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薄膜表面處理(上):常壓輝光放電技術(shù)的效率密碼

陳大露 ? 來源:jf_27325854 ? 作者:jf_27325854 ? 2025-09-02 10:56 ? 次閱讀
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你能想到嗎?薄膜也是要做表面處理的。薄膜容不容易被油墨附著,能不能防靜電等等,這些關(guān)鍵性能都可以通過專門的表面處理技術(shù)實現(xiàn)。今天來給大家介紹薄膜表面處理中一項常見且高效的技術(shù)——常壓輝光放電技術(shù)。在薄膜制造中,提升材料表面的清潔度、潤濕性和粘附力是不小的挑戰(zhàn),這項技術(shù)正是應(yīng)對這些挑戰(zhàn)的有力工具之一。


一、 常壓環(huán)境下的活性賦能

常壓輝光放電處理直接在常壓(或近常壓)空氣環(huán)境中運行。通過高壓電場電離工作氣體(常為空氣、氮氣或氬氣),產(chǎn)生穩(wěn)定的輝光放電等離子體,其中富含高活性粒子(電子、離子、自由基)。這些高能粒子與材料表面發(fā)生雙重作用:

物理轟擊:剝離污染物,在納米尺度微刻蝕表面。

化學反應(yīng):活性粒子與表面分子反應(yīng),引入極性官能團(如羥基-OH、羧基-COOH),改變表面化學性質(zhì)。

核心優(yōu)勢:常壓環(huán)境和輝光放電特性

1. 高效連續(xù):省去真空腔體與抽氣耗時,完美適配卷對卷或片對片高速生產(chǎn)線,可在線集成于涂布、印刷、復(fù)合等工序之前,顯著提升生產(chǎn)效率。

2.運行經(jīng)濟環(huán)保:設(shè)備結(jié)構(gòu)相對簡化,能耗較低;主要利用空氣或少量氣體,極少或無需化學溶劑,減少VOC排放,工藝更綠色。

3.適用形態(tài)廣泛:對處理對象形狀限制小,尤其擅長處理大面積、平整或輕度曲面的薄膜、箔材、片材。輝光放電形態(tài)本身也提供了相對均勻的處理區(qū)域。


二、典型應(yīng)用材料與處理效果

常壓輝光放電技術(shù)廣泛適用于:

聚合物薄膜:PET (包裝/標簽)、BOPP (包裝)、PE (包裝/農(nóng)膜)、PP、PI (柔性電路基材預(yù)處理)、PC (保護膜)。

效果:高效清潔、表面活化 (顯著提高親水性)。

金屬箔材:銅箔、鋁箔 (電池集流體/電容器)。效果:去除輕微油污/氧化層,清潔活化,優(yōu)化后續(xù)涂覆結(jié)合力。

纖維與多孔材料:紙張 (特種印刷/包裝)、無紡布 (醫(yī)療)、紡織品 (功能涂層基布)。

效果:改善親水性,增強油墨/膠水/涂層滲透與附著。

復(fù)合薄膜界面:提升多層結(jié)構(gòu)層間結(jié)合強度。

處理后帶來的關(guān)鍵表面變化:

深度清潔、表面活化與親水化、微觀錨固增強、綜合性能提升


三、 技術(shù)特性與客觀邊界

常壓輝光放電以其高效、經(jīng)濟、易集成的優(yōu)勢,成為規(guī)?;a(chǎn)的優(yōu)選方案。然而,其技術(shù)特性也決定了其在面對更高要求時存在固有邊界。

均勻性與處理深度極限:

常壓環(huán)境下,即使形成輝光放電,其均勻性和穿透深度在處理要求納米級極致均勻或分子級深層作用(如超精密光學膜、高端電子基材)時面臨挑戰(zhàn)。

精密化學改性受限:

常壓開放環(huán)境限制了特定氣氛的精確控制,難以實現(xiàn)高度定制化、復(fù)雜的表面化學官能團引入。


下期預(yù)告

當應(yīng)用需求超越這些邊界——追求分子級潔凈、納米級均勻、深度精密改性或特殊氣體處理時,技術(shù)的重心便轉(zhuǎn)向了在嚴格可控的真空環(huán)境中運行的卷對卷等離子體技術(shù)。這正是下篇將深入探討的核心,揭示其如何滿足高精尖薄膜表面處理的嚴苛要求。

審核編輯 黃宇

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