對于如今的半導體產(chǎn)業(yè)而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術(shù)的關(guān)鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優(yōu)勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花重金購置EUV光刻機。 ? 然而，當這些來自
2022-07-22 07:49:00
2403 傳統(tǒng)的光刻工藝是相對目前已經(jīng)或尚未應用于集成電路產(chǎn)業(yè)的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術(shù)的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術(shù)節(jié)點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2913995 根據(jù)最新數(shù)據(jù)顯示，ASML在12月中完成了第100臺EUV光刻機的出貨。更加利好的消息是，業(yè)內(nèi)預估ASML今年（2021年）的EUV光刻機產(chǎn)能將達到45~50臺的規(guī)模。
2021-01-03 00:28:004735 作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了7nm之下不可或缺的制造設(shè)備
2021-12-01 10:07:4110988 盡管ASML作為目前占據(jù)主導地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機廠商尼康和佳能為例，他們就仍在
2022-11-24 01:57:004865 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 01:48:002199 一、光刻膠的選擇光刻膠包括兩種基本的類型：正性光刻和負性光刻，區(qū)別如下
2021-01-12 10:17:47
！光刻機本身的原理，其實和相機非常相似，同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相機。相機的原理，是被攝物體被光線照射所反射的光線，透過相機的鏡頭，將影像投射并聚焦在相機的底片（感光元件）上，如此便可
2020-09-02 17:38:07
關(guān)于
光刻工藝的原理，大家
可以想象一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當于膠片，而
光刻機就是沖洗臺，它把掩膜版上的芯片電路一個個的復制到
光刻膠薄膜上，然后通過刻蝕技術(shù)把電路“畫”在晶圓上?！ ‘斎?/div>
2020-07-07 14:22:55
`現(xiàn)在處理一批MA-1200光刻機的零件，有需要的朋友請直接聯(lián)系我：137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
微米之間,此間隙可以大大減少對掩膜版的損傷.接近式暴光的分辨率較低,一般在2~4微米之間,因此接近式光刻機只能裝配在特征尺寸交大的集成電路生產(chǎn)線中.接觸或接近式光刻機的主要優(yōu)點是生產(chǎn)效率較高?！ 艚佑|式
2012-01-12 10:56:23
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機的研發(fā)制造，結(jié)果會怎樣？
2020-06-10 19:23:14
EUV主要用于7nm及以下制程的芯片制造，光刻機作為集成電路制造中最關(guān)鍵的設(shè)備，對芯片制作工藝有著決定性的影響，被譽為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，根據(jù)之前中芯國際的公報，目...
2021-07-29 09:36:46
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
光刻膠與光刻工藝技術(shù) 微電路的制造需要把在數(shù)量上精確控制的雜質(zhì)引入到硅襯底上的微小 區(qū)域內(nèi),然后把這些區(qū)域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區(qū)域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉(zhuǎn)涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21
0 進入10nm工藝節(jié)點之后，EUV光刻機越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機，總價值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價超過1億歐元，可謂價值連城。
2017-01-19 18:22:593470 本文以光刻機為中心，主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結(jié)構(gòu)組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01161176 
光刻機（Mask Aligner） 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
2018-04-10 09:49:17131483 
今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，二代7nm才會上EUV光刻工藝，預計明年量產(chǎn)。那么存儲芯片行業(yè)何時會用上EUV
2018-06-07 14:49:006059 美光CEO Sanjay Mehrotra日前在參加伯恩斯坦年度戰(zhàn)略決策會上回答了有關(guān)的工藝問題，在EUV光刻工藝上，他認為EUV光刻機在DRAM芯片制造上不是必須的，直到1α及1β工藝上都也不會用到它。
2018-06-08 14:29:075468 
隨著技術(shù)的發(fā)展，今年臺積電、三星及Globalfoundries等公司都會量產(chǎn)7nm工藝，下一代將在2020年進入5nm工藝，2022年進入3nm工藝。目前第一代7nm工藝將使用傳統(tǒng)的DUV光刻工藝，預計到5nm工藝將會上EUV光刻工藝。
2018-08-20 17:41:491149 達到理想狀態(tài)，EUV工藝還有很長的路要走。在現(xiàn)有的EUV之外，ASML與IMEC比利時微電子中心還達成了新的合作協(xié)議，雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機，NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5，可以進一步提升光刻工藝的微縮水平，制造出更小的晶體管。
2018-10-30 16:28:403376 中心還達成了新的合作協(xié)議，雙方將共同研發(fā)新一代EUV光刻機，NA數(shù)值孔徑從現(xiàn)有的0.33提高到0.5，可以進一步提升光刻工藝的微縮水平，制造出更小的晶體管。 NA數(shù)值孔徑對光刻機有什么意義？，決定
2018-11-02 10:14:19834 ASML副總裁Anthony Yen表示，ASML已開始開發(fā)極紫外（EUV）光刻機，其公司認為，一旦當今的系統(tǒng)達到它們的極限，就將需要使用極紫外光刻機來繼續(xù)縮小硅芯片的特征尺寸。
2018-12-09 10:35:077142 光刻機的作用，顧名思義，就是“用光來雕刻的機器”。是用來實現(xiàn)上面說到的“光線侵蝕光刻膠”的目的的。
2019-03-14 14:12:01214098 在半導體制造過程中，最重要的一個過程就是光刻工藝，需要用到光刻機，7nm及以下節(jié)點工藝則需要EUV光刻機，目前只有荷蘭ASML公司能生產(chǎn)，每臺售價超過1億歐元，可以說是半導體行業(yè)的明珠了，是門檻非常高的先進技術(shù)。
2019-07-12 10:38:434279 掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-18 16:02:003147 
掌握全球唯一EUV光刻機研發(fā)、生產(chǎn)的荷蘭ASML（阿斯麥）公司今天發(fā)布了2019年Q2季度財報，當季營收25.68億歐元，其中凈設(shè)備銷售額18.51億歐元，總計出貨了41臺光刻機，其中EUV光刻機7臺。
2019-07-23 10:47:213102 
格芯首席技術(shù)官Gary Patton表示，如果在5nm的時候沒有使用EUV光刻機，那么光刻的步驟將會超過100步，這會讓人瘋狂。所以所EUV光刻機無疑是未來5nm和3nm芯片的最重要生產(chǎn)工具，未來圍繞EUV光刻機的爭奪戰(zhàn)將會變得異常激烈。因為這是決定這些廠商未來在先進工藝市場競爭的關(guān)鍵。
2019-09-03 17:18:1812845 
據(jù)韓媒報道稱，ASML正積極投資研發(fā)下一代EUV光刻機，與現(xiàn)有光刻機相比，二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡，通過提升透鏡規(guī)格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%，達到業(yè)界對幾何式芯片微縮的要求。
2019-08-07 11:24:395849 在半導體工藝進入 10nm 節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復雜的一步——光刻需要用到 EUV 光刻機了，而后者目前只有荷蘭 ASML 阿斯麥公司才能供應。
2019-12-10 16:04:287122 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 10:58:473149 近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多，三星在去年發(fā)布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片，臺積電的7nm+也是他們首次使用EUV光刻的工藝，蘋果的A13
2020-02-29 11:42:4529308 據(jù)中國證券報報道，3月6日下午從中芯國際獲悉，日前中芯國際深圳工廠從荷蘭進口了一臺大型光刻機，但這是設(shè)備正常導入，用于產(chǎn)能擴充，并非外界所稱的EUV光刻機。
2020-03-07 10:55:144167 經(jīng)常聽說，高端光刻機不僅昂貴而且還都是國外的，那么什么是光刻機呢？上篇我們聊了從原材料到拋光晶片的制成過程，今天我們就來聊聊什么是光刻～
2020-03-15 14:46:00227696 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:13:482863 在EUV光刻機方面，荷蘭ASML（阿斯麥）公司壟斷了目前的EUV光刻機，去年出貨26臺，創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道，ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機，預計在2022年開始出貨。
2020-03-17 09:21:194670 光刻機是集成電路制造中最精密復雜、難度最高、價格最昂貴的設(shè)備，用于在芯片制造過程中的掩膜圖形到硅襯底圖形之間的轉(zhuǎn)移。集成電路在制作過程中經(jīng)歷材料制備、掩膜、光刻、刻蝕、清洗、摻雜、機械研磨等多個工序，其中以光刻工序最為關(guān)鍵，因為它是整個集成電路產(chǎn)業(yè)制造工藝先進程度的重要指標。
2020-03-18 11:00:4172452 光刻機是芯片制造的核心設(shè)備之一，作為目前世界上最復雜的精密設(shè)備之一，其實光刻機除了能用于生產(chǎn)芯片之外，還有用于封裝的光刻機，或者是用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。目前，我國高端的光刻機，基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388 作為芯片制造的核心設(shè)備之一，光刻機對芯片生產(chǎn)的工藝有著決定性影響。 據(jù)悉，光刻機按照用途可分為生產(chǎn)芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。其中，生產(chǎn)芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 頂級光刻機有多難搞？ASML的光刻機，光一個零件他就調(diào)整了10年！拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例，其內(nèi)部精密零件多達10萬個，比汽車零件精細數(shù)十倍！
2020-07-02 09:38:3911513 與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400x EUV系統(tǒng)（3400平臺是EUV生產(chǎn)平臺）。
2020-08-14 11:20:552048 
作為光刻工藝中最重要設(shè)備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術(shù)飛速向前發(fā)展。了解提高光刻機性能的關(guān)鍵技術(shù)以及了解下一代光刻技術(shù)的發(fā)展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0411746 
【重磅】王毅到訪荷蘭，期待放行ASML EUV光刻機 來源：中國半導體論壇 彭博引述知情人士消息稱，荷蘭政府極有可能不會給予ASML向中國出貨EUV光刻機的許可證。一年前的許可證到期后，在美國
2020-09-10 14:19:112577 光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產(chǎn)業(yè)中最關(guān)鍵設(shè)備，光刻工藝決定了半導體線路的線寬，同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162 
在制造芯片的過程中，光刻工藝無疑最關(guān)鍵、最復雜和占用時間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸，是芯片生產(chǎn)中最核心的工藝，占晶圓制造耗時的40％到50％。光刻機在晶圓制造設(shè)備投資額中約占23
2020-10-09 15:40:112189 荷蘭阿斯麥（ASML）公司的光刻機作為世界上最貴最精密的儀器，相信大家都有耳聞，它是加工芯片的設(shè)備。其最先進的EUV（極紫外光）光刻機已經(jīng)能夠制造7nm以下制程的芯片，據(jù)說一套最先進的7納米EUV
2020-10-15 09:20:054438 ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元
2020-10-19 12:02:499647 
臺積電是第一家將EUV（極紫外）光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè)，目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
2020-10-22 14:48:561425 ASML公司的EUV光刻機全球獨一份，現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上，臺積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進了，SK海力士宣布明年底量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存。
2020-10-30 10:54:211646 11月5日，世界光刻機巨頭荷蘭阿斯麥ASML亮相第三屆進博會。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV（極紫外光）光刻機的企業(yè)，由于ASML目前仍不能向中國出口EUV光刻機，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻機。據(jù)悉，該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
2020-11-06 11:27:465517 作為半導體制造中的核心設(shè)備，光刻機無疑是芯片產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，特別是先進工藝的光刻機，7nm以下的都要依賴ASML公司，EUV光刻機他們還是獨一份。
2020-11-09 17:11:382195 中國需要光刻機，尤其是支持先進制程的高端光刻機。具體來說，就是 EUV （極紫外光源）光刻機。
2020-11-11 10:13:304278 
據(jù)TOMSHARDWARE報道，臺積電表示其部署的極紫外光（EUV）光刻工具已占全球安裝和運行總量的50%左右，這意味著其使用的EUV機器數(shù)量超過了業(yè)內(nèi)其他任何一家公司。為了保持領(lǐng)先，臺積電已經(jīng)下單
2020-11-17 16:03:381827 。 EUV光刻機參與的將是SK海力士的第四代（1a nm）內(nèi)存，在內(nèi)存業(yè)內(nèi)，目前的代際劃分是1x、1y、1z和1a。 EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。 當然，EUV光刻機實在是香餑餑。唯一的制造商ASML（
2020-11-26 18:23:291761 自從芯片工藝進入到7nm工藝時代以后，需要用到一臺頂尖的EUV光刻機設(shè)備，才可以制造7nm EUV、5nm等先進制程工藝的芯片產(chǎn)品，但就在近日，又有外媒豪言：這種頂尖的EUV極紫外光刻機，目前全球
2020-12-03 13:46:226379 更多訣竅，領(lǐng)先對手1到2年。 據(jù)悉，三星的1z nm DRAM第三代內(nèi)存已經(jīng)用上了一層EUV，第四代1a nm將增加到4層。EUV光刻機的參與可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時間、降低成本，并提高性能。 盡管SK海力士、美光等也在嘗試EUV，但層數(shù)過少對
2020-12-04 18:26:542201 荷蘭阿斯麥公司作為掌握光刻機系統(tǒng)集成和整體架構(gòu)的核心企業(yè)，自然成了歐美自家的小棉襖，順利趕上了歐美EUV技術(shù)研究發(fā)展的風口，投資德國卡爾蔡司，收購美國Cymer光源。集成世界各國頂尖科技的EUV
2020-12-28 09:25:5518165 光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干
2020-12-29 09:14:542095 之前有消息稱，臺積電正在籌集更多的資金，為的是向ASML購買更多更先進制程的EUV光刻機，而這些都是為了新制程做準備。
2020-12-29 09:22:482192 Luc Van den hove表示，IMEC的目標是將下一代高分辨率EUV光刻技術(shù)高NA EUV光刻技術(shù)商業(yè)化。由于此前得光刻機競爭對手早已經(jīng)陸續(xù)退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產(chǎn)能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規(guī)?？s小到1nm及以下。
2020-12-30 09:23:481673 而2018年中芯與ASML簽訂了一項EUV光刻機購買協(xié)議，以1.2億美元購買一臺光刻機，但直到現(xiàn)在都沒有交貨，因為沒有拿到出口許可證。
2021-01-08 11:37:512368 呢？OFweek君根據(jù)公開資料整理出了一些原因，供讀者參考。 與DUV（深紫外光）光刻機相比，EUV光刻機的吞吐量相對較低，每小時可曝光處理的晶圓數(shù)量約在120片－175片之間，技術(shù)改進后，速度可以提升至275片每小時。但相對而言，EUV生產(chǎn)效率還是更高，
2021-02-14 14:05:003915 目前，還有ASML有能力生產(chǎn)最先進的EUV光刻機，三星、臺積電都是ASML的客戶。但受《瓦森納協(xié)定》的制約，中國大陸沒有從ASML買來一臺EUV光刻機。
2021-01-21 08:56:184078 ASML 2020 年財報數(shù)據(jù)顯示，去年向中國市場共交付約140臺光刻機 如今我們談到光刻機，大家已經(jīng)并不陌生了，不會首先產(chǎn)生疑問，這是什么東西？是干什么用的？ 光刻機其實只是用于芯片制造環(huán)節(jié)
2021-01-21 15:45:033085 在光刻機領(lǐng)域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML，占據(jù)著芯片行業(yè)的頂端，畢竟沒有了他們的設(shè)備，想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露，ASML2020年全年凈銷售額140億歐元，毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677 
ASML公司前兩天發(fā)布了財報，全年凈銷售額140億歐元，EUV光刻機出貨31臺，帶來了45億歐元的營收，單價差不多11.4億歐元了。 雖然業(yè)績增長很亮眼，但是ASML也有隱憂，實際上EUV光刻機
2021-01-22 17:55:242639 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 09:28:551644 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機
2021-02-25 09:30:232047 隨著半導體工藝進入10nm節(jié)點以下，EUV光刻機成為制高點，之前臺積電搶購了全球多數(shù)的EUV光刻機，率先量產(chǎn)7nm、5nm工藝，現(xiàn)在內(nèi)存廠商也要入場了，SK海力士豪擲4.8萬億韓元搶購EUV光刻機。
2021-02-25 11:39:091844 中芯國際的芯片工藝目前已發(fā)展至14nm，若想將芯片工藝進一步提升至7nm乃至3nm等先進制程，EUV光刻機設(shè)備就必不可少。那么，中芯國際此次12億美元的采購協(xié)議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？
2021-03-10 14:36:559465 以下內(nèi)容由對話音頻整理 本期話題 ● EUV光刻機產(chǎn)能如何？ ● 晶圓為什么是圓的？ ● 不同制程的芯片之間有何區(qū)別？ ● 什么是邏輯芯片，邏輯芯片又包括哪些？ ● 專用芯片與通用芯片 ● 中科院
2021-03-14 09:46:3023476 日前，ASML產(chǎn)品營銷總監(jiān)Mike Lercel向媒體分享了EUV（極紫外）光刻機的最新進展。
2021-03-19 09:39:404630 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）作為近乎壟斷的光刻機巨頭，ASML的EUV光刻機已經(jīng)在全球頂尖的晶圓廠中獲得了使用。無論是英特爾、臺積電還是三星，EUV光刻機的購置已經(jīng)是生產(chǎn)支出中很大的一筆，也成了
2021-12-07 14:01:1010742 光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產(chǎn)中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產(chǎn)流程中最關(guān)鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產(chǎn)中不可缺少的設(shè)備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。
2022-05-13 14:43:202077 
在芯片研發(fā)的過程中，光刻機是必不可少的部分，而隨著芯片制程工藝的不斷發(fā)展，普通的光刻機已經(jīng)不能滿足先進制程了，必須要用最先進的EUV光刻機才能完成7nm及其以下的先進制程，而目前臺積電和三星都在攻克
2022-06-28 15:07:126676 中國芯的進步那是有目共睹，我國在光刻機，特別是在EUV光刻機方面，更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 三星電子和ASML就引進今年生產(chǎn)的EUV光刻機和明年推出高數(shù)值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協(xié)議。
2022-07-05 15:26:155634 如今世界最先進的EUV光刻機，只有asml一家公司可以制造出來。
2022-07-06 11:19:3850685 EUV光刻機是在2018年開始出現(xiàn)，并在2019年開始大量交付，而臺積電也是在2019年推出了7nm EUV工藝。
2022-07-07 09:48:444523 大家都知道，芯片制造的核心設(shè)備之一就是光刻機了?，F(xiàn)在，全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機，那么euv光刻機目前幾納米呢？ 到現(xiàn)在，世界上最先進的光刻機能夠?qū)崿F(xiàn)5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片，估計每個人都知道它是什么，但說到光刻，許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設(shè)備。沒有光刻機的話，就無法生產(chǎn)芯片，因此每個人都知道光刻機對芯片制造業(yè)的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977 可以生產(chǎn)出納米尺寸更小、功能更強大的芯片。 小于5 nm的芯片晶片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。 EUV光刻機有光源系統(tǒng)、光學鏡頭、雙工作臺系統(tǒng)三大核心技術(shù)。 目前，最先進的光刻機是荷蘭ASML公司的EUV光刻機。預計在光路系統(tǒng)的幫助下，能
2022-07-10 14:35:066173 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術(shù)，EUV使用的是深紫外光刻技術(shù)。EUV為先進工藝芯片光刻的發(fā)展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產(chǎn)的工具就是紫外光刻機，是大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的核心設(shè)備，對芯片技術(shù)有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產(chǎn)。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1015099 光刻機是當前半導體芯片產(chǎn)業(yè)的核心設(shè)備，其技術(shù)含量和價值含量都很高。那么euv光刻機用途是什么呢？下面我們就一起來看看吧。 光刻設(shè)備涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密材料傳輸、高精度微環(huán)境控制
2022-07-10 16:34:403116 光刻是半導體工藝中最關(guān)鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業(yè)最熱門的關(guān)鍵詞，也是光刻技術(shù)。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術(shù)。
2022-10-18 12:54:053180 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）盡管ASML作為目前占據(jù)主導地位的光刻機廠商，憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵，主導著半數(shù)以上的市場份額，但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機
2022-11-24 07:10:033222 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/ 周凱揚 ）到了3nm這個工藝節(jié)點之后，單靠現(xiàn)有的0.33NA EUV光刻機就很難維系下去了。 為了實現(xiàn)2nm乃至未來的埃米級工藝，將晶體管密度推向1000MTr/mm2，全面
2022-12-07 07:25:02952 光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205860 
半導體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541223 
三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝
2023-11-23 18:13:02579 
光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4143 
了。 ? 芯片制造離不開光刻機，特別是在先進制程上，EUV光刻機由來自荷蘭的ASML所壟斷。同時，盡管目前市面上，EUV光刻機客戶僅有三家，但需求不斷增加的情況底下，EUV光刻機依然供不應求。 ? 針對后3nm時代的芯片制造工藝，High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV光刻機
2022-06-29 08:32:004635 
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