本土晶圓代工企業(yè)崛起之際，設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示，從荷蘭向中國(guó)出口DUV光刻機(jī)無(wú)需許可證。

“根據(jù)當(dāng)前法規(guī)，ASML無(wú)需獲得美國(guó)出口許可證便可以繼續(xù)從荷蘭向中國(guó)客戶出貨DUV光刻系統(tǒng)；對(duì)于直接從美國(guó)發(fā)貨系統(tǒng)或零件到受法規(guī)影響的客戶，ASML需獲得許可證。”光刻機(jī)龍頭ASML總裁兼CEO Peter Wennink 在最新季度財(cái)報(bào)說(shuō)明會(huì)上對(duì)中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的出貨情況做了解釋。

ASML近日公布了光刻機(jī)產(chǎn)品的最新進(jìn)展。其中TWINSCAN NXE:3600D作為其目前研發(fā)中的最先進(jìn)光刻機(jī)系統(tǒng)，終于敲定最終規(guī)格。具體來(lái)說(shuō)，30mJ/cm2的曝光速度達(dá)到每小時(shí)曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)率，并改進(jìn)機(jī)器匹配套準(zhǔn)精度至1.1nm。

3600D定于2021年中旬出貨交付，客戶還需要一定時(shí)間等待，價(jià)格應(yīng)該不會(huì)低于現(xiàn)款老型號(hào)的1.2億美元。

目前，ASML已經(jīng)投產(chǎn)的最先進(jìn)光刻機(jī)是3400C，但主力出貨型號(hào)是3400B。參數(shù)方面，3400B的套刻精度為2nm、曝光速度20mJ/cm2，每小時(shí)可曝光125片晶圓。

另外，ASML透露，3400B在三季度也完成了軟件升級(jí)。全新的DUV光刻機(jī)TWINSCAN NXT:2050i已經(jīng)在三季度結(jié)束驗(yàn)證，四季度早期開(kāi)始正式出貨。

據(jù)悉，在截止9月30日的單季度，ASML共獲得60臺(tái)光刻機(jī)收入，出貨了10臺(tái)EUV光刻機(jī)。關(guān)于最為先進(jìn)的EUV光刻機(jī)出口中國(guó)的政策，ASML并未提及。

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