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三星否認(rèn)MR-RUF方式用于HBM內(nèi)存生產(chǎn)

微云疏影 ? 來源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2024-03-14 16:31 ? 次閱讀
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韓國媒體NEWSIS于3月14日曝出三星電子否認(rèn)路透社其將轉(zhuǎn)用MR-RUF方式生產(chǎn)高帶寬存儲(chǔ)器(HBM)之推測。

實(shí)現(xiàn)HBM的關(guān)鍵所在為多層DRAM堆疊,市場主要采用兩種鍵合作程: SK海力士旗下的MR-RUF與三星的TC-NCF方案。前者為反流焊接粘附DRAM,后填塑模具填充間隙;后者則為熱壓粘連NCF(非導(dǎo)電薄膜)至各DRAM層之間。

隨著DRAM層數(shù)的增多,晶圓厚度需相應(yīng)減小但所需力度卻增大,可能導(dǎo)致翹曲加劇。因此,據(jù)部分分析人士觀點(diǎn),SK海力士采用的MR-RUF方式更有助于控制翹曲問題。

此前路透社報(bào)道提及,三星HBM3芯片良率僅10~20%,遠(yuǎn)遜于SK海力士的60~70%,為此,三星或?qū)で蟛少徣毡酒髽I(yè)提供的MR-RUF模具塑料。

對(duì)此,三星明確表明路透社此報(bào)道不實(shí),公司正采用NCF方案尋找最優(yōu)解。坊間認(rèn)為,由于三星在NCF材料研發(fā)及產(chǎn)量擴(kuò)大方面已投入大量資金,故短期內(nèi)并不宜轉(zhuǎn)換為MR-RUF。IT之家曾報(bào)道,三星擬將MR-RUF技術(shù)運(yùn)用于3DS RDIMM產(chǎn)品之中。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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