chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

預計:臺積電2021年需要54臺新EUV光刻機

我快閉嘴 ? 來源:創(chuàng)投時報 ? 作者:BU ? 2021-01-06 11:29 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

臺積電作為全球最強大的晶圓代工廠,受到了蘋果、聯(lián)發(fā)科等芯片巨頭的青睞。據(jù)悉,2021年臺積電近80%的5nm產(chǎn)能,已經(jīng)被蘋果包下,7nm產(chǎn)能也被AMD包下大半。

臺積電的強大,少不了背后供應商的支撐,其中ASML便是至關重要的一個。

據(jù)了解,在2020年12月中旬,ASML完成了第100臺EUV***的出貨,其中臺積電買下了大部分。據(jù)預測,到2020年底時,中國芯片巨頭——臺積電手中的EUV***高達61臺。

***是芯片制造環(huán)節(jié)中,光刻這一步驟的必備設備,對晶體管尺寸起到?jīng)Q定性作用。手握如此多的EUV***,是臺積電能夠在業(yè)界穩(wěn)居領先地位的重要原因。

為推進更小制程研發(fā),臺積電對EUV***有著巨大的需求量。臺積電最新工藝更是對EUV設備有著嚴重依賴,臺積電想要擴大差能與推行制程,所需的***數(shù)量也將越來越多。

如今,臺積電已經(jīng)實現(xiàn)5nm量產(chǎn),并且計劃在2022年實現(xiàn)3nm量產(chǎn),到2024年時將推動2nm量產(chǎn)。由此來看,未來臺積電對EUV***的需求量頗多。

根據(jù)計算,預計臺積電2021年需要新EUV***54臺。而在這一年,ASML的EUV曝光機產(chǎn)能有望提升至45到50臺規(guī)模。與ASML此前產(chǎn)量相比,出貨量大大提升。

但ASML無法滿足臺積電的需要,況且,三星也在一旁虎視眈眈,需要更多的EUV***。

在2022年,臺積電所需新EUV數(shù)量預計將增至57臺;2023年與2024年將分別達到58臺與62臺。也就是說,臺積電此后對EUV***的需求量,將遠遠超出如今持有的數(shù)量。

對EUV***需求量同樣大增的,還有三星。三星一直想與臺積電爭個高下,并希望在2030年時希望能對臺積電實現(xiàn)反超,為此其將投入133萬億韓元。因此,三星也希望能獲得更多的EUV***,增強自身實力。

在10月13日,三星副董事長李在镕曾對ASML進行訪問,并表示三星希望在2020年底前引入9臺EUV,并計劃在2021年后每年引入20臺EUV。

11月份末時,ASML首席執(zhí)行官又對三星進行了訪問,二者再次討論了EUV***的事宜。

由此可見,對于臺積電來說,三星是一個不小的威脅。而且,ASML的產(chǎn)能供應臺積電都不能滿足,更何況還有三星。

臺積電能否拿到更多***,保住自身優(yōu)勢地位,就讓我們拭目以待。
責任編輯:tzh

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 芯片
    +關注

    關注

    462

    文章

    53496

    瀏覽量

    458469
  • 臺積電
    +關注

    關注

    44

    文章

    5787

    瀏覽量

    174632
  • 蘋果
    +關注

    關注

    61

    文章

    24584

    瀏覽量

    207300
  • 晶體管
    +關注

    關注

    78

    文章

    10227

    瀏覽量

    146147
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    中國打造自己的EUV光刻膠標準!

    其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機
    的頭像 發(fā)表于 10-28 08:53 ?5802次閱讀

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/吳子鵬)?在全球半導體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機被譽為 “半導體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術更是先進制程芯片制造的核心。長期以來,荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?9318次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    證實,南京廠被撤銷豁免資格!

    撤銷了過去向南京工廠輸送受美國出口管制的半導體設備等的豁免權,意味著未來臺供應商向南京工廠供應半導體設備和其他相關產(chǎn)品時都
    的頭像 發(fā)表于 09-04 07:32 ?9183次閱讀
    <b class='flag-5'>臺</b><b class='flag-5'>積</b><b class='flag-5'>電</b>證實,南京廠被撤銷豁免資格!

    官宣退場!未來兩逐步撤離氮化鎵市場

    7月3日,氮化鎵(GaN)制造商納微半導體(Navitas)宣布,其650V元件產(chǎn)品將在未來1到2內,從當前供應商(TSMC)逐步過渡至力
    的頭像 發(fā)表于 07-04 16:12 ?576次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關,電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    披露:在美國大虧 在大陸大賺 在美投資虧400億

    根據(jù)公布的2024股東會年報數(shù)據(jù)顯示,
    的頭像 發(fā)表于 04-22 14:47 ?854次閱讀

    最大先進封裝廠AP8進

    據(jù)媒報道,在4月2日舉行了 AP8 先進封裝廠的進儀式;有望在今年末投入運營。據(jù)悉
    的頭像 發(fā)表于 04-07 17:48 ?1987次閱讀

    成都匯陽投資關于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    【2025年光刻機市場的規(guī)模預計為252億美元】 光刻機作為半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一,其在半導體制造中的重要性不言而喻。 目前,全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長,尤
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?1129次閱讀

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導體制造工序分類,光刻設備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5660次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    4nm芯片量產(chǎn)

    率和質量可媲美臺灣產(chǎn)區(qū)。 此外;還將在亞利桑那州二廠生產(chǎn)領先全球的2納米制程技術,預計生產(chǎn)時間是2028。
    的頭像 發(fā)表于 01-13 15:18 ?1337次閱讀

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文將詳細介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟,負責提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著技術的進步,目前多采用深紫外(DUV)或極紫外(
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?4099次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    設立2nm試產(chǎn)線

    最大產(chǎn)能,從而滿足蘋果、高通、聯(lián)發(fā)科等多家客戶的需求。 據(jù)悉,電新竹寶山廠(Fab20)啟動了2納米制程的試產(chǎn)線的月產(chǎn)能規(guī)劃約為3000至3500片。隨著技術的不斷成熟和生產(chǎn)線的逐步優(yōu)化,預計到2026
    的頭像 發(fā)表于 01-02 15:50 ?1326次閱讀

    2納米制程啟動試產(chǎn),預計2026底月產(chǎn)能大增

    ,已在本季度于其新竹寶山廠(Fab20)啟動了2納米制程的小量試產(chǎn)線建設。該試產(chǎn)線的月產(chǎn)能規(guī)劃約為3000至3500片。隨著技術的不斷成熟和生產(chǎn)線的逐步優(yōu)化,預計到2026
    的頭像 發(fā)表于 01-02 14:34 ?1000次閱讀

    2025起調整工藝定價策略

    近日,據(jù)臺灣媒體報道,隨著AI領域對先進制程與封裝產(chǎn)能的需求日益旺盛,計劃從20251月起,針對其3nm、5nm以及先進的CoWoS封裝工藝進行價格調整。 具體而言,
    的頭像 發(fā)表于 12-31 14:40 ?1290次閱讀

    日本首臺EUV光刻機就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設備的半導體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進行安裝,設備安裝
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1397次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位