中微投資！芯元基Micro LED印章巨量轉(zhuǎn)移重大突破
上海芯元基在其獨有的化學(xué)剝離Micro LED的技術(shù)基礎(chǔ)上，成功開發(fā)出了晶圓級印章巨量轉(zhuǎn)移工藝，達到了轉(zhuǎn)移芯片位置零偏差。
芯元基由行業(yè)資深專家郝茂盛博士于2014年創(chuàng)辦，上海創(chuàng)徒、張江科投、中微半導(dǎo)體等先后進行了投資，并在上海臨港建設(shè)了中試生產(chǎn)線。經(jīng)過5年多的潛心研發(fā)，芯元基已經(jīng)形成了以藍寶石復(fù)合圖形襯底技術(shù)（DPSS）、化學(xué)剝離技術(shù)和晶圓級批量轉(zhuǎn)移技術(shù)等為核心的完整技術(shù)體系，這些技術(shù)是制造高端光電子器件的核心技術(shù)，是Micro LED 批量轉(zhuǎn)移的最優(yōu)方案。芯元基的主要技術(shù)在中國、美國、日本、中國臺灣等均已獲專利授權(quán)，打破了該領(lǐng)域核心技術(shù)的國外壟斷，其技術(shù)水平位于全球前列。
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