大家都知道掩膜版主要由基板、遮光層和保護(hù)膜組成，其中基板（主要采用玻璃基材，包括石英 和蘇打兩種材質(zhì)）占直接原材料成本比重達(dá)90%。
那么什么是掩膜版保護(hù)膜大家知道嗎？
掩膜版保護(hù)膜，mask pellicle，是一種透明的薄膜，在生產(chǎn)中覆蓋在掩膜版的表面。顧名思義， 主要對(duì)掩膜版起物理與化學(xué)保護(hù)作用。
物理保護(hù)：保護(hù)掩膜版表面的圖案免受在搬運(yùn)或使用過(guò)程中的物理?yè)p傷。防止灰塵和其他污染物 落在掩膜版表面。
化學(xué)保護(hù)：防止化學(xué)試劑或腐蝕性氣體與掩膜版表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。

掩膜保護(hù)膜通常分為2類(lèi)：硬掩膜保護(hù)膜和軟掩膜保護(hù)膜。硬掩膜保護(hù)膜通常由耐腐蝕和硬度較高 的材料構(gòu)成，如Si3N4，SiO2，多晶硅等。軟掩膜保護(hù)膜則是由聚合物材料構(gòu)成，硝化纖維樹(shù)脂長(zhǎng) 期以來(lái)在G-線和I-線掩模版的保護(hù)中占據(jù)重要地位。當(dāng)光刻技術(shù)進(jìn)階至DUV波段，硝化纖維樹(shù)脂由 于在這一波段的較高吸收系數(shù)，而影響到掩模版的光學(xué)性能，因此含氟樹(shù)脂，如聚四氟乙烯和其 他含F(xiàn)的聚合物，由于在DUV波段上的優(yōu)異透明度，成為了DUV掩模版保護(hù)膜的熱門(mén)候選材料。

硝化纖維樹(shù)脂硝化纖維樹(shù)脂是一種由纖維素通過(guò)硝化反應(yīng)得到的樹(shù)脂。通常為白色的固體，可溶 于醇、醚、酮類(lèi)等有機(jī)溶劑中。在掩膜版的保護(hù)膜制作中，硝化纖維樹(shù)脂通常會(huì)被溶解在一個(gè)特 定的溶劑中，然后再旋涂到玻璃上，形成一層均勻、透明的薄膜。最后揭下薄膜，切割為合適尺 寸的保護(hù)膜即可。
掩膜保護(hù)膜落上灰塵影響曝光質(zhì)量嗎？不會(huì)。光刻掩膜版上雖然有灰塵，但在投影光刻中，由于 聚焦深度相對(duì)較小，那些遠(yuǎn)離曝光平面的灰塵通常不會(huì)在曝光圖案上產(chǎn)生清晰的影像。也就是說(shuō) ，掩膜保護(hù)膜上的顆粒由于離圖案生成的晶圓太遠(yuǎn)，其影響通常是可以忽略不計(jì)的。

掩膜版加工工藝包括圖形轉(zhuǎn)換、圖形光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、尺寸測(cè)量、缺陷檢查、缺 陷修補(bǔ)、清洗、貼膜、檢查、出貨等步驟。對(duì)應(yīng)的設(shè)備包括光刻機(jī)、顯影機(jī)、蝕刻機(jī)、清洗機(jī)、 測(cè)量?jī)x、LCVD修補(bǔ)設(shè)備、CD測(cè)量機(jī)、壁障修補(bǔ)機(jī)、面板修補(bǔ)設(shè)備、TFT檢查設(shè)備、貼膜機(jī)等。其中，光刻為加工的核心工藝。平板顯示、半導(dǎo)體、觸控等行業(yè)基本都采用掩膜版作為基準(zhǔn)圖案 進(jìn)行曝光復(fù)制量產(chǎn)，無(wú)掩膜光刻技術(shù)精度低，主要用于電路板行業(yè)。

審核編輯 黃宇