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相位型SLM硬件產品面型性能提升

西安中科微星 ? 來源:西安中科微星 ? 2024-09-21 11:44 ? 次閱讀
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背景介紹

作為一種動態(tài)可編程光學元件,液晶空間光調制器(LC-SLM)在波前整形和光束控制等精密光學調控應用中發(fā)揮著非常重要的作用。典型的純相位SLM工作原理是通過加載的電壓控制在每個液晶像素處誘導相位延遲,實現對入射光波波前的調控。

隨著光場調控技術朝著精細化方向發(fā)展,對相位型LC-SLM的調制精度提出了更高的要求。如:在超快智能加工領域需求相位型SLM實現高相位調制精度的波前精細調控;在顯微成像領域需求相位型SLM實現高信噪比、高分辨率的成像;在無接觸光學微操縱領域需求相位型SLM實現高精度、高效的微粒捕獲等。然而, 通常商用SLM會出現相位失真,導致LCOS器件在波前控制實際應用中存在諸多問題:如光利用效率低、調制精度差,最終無法實現相應的功能。

追其本源,相位失真主要由SLM物理結構和環(huán)境條件的相位調制非線性和不均勻性引起,具體可歸因于兩個因素:

1)施加在液晶(LC)上的錯誤驅動電信號;

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圖1 動態(tài)調制LUT調制誤差

2) SLM襯底或背板曲率和LC層厚度不均勻引起的畸變;

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圖2 SLM硬件引入畸變

前者屬于驅動模塊控制誤差導致動態(tài)相位響應誤差,可通過LUT來實現修正;而后者屬于產品器件的固有特性,會影響效率和波前質量,調制的相位輪廓的精度相對較低,直接影響了相位調制的精度。為了解決這一問題,需要對SLM的硬件(光閥)進行面型測量及修正。

SLM面型測試和校準原理

為了響應基于高精度相位調制的應用需求,同時提升SLM產品性能,中科微星基于泰曼-格林干涉法開發(fā)了測量SLM的靜態(tài)波面誤差和修正技術,系統(tǒng)光路示意如圖3所示,具體工作原理:在激光光束擴束和準直之后形成平面波,經分束器(BS)分成兩個光束,一束光經BS透射照射到SLM,并經SLM調制后反射;另一束光經BS反射照射到參考鏡,并經參考鏡反射,經SLM調制后的反射光與經平面鏡(M)反射的光通過BS時發(fā)生干涉,然后CCD可通過其前端配置的4f系統(tǒng)對干涉條紋進行采集和記錄。

wKgaombtEQWAcDrGAAC89GTYXF4143.png

圖3 泰曼格林干涉測量光路

將SLM置于圖3中所示的位置,通過光路系統(tǒng)中CCD采集干涉條紋,圖4為測得的SLM干涉條紋。

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圖4 采集的干涉條紋圖

然后通過干涉條紋處理算法可得到SLM初始面型圖像和數據;通過面型修正算法可得到SLM修正后面型數據和圖像,并用常用的面型評價指標PV、RMS進行量化表征。下表1列舉的為測試和修正的3種SLM的測試和修正面型圖像和數據。

表1 不同類型SLM初始及修正后面型

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從上表可得到:修正后面型相較于初始面型,面型基本趨于平坦度,面型精度RMS基本可達1/35λ@632.8nm。

面型校準對調制效果的影響

為了更好對比面型修正前后SLM的調制性能,通過搭建實際光場測試系統(tǒng)測試了3種常用光束(高斯光束、艾里光束、渦旋光束)修正前后調制效果。

表2 SLM面型修正前后對實際光場調試結果

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從上述測試結果可以得到,修正后的SLM調制效果會更完美,更接近于理論效果。

產品推出

公司最新3.0軟件已經預留面型補償接口,支持相位型SLM(針對532nm和635nm)面型檢測和修正標定,根據不同工作波長配置相應的面型修正文件,并通過配套軟件實現面型修正的補償。

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