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      標簽　>　掩模

      掩模

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      掩模技術

      考慮光刻中厚掩模效應的邊界層模型

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      光刻圖形質量的主要判據是圖形成像的對比度，移相掩模方法可使對比度得到改善，從而使得其分辨率比傳統(tǒng)方法改善 40%~100%。移相掩模按不同的分類方法可分...

      2022-10-17 標簽：集成電路掩模 4.3k 0

      使用蝕刻掩模材料在InP襯底中實現V形槽

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      p-i-n光電探測器封裝中最具挑戰(zhàn)性的任務之一是將光纖耦合到探測器。由于探測器和光纖的尺寸都非常小，精確和準確的對準非常關鍵。如今，在大多數情況下，這是...

      2022-05-11 標簽：材料蝕刻掩模 1.3k 0

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      掩模資訊

      半導體濕法腐蝕工藝中，如何選擇合適的掩模圖形來控制腐蝕區(qū)域？

      在半導體濕法腐蝕工藝中，選擇合適的掩模圖形以控制腐蝕區(qū)域是一個關鍵環(huán)節(jié)。以下是一些重要的考慮因素和方法： 明確設計目標與精度要求 根據器件的功能需求確定...

      2025-10-27 標簽：半導體掩模 256 0

      龍圖光罩90nm掩模版量產，已啟動28nm制程掩模版的規(guī)劃

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      御微首臺掩?；迦毕輽z測儀 Halo-100順利交付

      5月12日，皖江經濟帶核心城市合肥的邊界上，御微首臺掩模基板缺陷檢測產品Halo-100正式裝車，準備運輸交付給國內頂尖掩模工廠。

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      武漢新芯集成電路專利“半導體器件及其制備方法”公布?

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      在此項專利中，申請人展示了一種新型半導體器件及其制作流程。其主要步驟包括先制備出含有第一鈍化層，第一金屬層和第二鈍化層的半導體基體；接著在第二鈍化層背對...

      2024-02-23 標簽：集成電路掩模半導體器件 1.1k 0

      上交所：龍圖光罩將于12月15日科創(chuàng)板首發(fā)上會

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      2023-12-11 標簽：新能源半導體掩模 1.4k 0

      佳能推出納米壓印半導體制造設備 或為中美競爭增添新戰(zhàn)線

      據佳能介紹，傳統(tǒng)的光刻設備將電路圖案投射到涂有防腐劑的晶片上，而新產品就像郵票一樣，在晶片上印上印有電路圖案的掩模來實現這一目標。由于電路圖案的傳遞過程...

      2023-10-16 標簽：佳能晶片掩模 1.8k 0

      半影光學微納光學器件及半導體光掩模生產項目簽約江蘇南通

      來源：海門開發(fā)區(qū) 據海門開發(fā)區(qū)官微報道，日前，半影光學（南京）有限公司與海門開發(fā)區(qū)簽訂投資協議，規(guī)劃建設微納光學器件及半導體光掩模生產項目，總投資5億元...

      2023-04-26 標簽：半導體掩模光學器件 1.4k 0

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