南大光電預計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線
7月17日，南大光電在互動平臺透露，公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部，并成立了全資子公司“寧波南大光電材料有限公司”，全力推進“ArF光刻膠開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目”落地實施。目前該項目完成的研發(fā)技術(shù)正在等待驗收中，預計2019年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線，項目產(chǎn)業(yè)化基地建設(shè)順利。
資料顯示，南大光電是一家專業(yè)從事高純電子材料研發(fā)、生產(chǎn)和銷售的高新技術(shù)企業(yè)，公司于2012年8月7日在深圳證券交易所創(chuàng)業(yè)板掛牌上市。
憑借30多年來的技術(shù)積累優(yōu)勢，南大光電先后攻克了國家863計劃MO源全系列產(chǎn)品產(chǎn)業(yè)化、國家“02—專項”高純電子氣體（砷烷、磷烷）研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化、ALD/CVD前驅(qū)體產(chǎn)業(yè)化等多個困擾我國數(shù)十年的項目，填補了多項國內(nèi)空白。2017年，南大光電承擔了集成電路芯片制造用關(guān)鍵核心材料之一的193nm光刻膠材料的研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化項目。
通過承擔國家重大技術(shù)攻關(guān)項目并實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化，南大光電形成了MO源、電子特氣、ALD/CVD前驅(qū)體材料和光刻膠四大業(yè)務板塊。
聲明：本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題，請聯(lián)系本站處理。
舉報投訴
-
光刻膠
+關(guān)注
關(guān)注
10文章
345瀏覽量
31384 -
南大光電
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
20瀏覽量
5081
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
熱點推薦
光刻膠剝離工藝
（N-甲基吡咯烷酮）、乳酸乙酯等強極性溶劑溶脹并溶解光刻膠分子鏈，適用于傳統(tǒng)g線/i線正膠體系。例如，NMP因低蒸氣壓可加熱至80℃以增強對交聯(lián)型光刻膠的去除能力
國產(chǎn)百噸級KrF光刻膠樹脂產(chǎn)線正式投產(chǎn)
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日，八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成，標志著我國在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進程邁出關(guān)鍵
國產(chǎn)光刻膠突圍，日企壟斷終松動
厚膠量產(chǎn)到ArF浸沒式膠驗證，從樹脂國產(chǎn)化到EUV原料突破，一場靜默卻浩蕩的技術(shù)突圍戰(zhàn)已進入深水區(qū)。 ? 例如在248nm波長的KrF光刻膠武漢太紫微的T150A
減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
? ? 引言 ? 在半導體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
光刻膠產(chǎn)業(yè)國內(nèi)發(fā)展現(xiàn)狀
如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠
光刻膠剝離液及其制備方法及白光干涉儀在光刻圖形的測量
引言 在半導體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時，精準測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了
光刻膠的類型及特性
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
【「芯片通識課：一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗】了解芯片怎樣制造
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務:技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機，蝕刻機，離
發(fā)表于 03-27 16:38
光刻膠成為半導體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導體制造等領(lǐng)域的一種重要材料，在整個電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中，感光樹脂決定了光刻膠的感光度和分辨率等關(guān)鍵性能，增感劑有助于提高
三星減少NAND生產(chǎn)光刻膠使用量
近日，據(jù)相關(guān)報道，三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉，三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存的生產(chǎn)路線圖，并計劃在這
光刻膠清洗去除方法
光刻膠作為掩模進行干法刻蝕或是濕法腐蝕后，一般都是需要及時的去除清洗，而一些高溫或者其他操作往往會導致光刻膠碳化難以去除。
一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望
光刻技術(shù)是現(xiàn)代微電子和納米技術(shù)的研發(fā)中的關(guān)鍵一環(huán)，而光刻膠，又是光刻技術(shù)中的關(guān)鍵組成部分。隨著技術(shù)的發(fā)展，對微小、精密的結(jié)構(gòu)的需求日益增強，光刻膠
友達光電的Micro LED生產(chǎn)線預計2025年啟動量產(chǎn)
友達光電正全力打造全球頂尖的4.5代Micro LED生產(chǎn)線，預計今年10月竣工，旨在引領(lǐng)Micro LED市場潮流。該生產(chǎn)線計劃于2025年
工商網(wǎng)監(jiān)
評論