光刻掩模是光的一種掩蔽模片，其作用有類(lèi)似于照相的通過(guò)它，可以使它“底下“的光劑部分成光，難溶于有機(jī)藥品，一部分不感光，易溶于有機(jī)藥品，以而制得選擇擴(kuò)散所需的窗口和互速所需的圖案。
掩膜版有兩種：一種是在涂有普通乳膠的照相干版上，依據(jù)掩模原圖，用照相方法制成的；另一種是在鍍有一薄層金屬（通常為鉻）的玻璃版上，用光刻法在金屬層上刻蝕出所需圖形而制成的。為了使每塊硅片能同時(shí)制作幾十至幾千個(gè)管芯或電路，掩模版上相應(yīng)有幾十至幾千個(gè)規(guī)則地重復(fù)排列的同一圖形。每個(gè)圖形之間具有一定的間隔，以便制好管芯或電路后進(jìn)行劃片分割。制作一種平面晶體管或集成電路，需要有一組（幾塊至十幾塊）可以相互精確套刻的掩模版。對(duì)掩版的基夲求是：精度高、套刻準(zhǔn)、反差強(qiáng)和酎磨損。
芯片掩膜（光刻掩膜）的保存方法對(duì)于保持其精度和避免損壞至關(guān)重要。以下是一些建議的保存方法：
1、使用專用容器?：將掩膜放置在專用的容器或盒子中，這些容器通常具有保護(hù)性的內(nèi)襯，可以防止劃傷和污染。
2、?避免直接接觸?：在處理和存放掩膜時(shí)，應(yīng)盡量避免直接用手或其他物體接觸掩膜的有藥膜一面（即亞光面），以防止藥膜磨損或污染。
3、使用保護(hù)材料?：可以使用塑料薄膜、自封袋或真空袋等保護(hù)材料來(lái)包裹掩膜，以減少灰塵、濕氣和其他污染物的接觸。
4、控制環(huán)境?：將掩膜存放在干燥、清潔、無(wú)塵的環(huán)境中，避免暴露在潮濕、高溫或有腐蝕性氣體的環(huán)境中。如果條件允許，可以存放在氮?dú)夤窕蚋稍锵渲?，以進(jìn)一步減少濕氣和氧氣的接觸。
5、?避免堆疊?：在存放時(shí)，應(yīng)避免將掩膜堆疊在一起，以防止相互之間的劃傷和壓痕。
6、?定期檢查?：定期檢查掩膜的保存狀態(tài)，包括檢查是否有劃痕、污染或變形等情況。如果發(fā)現(xiàn)任何問(wèn)題，應(yīng)及時(shí)處理或更換。
7、遵循制造商建議?：不同制造商的掩膜可能具有不同的保存要求，因此應(yīng)遵循制造商提供的具體建議和指導(dǎo)。
8、?記錄保存信息?：記錄掩膜的保存位置、時(shí)間、環(huán)境條件和任何相關(guān)的維護(hù)或檢查記錄，以便在需要時(shí)能夠追溯和驗(yàn)證其保存狀態(tài)。
需要注意的是，芯片掩膜是精密的光學(xué)元件，其保存方法應(yīng)確保其在長(zhǎng)期存放過(guò)程中保持高精度和穩(wěn)定性。因此，在保存過(guò)程中應(yīng)格外小心和謹(jǐn)慎。
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審核編輯 黃宇