動態(tài)
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發(fā)布了文章 2025-04-11 12:20
引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革的先鋒陶瓷材料
陶瓷材料正經(jīng)歷從傳統(tǒng)制造向智能材料的革命性跨越,其角色已從工業(yè)配套升級為科技創(chuàng)新的核心驅(qū)動力。隨著新能源、人工智能、生物醫(yī)療等戰(zhàn)略性產(chǎn)業(yè)的爆發(fā)式增長,陶瓷材料的性能優(yōu)勢在多維度應(yīng)用場景中持續(xù)釋放,形成跨界融合的產(chǎn)業(yè)新生態(tài)。以下深度解析十類引領(lǐng)產(chǎn)業(yè)變革的先鋒陶瓷材料及其戰(zhàn)略價值:01片式多層陶瓷電容器(MLCC)作為現(xiàn)代電子工業(yè)的'細(xì)胞級'元件,MLCC占據(jù)全 -
發(fā)布了文章 2025-04-09 06:22
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發(fā)布了文章 2025-04-07 06:50
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發(fā)布了文章 2025-04-06 06:34
芯片級散熱技術(shù)的發(fā)展趨勢探討
01算力發(fā)展與芯片熱管理隨著數(shù)字化轉(zhuǎn)型、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的普及、云計算的擴(kuò)展、以及人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)技術(shù)的廣泛應(yīng)用,全球每年新產(chǎn)生的數(shù)據(jù)總量隨著數(shù)字化的發(fā)展快速增長。根據(jù)IDC和華為GIV團(tuán)隊預(yù)測,2020年全球每年產(chǎn)生數(shù)據(jù)量約2ZB,2025年可達(dá)到175ZB,2030年將達(dá)到1003ZB,即將進(jìn)入YB(1YottaBytes=1000ZettaBytes)時代 -
發(fā)布了文章 2025-04-05 08:20
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發(fā)布了文章 2025-03-23 06:34
AI新時代 | 芯片級散熱技術(shù)的發(fā)展趨勢
一、算力發(fā)展與芯片熱管理隨著數(shù)字化轉(zhuǎn)型、物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備的普及、云計算的擴(kuò)展、以及人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)技術(shù)的廣泛應(yīng)用,全球每年新產(chǎn)生的數(shù)據(jù)總量隨著數(shù)字化的發(fā)展快速增長。根據(jù)IDC和華為GIV團(tuán)隊預(yù)測,2020年全球每年產(chǎn)生數(shù)據(jù)量約2ZB,2025年可達(dá)到175ZB,2030年將達(dá)到1003ZB,即將進(jìn)入YB(1YottaBytes=1000ZettaBytes)時代 -
發(fā)布了文章 2025-03-21 06:31
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發(fā)布了文章 2025-03-18 13:59
半導(dǎo)體材料介紹 | 光刻膠及生產(chǎn)工藝重點企業(yè)
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時,若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類1k瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-14 07:20
半導(dǎo)體芯片集成電路工藝及可靠性概述
半導(dǎo)體芯片集成電路(IC)工藝是現(xiàn)代電子技術(shù)的核心,涉及從硅材料到復(fù)雜電路制造的多個精密步驟。以下是關(guān)鍵工藝的概述:1.晶圓制備材料:高純度單晶硅(純度達(dá)99.9999999%),通過直拉法(Czochralski)生長為圓柱形硅錠。切割與拋光:硅錠切割成0.5-1mm厚的晶圓(常見尺寸12英寸/300mm),經(jīng)化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)達(dá)到納米級平整度。2.氧630瀏覽量 -
發(fā)布了文章 2025-03-13 17:31