貿(mào)易戰(zhàn)一波三折，目前兩方還是在互懟的狀態(tài)。。。6月15日，美國白宮宣布對從中國進口的、含重要工業(yè)技術(shù)的500億美元商品征收25%的關(guān)稅，并提到這些商品與“中國制造2025”相關(guān)。中國方面立即做出回應，將對等反擊美國挑起的貿(mào)易戰(zhàn)。6月16日，國務院稅委會宣布對美國出口至中國的695項約500億商品加收關(guān)稅，具體也分成兩類：對農(nóng)產(chǎn)品、汽車、水產(chǎn)品等545項商品自2018年7月6日起加征25%關(guān)稅；對化工品、醫(yī)療設備、能源產(chǎn)品等114項商品，加征關(guān)稅實施時間另行公告。

大大說過：核心技術(shù)是化緣不來的。是的，這個時間段正是我們抓緊補漏的階段，尤其是在半導體行業(yè)等重點薄弱領(lǐng)域，做好自身實力上的儲備。

前不久，長江存儲迎來了一臺來自于荷蘭的光刻機，可謂是為芯片制造產(chǎn)業(yè)增添一件利器！這臺光刻機同樣來自荷蘭ASML，193nm沉浸式設計，可生產(chǎn)20-14nm工藝的3DNAND閃存晶圓，售價達7200萬美元，約合人民幣4.6億元。這臺光刻機的加盟，意義真是非凡！

標志著中國在生產(chǎn)設備上與其他尖端芯片制造強國處于同一水平上，相信國產(chǎn)SSD固態(tài)硬盤能夠更上一層樓。

那么，什么是光刻機呢？本節(jié)小編就帶大家一起認識一下光刻機。

一、什么是光刻機？

光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。

當然，光刻機是用來制作芯片的，所以我們來介紹一下基本的芯片制造工藝中的光刻工藝。

一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。

Photolithography（光刻） 意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復制”到硅片上的過程。

在我們知道了光刻機的作用之后，相信大家會疑問：光刻機有哪些種類呢？

二、光刻機的品牌

光刻機的品牌眾多，大致在層次上可以分為高檔和低檔兩類：：

高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常在十幾納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有7000萬美金的光刻機。

高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML（鏡頭來自德國），日本Nikon（intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機）和日本Canon三大品牌為主。

生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

那么，光刻機在原理上可以分為哪幾類呢？

三、光刻機的種類

光刻機在原理上可以分為三類：接觸式光刻機、接近式光刻機、投影式光刻機。

接觸式光刻機，來源于它的曝光方式：采用了接觸式曝光的形式，就是掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當，設備簡單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸。軟接觸 就是把基片通過托盤吸附?。愃朴趧蚰z機的基片放置方式），掩膜蓋在基片上面；硬接觸 是將基片通過一個氣壓（氮氣），往上頂，使之與掩膜接觸；真空接觸 是在掩膜和基片中間抽氣，使之更加好的貼合（想一想把被子抽真空放置的方式）。

接觸式光刻機雖然簡單，但是存在一些問題：光刻膠污染掩膜板；掩膜板的磨損，容易損壞，壽命很低（只能使用5～25次）；容易累積缺陷；上個世紀七十年代的工業(yè)水準，已經(jīng)逐漸被接近式曝光方式所淘汰了，國產(chǎn)光刻機均為接觸式曝光，國產(chǎn)光刻機的開發(fā)機構(gòu)無法提供工藝要求更高的非接觸式曝光的產(chǎn)品化，所以中國的光刻機研發(fā)還要加把力！

接近式光刻機采用了接近式曝光的方式，掩膜板與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙（Gap），Gap大約為0～200μm?？梢杂行П苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用；掩模壽命長（可提高10 倍以上），圖形缺陷少。接近式在現(xiàn)代光刻工藝中應用最為廣泛。