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      標(biāo)簽　>　euv光刻機(jī)

      euv光刻機(jī)

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      極紫外線光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，于2019年初交貨。

      文章：123個(gè) 瀏覽：15506次 帖子：0個(gè)

      euv光刻機(jī)資訊

      只有阿斯麥能夠供應(yīng)的EUV光刻機(jī)到底有多難造?

      在制造芯片的過(guò)程中，光刻工藝無(wú)疑最關(guān)鍵、最復(fù)雜和占用時(shí)間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸，是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝，占晶圓制造耗時(shí)的40％到50％。...

      2020-10-09 標(biāo)簽：晶圓光刻機(jī)EUV光刻機(jī) 2558 0

      IMEC和ASML研發(fā)低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術(shù)

      摩爾定律還沒(méi)有結(jié)束。日媒報(bào)道，由于新型冠狀病毒的傳播，近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網(wǎng)上發(fā)布會(huì)。 IMEC公司首席執(zhí)行官兼總裁Luc Va...

      2020-12-02 標(biāo)簽：摩爾定律光刻機(jī)ASML 1102 0

      海思工程師成香餑餑！華為圍獵半導(dǎo)體人才？IC人才跳槽呈現(xiàn)哪些風(fēng)向標(biāo)

      面臨美國(guó)制裁，華為海思一些項(xiàng)目無(wú)法開(kāi)展，華為如何通過(guò)內(nèi)聘渠道發(fā)揮他們最大才能？華為挖人給行業(yè)帶來(lái)哪些影響？科創(chuàng)板開(kāi)啟后，芯片企業(yè)崛起，給IC人才的脫穎而...

      2020-08-10 標(biāo)簽：芯片電子工程師海思 2.7萬(wàn) 1

      EUV光刻機(jī)的價(jià)值 芯片廠商造不出7nm以下工藝芯片

      作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過(guò)程中最重要的裝備，光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心。事實(shí)上，制程工藝越先進(jìn)就要離不開(kāi)先進(jìn)光刻機(jī)。

      2020-07-07 標(biāo)簽：ASMLEUV光刻機(jī) 3218 0

      ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

      一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道，在推出兩代極紫外光刻機(jī)之后，阿斯麥公司又已在研發(fā)下一代極紫外光刻機(jī)，計(jì)劃2022年年初開(kāi)...

      2020-03-18 標(biāo)簽：光刻機(jī)ASMLEUV光刻機(jī) 3073 0

      EUV光刻機(jī)到底是什么？為什么這么貴？

      近些年來(lái)EUV光刻這個(gè)詞大家應(yīng)該聽(tīng)得越來(lái)越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺(tái)積電的7nm+也...

      2020-02-29 標(biāo)簽：ASMLEUV光刻機(jī) 3.1萬(wàn) 0

      ASML研發(fā)第二代EUV光刻機(jī)的微縮分辨率、套準(zhǔn)精度提升了70%

      據(jù)韓媒報(bào)道稱(chēng)，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)，與現(xiàn)有光刻機(jī)相比，二代EUV光刻機(jī)最大的變化就是High NA透鏡，通過(guò)提升透鏡規(guī)格使得新一代光...

      2019-08-07 標(biāo)簽：半導(dǎo)體EUV光刻機(jī) 6591 0

      ASML最新一代EUV設(shè)備2025年量產(chǎn)

      當(dāng)前半導(dǎo)體制程微縮到10納米節(jié)點(diǎn)以下，包括開(kāi)始采用的7納米制程，以及未來(lái)5納米、3納米甚至2納米制程，EUV極紫外光光刻技術(shù)已成為不可或缺的設(shè)備。藉由E...

      2019-07-05 標(biāo)簽：半導(dǎo)體ASMLEUV光刻機(jī) 3097 0

      光刻機(jī)ASML拒收中國(guó)籍員工，緣由美國(guó)政府干涉

      在光刻機(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴(lài)EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年...

      2018-08-23 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻機(jī)ASML 6577 0

      中國(guó)EUV購(gòu)買(mǎi)受限,半導(dǎo)體面臨難產(chǎn)

      　盡管EUV現(xiàn)在還存在各種障礙，但是其未來(lái)應(yīng)用前景依然各方被看好。從長(zhǎng)遠(yuǎn)角度來(lái)看，發(fā)展EUV技術(shù)是非常必要的。對(duì)此，林雨指出：“自上世紀(jì)九十年代起，中國(guó)...

      2017-11-15 標(biāo)簽：半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)三星電子臺(tái)積電 1460 0

      5年內(nèi)進(jìn)入3納米，臺(tái)積電真能做到嗎？

      臺(tái)灣地區(qū)科技部長(zhǎng)陳良基9日表示，半導(dǎo)體為產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力核心，臺(tái)積電10納米制程已進(jìn)入量產(chǎn)，2年后將進(jìn)入7納米，不到5年將進(jìn)入3納米、2納米，屆時(shí)將面臨物理極...

      2017-02-13 標(biāo)簽：臺(tái)積電inteeuv光刻機(jī) 2991 0

      EUV光刻工藝可用到2030年的1.5nm節(jié)點(diǎn)

      推動(dòng)科技進(jìn)步的半導(dǎo)體技術(shù)真的會(huì)停滯不前嗎？這也不太可能，7nm工藝節(jié)點(diǎn)將開(kāi)始應(yīng)用EUV光刻工藝，研發(fā)EUV光刻機(jī)的ASML表示EUV工藝將會(huì)支持未來(lái)15...

      2017-01-22 標(biāo)簽：摩爾定律EUVEUV光刻機(jī) 3658 0

      芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元？

      進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來(lái)越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣(mài)出18臺(tái)EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過(guò)20億歐元，折...

      2017-01-19 標(biāo)簽：芯片制造光刻機(jī)EUV 3894 0

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