chinese直男口爆体育生外卖, 99久久er热在这里只有精品99, 又色又爽又黄18禁美女裸身无遮挡, gogogo高清免费观看日本电视,私密按摩师高清版在线,人妻视频毛茸茸,91论坛 兴趣闲谈,欧美 亚洲 精品 8区,国产精品久久久久精品免费

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

我國(guó)首條光子芯片產(chǎn)線明年建成:無(wú)需EUV光刻機(jī)

傳感器專家網(wǎng) ? 2022-10-25 20:26 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

10月14日晚,半導(dǎo)體龍頭企業(yè)士蘭微(600460)披露再融資預(yù)案,65億元募集資金將用于12寸芯片生產(chǎn)線、SiC功率器件生產(chǎn)線和汽車半導(dǎo)體封裝項(xiàng)目的建設(shè)。

來(lái)自《北京日?qǐng)?bào)》的消息,記者從中科鑫通獲悉,國(guó)內(nèi)首條“多材料、跨尺寸”的光子芯片生產(chǎn)線已在籌備,預(yù)計(jì)將于2023年在京建成,可滿足通信、數(shù)據(jù)中心、激光雷達(dá)、微波光子、醫(yī)療檢測(cè)等領(lǐng)域需求,有望填補(bǔ)我國(guó)在光子芯片晶圓代工領(lǐng)域的空白。

據(jù)悉,光子芯片是光電子器件的核心組成部分,與集成電路芯片相比存在多處不同。例如:從性能而言,光子芯片的計(jì)算速度較電子芯片快約1000倍,且功耗更低。從材料而言,InP、GaAS等二代化合物半導(dǎo)體是光子芯片更為常用的材料,而集成電路一般采用硅片。

從制備而言,光子芯片的制備流程與集成電路芯片存在一定相似性,但側(cè)重點(diǎn)在于外延設(shè)計(jì)與制備環(huán)節(jié),而非光刻環(huán)節(jié)。民生證券指出,這也決定了光子芯片行業(yè)中,IDM模式是主流,有別于標(biāo)準(zhǔn)化程度高、行業(yè)分工明確的集成電路芯片。

值得一提的是,相較于電子芯片,光子芯片對(duì)結(jié)構(gòu)的要求較低,一般是百納米級(jí),因此降低了對(duì)先進(jìn)工藝的依賴。中科鑫通總裁隋軍也表示,光子芯片使用我國(guó)已相對(duì)成熟的原材料及設(shè)備就能生產(chǎn),而不像電子芯片一樣,必須使用EUV等極高端光刻機(jī)。

審核編輯 黃昊宇

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1191

    瀏覽量

    48642
  • 光子芯片
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    109

    瀏覽量

    25088
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    俄羅斯亮劍:公布EUV光刻機(jī)路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/吳子鵬)?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中,光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”,而極紫外(EUV光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái),荷蘭 ASML 公
    的頭像 發(fā)表于 10-04 03:18 ?8996次閱讀
    俄羅斯亮劍:公布<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>路線圖,挑戰(zhàn)ASML霸主地位?

    國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)順利出廠

    近日,深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司(簡(jiǎn)稱“穩(wěn)頂聚芯”)宣布,其自主研發(fā)的首臺(tái)國(guó)產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠,標(biāo)志著我國(guó)在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
    的頭像 發(fā)表于 10-10 17:36 ?459次閱讀

    【「AI芯片:科技探索與AGI愿景」閱讀體驗(yàn)】+半導(dǎo)體芯片產(chǎn)業(yè)的前沿技術(shù)

    %。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。 2、晶背供電技術(shù) 3、EUV光刻機(jī)與其他競(jìng)爭(zhēng)技術(shù) 光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的
    發(fā)表于 09-15 14:50

    國(guó)產(chǎn)百噸級(jí)KrF光刻膠樹脂產(chǎn)正式投產(chǎn)

    ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 近日,八億時(shí)空宣布其KrF光刻膠萬(wàn)噸級(jí)半導(dǎo)體制程高自動(dòng)化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)順利建成,標(biāo)志著我國(guó)在中高端
    的頭像 發(fā)表于 08-10 03:26 ?7203次閱讀

    電子直寫光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極

    出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對(duì)電子束質(zhì)量的要求。 只有對(duì)聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇,以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心達(dá)到縮束的目的,使電子束分布在一直線
    發(fā)表于 05-07 06:03

    不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

    在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴
    的頭像 發(fā)表于 03-24 11:27 ?2334次閱讀
    不只依賴<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>!<b class='flag-5'>芯片</b>制造的五大工藝大起底!

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強(qiáng)?目前來(lái)看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?1526次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?778次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)

    如何提高光刻機(jī)的NA值

    本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值?怎樣提高? ? 什么是NA值? ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置,每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA,又名
    的頭像 發(fā)表于 01-20 09:44 ?1950次閱讀
    如何提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的NA值

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?5105次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?3634次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    日本首臺(tái)EUV光刻機(jī)就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日?qǐng)?bào)道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個(gè)階段進(jìn)行安裝,
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?1284次閱讀
    日本首臺(tái)<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>就位

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?3879次閱讀
    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ? 本文介紹了光刻機(jī)芯片制造中的角色和地位,并介紹了光刻機(jī)的工作原理和分類。? ? ? ?? 光刻機(jī)芯片制造的關(guān)鍵角色 ? ?
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?6779次閱讀

    今日看點(diǎn)丨 2011億元!比亞迪單季營(yíng)收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機(jī)

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機(jī),加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報(bào)道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其款High NA
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?1394次閱讀