7月4日最新報(bào)道指出，臺(tái)積電正積極研發(fā)并推廣其創(chuàng)新的背面供電網(wǎng)絡(luò)（BSPDN）方案，盡管該方案在實(shí)施復(fù)雜度和成本上均面臨挑戰(zhàn)，但預(yù)計(jì)將于2026年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。當(dāng)前，臺(tái)積電的核心競(jìng)爭(zhēng)力之一在于其領(lǐng)先的超級(jí)電軌（Super Power Rail）架構(gòu)，這一架構(gòu)因其卓越的性能和能效，在高性能計(jì)算（HPC）領(lǐng)域備受推崇，被視為解決復(fù)雜信號(hào)傳輸與高密度供電需求的優(yōu)選方案。

超級(jí)電軌架構(gòu)即將在A16制程工藝中大放異彩，預(yù)示著半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)⒂瓉硇阅芘c能效的雙重飛躍。相較于傳統(tǒng)的N2P工藝，該架構(gòu)在維持相同工作電壓時(shí)，能實(shí)現(xiàn)8%至10%的性能提升；而在速度不變的情況下，功耗則可顯著降低15%至20%，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了1.1倍的密度增加，進(jìn)一步推動(dòng)了半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步。

值得注意的是，背面供電技術(shù)的實(shí)現(xiàn)是一項(xiàng)高度復(fù)雜且技術(shù)密集的任務(wù)。其中，關(guān)鍵技術(shù)之一是將芯片背面精細(xì)打磨至與晶體管緊密接觸的超薄狀態(tài)，這一過程雖精湛，但也對(duì)晶圓的機(jī)械強(qiáng)度構(gòu)成了考驗(yàn)。為此，臺(tái)積電創(chuàng)新性地采用了正面拋光后結(jié)合載體晶圓粘合技術(shù)，有效增強(qiáng)了晶圓在后續(xù)背面加工過程中的穩(wěn)定性，確保了制程的順利推進(jìn)。

此外，納米硅通孔（nTSV）等尖端技術(shù)的融入，更是對(duì)制造工藝的精度和控制能力提出了前所未有的高要求。為了確保納米級(jí)孔道內(nèi)銅金屬的均勻沉積，臺(tái)積電不斷加大投入，引入高端設(shè)備，以支撐這一精密復(fù)雜的生產(chǎn)過程。

展望未來，隨著臺(tái)積電超級(jí)電軌架構(gòu)的逐步量產(chǎn)，其不僅將在半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)部掀起一場(chǎng)性能與能效的新競(jìng)賽，更將帶動(dòng)整個(gè)供應(yīng)鏈上下游的協(xié)同發(fā)展，為整個(gè)行業(yè)注入強(qiáng)勁的發(fā)展動(dòng)力，開啟半導(dǎo)體技術(shù)的新篇章。