SEI膜簡介,怎么形成,如何變化?












原文標(biāo)題:SEI膜簡介,怎么形成,如何變化?
文章出處:【微信公眾號:鋰電聯(lián)盟會長】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
責(zé)任編輯:haq
聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
鋰電池
+關(guān)注
關(guān)注
263文章
8640瀏覽量
184015 -
電極
+關(guān)注
關(guān)注
5文章
890瀏覽量
28370 -
sei膜
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
23瀏覽量
3791
原文標(biāo)題:SEI膜簡介,怎么形成,如何變化?
文章出處:【微信號:Recycle-Li-Battery,微信公眾號:鋰電聯(lián)盟會長】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
經(jīng)驗分享 | SEI同步通訊—BISS-C/ENDAT協(xié)議解讀
SEI(SerialEncoderInterface)串行編碼器接口,是先楫半導(dǎo)體創(chuàng)新性設(shè)計的一個針對串行絕對值編碼器通信的外設(shè)。SEI支持同步通信模式與異步通信模式,既能做主機(jī)——從編碼器獲取數(shù)據(jù)
FPC電磁膜設(shè)計問題
向各位大佬請教兩個問題:
1.嘉立創(chuàng)FPC下單時,需要選擇接地與不接地,相問一下有什么影響嗎
2.電磁膜接地,會消除到靜電嗎
發(fā)表于 09-28 11:51
鋰電池化成工藝:SEI膜構(gòu)筑機(jī)制與產(chǎn)氣、水分的協(xié)同控制
在鋰離子電池的制造流程中,注液、化成與老化是決定最終電池性能的關(guān)鍵后工序。其中,化成直接關(guān)系到電池內(nèi)部關(guān)鍵結(jié)構(gòu)——固體電解質(zhì)界面膜(SEI膜)的形成質(zhì)量,進(jìn)而深刻影響電池的循環(huán)壽命、安全性和穩(wěn)定性
投資筆記:半導(dǎo)體掩膜版的投資邏輯分析(含平板顯示)(13634字)
目錄一、什么是掩膜版:定義、分類二、掩膜版制造加工工藝:關(guān)鍵參數(shù)量測及檢測三、掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈:產(chǎn)業(yè)鏈、結(jié)構(gòu)與成本四、掩膜版技術(shù)演變:OPC和PSM五、半導(dǎo)體掩
什么是晶圓貼膜
貼膜是指將一片經(jīng)過減薄處理的晶圓(Wafer)固定在一層特殊的膠膜上,這層膜通常為藍(lán)色,業(yè)內(nèi)常稱為“ 藍(lán)膜 ”。貼膜的目的是為后續(xù)的晶圓切割(劃片)工藝做準(zhǔn)備。
解密ePTFE防水透氣膜的耐水壓測試實操指南
膨體聚四氟乙烯膜(又稱ePTFE防水透氣膜)是通過對聚四氟乙烯(PTFE)進(jìn)行快速拉伸處理而形成的一種具有多孔結(jié)構(gòu)的材料。這種獨(dú)特的微孔結(jié)構(gòu)使其在移動電子設(shè)備領(lǐng)域展現(xiàn)出顯著優(yōu)勢,能夠有效改善音頻性能
ePTFE防水透氣膜的可靠性測試哪些項目?
ePTFE防水透氣膜是采用聚四氟乙烯經(jīng)特殊工藝制作而成,形成一種多孔微的透氣不透水材料。主要實現(xiàn)產(chǎn)品內(nèi)部與外界環(huán)境進(jìn)行空氣交換,保持兩者氣壓平衡。它的可靠性測試涵蓋環(huán)境耐受性、機(jī)械性能及長期穩(wěn)定性等
貼片電阻的厚膜與薄膜工藝之別
印刷工藝,通過在陶瓷基底上貼一層鈀化銀電極,再于電極之間印刷一層二氧化釕作為電阻體,其電阻膜厚度通常在100微米左右。而薄膜電阻則運(yùn)用真空蒸發(fā)、磁控濺射等工藝方法,在氧化鋁陶瓷基底上通過真空沉積形成鎳化鉻薄膜,
用SEI實現(xiàn)BiSS-C從機(jī)協(xié)議,發(fā)送TIMEOUT期間CDM如何接收?
用SEI實現(xiàn)BiSS-C從機(jī)協(xié)議,發(fā)送TIMEOUT期間CDM如何接收?
發(fā)表于 04-07 11:09
HPM6E00的SEI使用討論
雖然SEI的SDK覆蓋了大部分協(xié)議,但看寄存器描述的時候還是有個別配置不知道怎么用,比如SYNC_POINT,TXD_POINT這些POINT是根據(jù)什么來計算的
發(fā)表于 03-19 14:53
航空發(fā)動機(jī)渦輪葉片氣膜孔的制造及檢測技術(shù)
氣膜冷卻技術(shù)是支撐航空發(fā)動機(jī)熱端部件承溫能力提升的關(guān)鍵核心技術(shù),使冷卻氣流經(jīng)過氣膜孔等冷卻結(jié)構(gòu)噴射而出,形成覆蓋熱端部件表面的冷卻氣膜,使其免受高溫燃?xì)獾闹苯記_擊。
鉻板掩膜和光刻掩膜的區(qū)別
掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展,特別是智能手機(jī)、平板電腦、車載電子等市場的快速增長
掩膜版、模具與微流控芯片及其制作方法與用途
的玻璃或石英材料制成。通過控制光的傳輸和反射,掩膜版可以將設(shè)計圖案轉(zhuǎn)移到硅片上,并形成芯片上的各種結(jié)構(gòu)。 光罩:制作掩膜版的工具,它是一個透明的平板,上面有一個半導(dǎo)體芯片的圖案。通過使用光罩,可以將芯片的圖案轉(zhuǎn)移到
正性光刻對掩膜版有何要求
正性光刻對掩膜版的要求主要包括以下幾個方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因為它具有較低的熱膨脹系數(shù),能夠在溫度變化時保持尺寸穩(wěn)定
白光干涉儀的膜厚測量模式原理
白光干涉儀的膜厚測量模式原理主要基于光的干涉原理,通過測量反射光波的相位差或干涉條紋的變化來精確計算薄膜的厚度。以下是該原理的詳細(xì)解釋:
一、基本原理
當(dāng)光線照射到薄膜表面時,部分光線會在薄膜表面
SEI膜是怎么形成和變化的?
評論