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各企業(yè)積極投入FD-SOI元件開發(fā) 看好后續(xù)市場(chǎng)發(fā)展

半導(dǎo)體動(dòng)態(tài) ? 來源:工程師吳畏 ? 2019-05-22 17:22 ? 次閱讀
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為求低功耗、高能效及高性價(jià)比之元件,市場(chǎng)逐漸開發(fā)出FD-SOI(完全空乏型硅絕緣層金氧半晶體管)結(jié)構(gòu);而FD-SOI構(gòu)造主要以SOI晶圓為核心,透過傳統(tǒng)Si芯片制程方式,進(jìn)而以水平式晶體管架構(gòu),取代線寬較大(16~12nm)之FinFET元件。

進(jìn)一步分析FD-SOI市占情形,在各廠商相繼投入開發(fā)資源下,2018年整體元件市場(chǎng)規(guī)模達(dá)160億美元,預(yù)估2019年整體市場(chǎng)可望達(dá)到270億美元(年增68.6%),后續(xù)成長(zhǎng)態(tài)勢(shì)也將逐年上揚(yáng)。

技術(shù)的發(fā)展演進(jìn),F(xiàn)D-SOI實(shí)現(xiàn)低功耗、高性價(jià)比之元件架構(gòu)

由于半導(dǎo)體發(fā)展趨勢(shì),使得相同面積下試圖填入更多晶體管的想法逐漸受到重視,因此衍生出微縮整體尺寸的構(gòu)想,而閘極(Gate)尺寸將是微縮重點(diǎn)。以傳統(tǒng)Planar元件發(fā)展來看,其閘極線寬已微縮至極限,因而需改變?cè)Y(jié)構(gòu)才能因應(yīng)此要求,而立體構(gòu)造的FinFET(鰭式場(chǎng)效晶體管)元件就在此時(shí)被開發(fā)出來。

FinFET名稱主要由于元件結(jié)構(gòu)以立體方式呈現(xiàn),且其閘極構(gòu)造如同魚鰭一般,豎立于源極(Source)與汲極(Drain)間,作為控制元件的開關(guān)。在這樣新穎結(jié)構(gòu)下,雖可符合微縮尺寸之需求,但最大問題仍是閘極線寬必須在16nm以下(如12nm、10nm),才能有效控制從源極到汲極間的電流開關(guān)。

依現(xiàn)行元件發(fā)展情形,盡管已從傳統(tǒng)的Planar元件推升至FinFET結(jié)構(gòu),閘極線寬仍存在一段難以使用上的尺寸區(qū),還需有其他元件技術(shù)加以補(bǔ)足,而FD-SOI元件結(jié)構(gòu)剛好補(bǔ)上此缺口,實(shí)現(xiàn)低功耗、高性價(jià)比、制造周期短之元件架構(gòu)。

對(duì)于現(xiàn)行技術(shù)發(fā)展情形,依照所需元件尺寸及功能的不同,可區(qū)分為兩大陣營(yíng):

精進(jìn)于微縮閘極線寬之FinFET制程技術(shù)開發(fā)(如臺(tái)積電、Samsung等),試圖增加晶體管數(shù)量,提升整體元件工作效率;

投入FD-SOI制程技術(shù),嘗試開發(fā)出低功耗、高性價(jià)比之功能性元件。盡管兩者之歷史脈絡(luò)有所不同、技術(shù)上各有千秋,但就元件技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)評(píng)估,兩者技術(shù)仍將持續(xù)發(fā)展及并存。

各企業(yè)積極投入FD-SOI元件開發(fā) 看好后續(xù)市場(chǎng)發(fā)展

各家大廠投入FD-SOI元件開發(fā),看好后續(xù)市場(chǎng)發(fā)展

FD-SOI元件技術(shù)主要源于一種水平式晶體管結(jié)構(gòu),透過SOI晶圓(Si/SiO2(Buried Oxide)/Si Substrate結(jié)構(gòu))方式,將最上層Si層借由制程、設(shè)計(jì)以滿足所需功能,并作為元件導(dǎo)通層之用;而中間SiO2層,憑借于高阻值之材料特性,隔絕晶體管間不必要的寄生電容,提高元件工作效率,因此在這樣的制程條件下,F(xiàn)D-SOI可透過傳統(tǒng)Si芯片的機(jī)臺(tái)進(jìn)行加工,降低開發(fā)所需的設(shè)備成本。

依現(xiàn)行終端產(chǎn)品應(yīng)用,F(xiàn)D-SOI元件技術(shù)將可應(yīng)用于物聯(lián)網(wǎng)IoT、車用元件與MEMS微機(jī)電)元件等領(lǐng)域,目前已有Samsung、GlobalFoundries、STM等大廠相繼投入制程開發(fā)上。

雖然這些產(chǎn)品大多可由28nm制程條件下進(jìn)行量產(chǎn),但隨著技術(shù)進(jìn)步,憑借于閘極線寬逐漸微縮的趨勢(shì)帶動(dòng)下,將驅(qū)使制程條件朝向22nm、12nm目標(biāo)邁進(jìn),甚至進(jìn)一步跨入10nm制程,從而在相同面積下產(chǎn)生更多元件,大幅提升整體元件效率。

觀察采用FD-SOI元件的發(fā)展現(xiàn)況,從2017年開始,STM已收到Mobileye訂單需求,并運(yùn)用28nm制程制造ADAS芯片;NXP也于2017年起,積極投入i.MX處理器系列的開發(fā),并選擇Samsung FD-SOI之28nm制程技術(shù)為合作伙伴。

另外,GlobalFoundries于2018年取得新創(chuàng)公司Arbe Robotics訂單,其FD-SOI元件將使用先進(jìn)的22nm制程技術(shù),目標(biāo)打造車用雷達(dá)芯片。由此可見,各家廠商在車用芯片領(lǐng)域,使用FD-SOI技術(shù)已成為一股風(fēng)潮,后續(xù)仍看好該技術(shù)的市場(chǎng)發(fā)展。

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