4 月 24 日，SK 海力士宣布擴大AI基礎設施，包括HBM在內(nèi)的新一代DRAM產(chǎn)能。該舉措旨在滿足日益增長的AI半導體需求。

當天，公司召開董事會，決定將位于忠清北道清州市的M15X設為新的DRAM生產(chǎn)基地，并計劃投資約5.3萬億韓元（約合279.31億元人民幣）用于工廠建設。

SK海力士將于本月底啟動建設工程，預計2025年11月完工并開始量產(chǎn)。此外，公司還將逐步增加設備投資，預計向M15X投資超過20萬億韓元，以進一步擴大產(chǎn)能。

SK海力士強調(diào)，作為AI應用存儲器領域的領導者，他們期望通過加大對韓國生產(chǎn)基地的投資，推動韓國經(jīng)濟發(fā)展，并鞏固其在半導體行業(yè)的地位。

隨著AI時代的到來，DRAM市場被視為進入中長期增長階段。據(jù)預測，HBM及面向服務器的高容量DDR5模塊的需求將持續(xù)上升，年均增長率有望達60%以上。

為了保證HBM產(chǎn)品的產(chǎn)量達到與普通DRAM同等水平，公司需具備至少兩倍于普通DRAM的生產(chǎn)能力。因此，SK海力士決定在龍仁半導體集群首座工廠竣工（2027年上半年）前，先在清州M15X廠生產(chǎn)新一代DRAM產(chǎn)品。

SK海力士還考慮到M15X廠的地理優(yōu)勢，它毗鄰正在擴充TSV*生產(chǎn)能力的M15廠，有利于優(yōu)化HBM生產(chǎn)。

在推進M15X項目的同時，SK海力士也將按計劃進行韓國國內(nèi)投資，預計總投資額約為120萬億韓元。

目前，龍仁半導體集群的用地在建工程進度已達26%，比預期提前3個百分點。公司已完成生產(chǎn)設施用地補償和文化遺產(chǎn)調(diào)查工作，電力、用水、道路等基礎設施建設也在加快推進。公司計劃明年3月動工興建龍仁半導體集群首座工廠，并于2027年5月竣工。

此外，SK海力士的韓國國內(nèi)投資在SK集團的整體投資中發(fā)揮著關鍵作用。自2012年加入SK集團以來，公司已累計投資46萬億韓元（約合2424.2億元人民幣），主要集中在利川M14廠、清州M15廠和M16廠的建設上。

SK海力士CEO郭魯正表示：“我們相信，M15X將成為全球AI應用存儲器的核心設施，也是公司未來發(fā)展的基石。這次投資不僅有益于公司自身，更將為國家經(jīng)濟的未來發(fā)展注入動力。”