng)用前景依然各方被看好。從長遠角度來看，發(fā)展EUV技術(shù)是非常必要的。對此，林雨指出：“自上世紀(jì)九十年代起，中國...

      2017-11-15 標(biāo)簽：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)三星電子臺積電 1.5k 0

      5年內(nèi)進入3納米，臺積電真能做到嗎？

      臺灣地區(qū)科技部長陳良基9日表示，半導(dǎo)體為產(chǎn)業(yè)競爭力核心，臺積電10納米制程已進入量產(chǎn)，2年后將進入7納米，不到5年將進入3納米、2納米，屆時將面臨物理極...

      2017-02-13 標(biāo)簽：臺積電inteeuv光刻機 3.1k 0

      EUV光刻工藝可用到2030年的1.5nm節(jié)點

      推動科技進步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點將開始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...

      2017-01-22 標(biāo)簽：摩爾定律EUVEUV光刻機 3.7k 0

      芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機單價為何能超1億歐元？

      進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折...

      2017-01-19 標(biāo)簽：芯片制造光刻機EUV 4k 0

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        OLED電視
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        東軟
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        東軟集團是中國領(lǐng)先的IT解決方案與服務(wù)供應(yīng)商，是上市企業(yè)，股票代碼600718。公司成立于1991年，前身為東北大學(xué)下屬的沈陽東大開發(fā)軟件系統(tǒng)股份有限公司和沈陽東大阿爾派軟件有限公司。
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