電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009690 
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會(huì)獲得臺(tái)積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款光刻機(jī)又能帶來哪些優(yōu)勢？本文進(jìn)行詳細(xì)分析。
2025-07-24 09:29:397818 
根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目，設(shè)備數(shù)量為一臺(tái)，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億元
2025-12-26 08:35:004285 
速程精密音圈執(zhí)行器為高端裝備注入精準(zhǔn)動(dòng)能 在高端制造向 “極致精密” 與 “高效協(xié)同” 邁進(jìn)的進(jìn)程中，音圈執(zhí)行器作為裝備的 “傳動(dòng)神經(jīng)”，其性能直接決定生產(chǎn)效率與產(chǎn)品品質(zhì)。深圳市速程精密科技有限公司
2025-12-19 14:07:18130 速程精密音圈執(zhí)行器解鎖高端制造新可能 在精密傳動(dòng)技術(shù)成為高端裝備核心競爭力的當(dāng)下，音圈執(zhí)行器的性能表現(xiàn)直接決定產(chǎn)線效率與產(chǎn)品精度。深圳市速程精密科技有限公司憑借多年深耕精密傳動(dòng)領(lǐng)域的技術(shù)積淀，以
2025-12-19 14:03:29116 在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26424 音圈執(zhí)行器如何助力智能制造?速程精密給出高效答案 在智能制造向深度自動(dòng)化、極致精密化邁進(jìn)的浪潮中，核心傳動(dòng)部件的性能直接決定產(chǎn)業(yè)升級的速度與質(zhì)量。作為國家級專精特新企業(yè)，深圳市速程精密科技有限公司
2025-11-07 11:26:12273 ” 上 —— 不是部件不好，而是沒找對從設(shè)計(jì)到落地的適配邏輯。而最近被很多工廠認(rèn)可的音圈執(zhí)行器，恰恰在 “按需適配” 這件事上做得格外到位，今天就來聊聊它是怎么精準(zhǔn)匹配不同自動(dòng)化需求的。? 先從設(shè)計(jì)源頭說起，音圈執(zhí)行器的適
2025-10-29 15:32:12226 在半導(dǎo)體濕法腐蝕工藝中，選擇合適的掩模圖形以控制腐蝕區(qū)域是一個(gè)關(guān)鍵環(huán)節(jié)。以下是一些重要的考慮因素和方法： 明確設(shè)計(jì)目標(biāo)與精度要求 根據(jù)器件的功能需求確定所需形成的微觀結(jié)構(gòu)形狀、尺寸及位置精度。例如
2025-10-27 11:03:53312 自動(dòng)化產(chǎn)線帶來這么明顯的產(chǎn)能提升?深入了解后才發(fā)現(xiàn)，越來越多工廠都在靠音圈執(zhí)行器 “提效”，甚至有人說它是 “自動(dòng)化產(chǎn)線的產(chǎn)能加速器”。? 先從半導(dǎo)體行業(yè)的例子說起。有家做芯片封裝的工廠，之前用傳統(tǒng)傳動(dòng)部件時(shí)，最頭疼的就是機(jī)
2025-10-24 11:23:09222 能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ，在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時(shí)，消除對昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級封裝領(lǐng)域的無掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級封裝制造領(lǐng)域，這類光刻機(jī)無需光
2025-10-20 09:55:15887 在工業(yè)自動(dòng)化領(lǐng)域，可控硅光耦憑借其電氣隔離與信號精準(zhǔn)傳遞特性，成為電機(jī)調(diào)速系統(tǒng)的核心元件。晶臺(tái)光電推出的可控硅光耦，通過光耦合技術(shù)實(shí)現(xiàn)控制電路與高壓主回路的完全隔離，有效避免電磁干擾對微處理器
2025-10-17 08:56:371800 
近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺(tái)國產(chǎn)高精度步進(jìn)式光刻機(jī)已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進(jìn)展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進(jìn)式光刻機(jī)屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 的均勻性直接影響光刻工藝中曝光深度、圖形轉(zhuǎn)移精度等關(guān)鍵參數(shù) 。當(dāng)前，如何優(yōu)化玻璃晶圓 TTV 厚度在光刻工藝中的反饋控制，以提高光刻質(zhì)量和生產(chǎn)效率，成為亟待研究的重要
2025-10-09 16:29:24575 
在眾多制造工藝中，激光焊接技術(shù)因其高精度、低熱影響和優(yōu)異的一致性，已成為栓塞彈簧圈生產(chǎn)過程中不可或缺的關(guān)鍵工藝。該技術(shù)能夠滿足醫(yī)療設(shè)備對精密焊接的嚴(yán)苛要求，確保產(chǎn)品的安全性和有效性。下面來看看激光
2025-09-24 15:33:49336 
滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級定位精度等特性，成為光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、貼片機(jī)等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動(dòng)元件，直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20602 
method”為題發(fā)表在Optics Express上。 全息光刻相比于主流的投影式光刻，不需要復(fù)雜的投影物鏡系統(tǒng)，設(shè)備成本更低，比傳統(tǒng)接近式光刻的分辨率更高，并且對掩模缺陷不敏感
2025-09-19 09:19:56443 
確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
2025-09-18 11:24:23914 
PO系列機(jī)床分中在機(jī)測量頭可安裝在大多數(shù)數(shù)控機(jī)床上，針對尺寸偏差自動(dòng)進(jìn)行機(jī)床及刀具的補(bǔ)償，加工精度高。不需要工件來回運(yùn)輸和等待時(shí)間，能自動(dòng)測量、自動(dòng)記錄、自動(dòng)校準(zhǔn)，達(dá)到降低人力成本、提高機(jī)床加工精度
2025-09-16 15:20:15
%。至少將GAA納米片提升幾個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機(jī)與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點(diǎn)的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計(jì)好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細(xì)
2025-09-15 14:50:58
H188霍爾元件在天窗防夾電機(jī)中可通過監(jiān)測電機(jī)轉(zhuǎn)速變化，結(jié)合防夾算法實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)障礙物檢測與電機(jī)反轉(zhuǎn)控制，同時(shí)滿足美標(biāo)等高防夾力標(biāo)準(zhǔn)要求，提升系統(tǒng)安全性與可靠性。 以下是DH188在天窗防夾電機(jī)中的具體
2025-09-05 14:07:39468 激戰(zhàn)正酣，這項(xiàng)中國足球職業(yè)體系中的基礎(chǔ)賽事，不僅是新生代球員成長的搖籃，也成為各地方電視臺(tái)展現(xiàn)實(shí)力、服務(wù)本土球迷的重要舞臺(tái)。山西與吉林臺(tái)賽事轉(zhuǎn)播技術(shù)要求山西電視臺(tái)與
2025-09-04 14:15:54865 
引言 晶圓光刻圖形是半導(dǎo)體制造中通過光刻工藝形成的微米至納米級三維結(jié)構(gòu)（如光刻膠線條、接觸孔、柵極圖形等），其線寬、高度、邊緣粗糙度等參數(shù)直接決定后續(xù)蝕刻、沉積工藝的精度，進(jìn)而影響器件性能。傳統(tǒng)
2025-09-03 09:25:20648 
工業(yè)數(shù)據(jù)中臺(tái)在智能制造中扮演著 核心基礎(chǔ)設(shè)施 的角色，通過整合、管理和利用全鏈條工業(yè)數(shù)據(jù)，推動(dòng)工廠從“自動(dòng)化”向“智慧化”升級。其作用可系統(tǒng)歸納為以下六大維度： 一、打通數(shù)據(jù)孤島，構(gòu)建統(tǒng)一數(shù)據(jù)基底
2025-08-26 14:29:58577 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
“所見即所得”，極大提升了操作便捷性和工藝可控性。其獨(dú)特的光路結(jié)構(gòu)和高精度直線電機(jī)位移臺(tái)確保了卓越的曝光精度和重復(fù)定位能力，同時(shí)配備CCD相機(jī)逐場自動(dòng)對焦系統(tǒng)，進(jìn)一步優(yōu)化
2025-08-15 15:11:55
全國首臺(tái)國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)問世，精度比肩國際主流 ? 近日，全國首臺(tái)國產(chǎn)商業(yè)電子束光刻機(jī)"羲之"在浙大余杭量子研究院完成研發(fā)并進(jìn)入應(yīng)用測試階段。該設(shè)備精度達(dá)到0.6nm，線寬
2025-08-15 10:15:172936 
在科技飛速發(fā)展的今天，攝像機(jī)云臺(tái)和消費(fèi)電機(jī)在我們的生活中扮演著越來越重要的角色。從專業(yè)的影視拍攝到日常生活中的智能設(shè)備，它們的應(yīng)用場景日益廣泛。而一個(gè)優(yōu)秀的驅(qū)動(dòng)方案對于這些設(shè)備的性能表現(xiàn)至關(guān)重要。今天，我們就來深入解析一下MS3142集成方案，看看它為何能成為攝像機(jī)云臺(tái)與消費(fèi)電機(jī)的理想驅(qū)動(dòng)。
2025-08-14 17:44:18612 
電子束光刻（EBL）是一種無需掩模的直接寫入式光刻技術(shù)，其工作原理是通過聚焦電子束在電子敏感光刻膠表面進(jìn)行納米級圖案直寫。
2025-08-14 10:07:212552 
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡稱：芯上微裝，英文簡稱：AMIES）第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341988 
? ? 時(shí)隔21年，佳能再開新光刻機(jī)工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時(shí)隔21年開設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173 7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 研發(fā)到量產(chǎn)的跨越，65nm產(chǎn)品已開始送樣驗(yàn)證。 ? 掩模版也稱光罩，是集成電路制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或者母板，載著圖形信息和工藝技術(shù)信息，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。掩模版的作用是將承載的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅
2025-07-30 09:19:5010524 
在各類自動(dòng)化設(shè)備和智能裝置中，電機(jī)是重要的執(zhí)行部件，而單片機(jī)作為控制核心，需要通過特定的方式驅(qū)動(dòng)電機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)。單片機(jī)驅(qū)動(dòng)電機(jī)并非直接連接即可，而是要根據(jù)電機(jī)類型和功率，搭配合適的驅(qū)動(dòng)電路，才能實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定
2025-07-25 09:31:26527 極紫外光刻（EUVL）技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源，其工作原理是利用波長為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956 
奧松傳感傳來好消息，在7月14日11時(shí)38分，重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地（下稱“奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目”）迎來具有里程碑意義的時(shí)刻——8英寸生產(chǎn)線首臺(tái)光刻機(jī)設(shè)備，在眾人關(guān)切注視的目光中平穩(wěn)進(jìn)場。 首臺(tái)
2025-07-17 16:33:121559 
在電線生產(chǎn)領(lǐng)域，電線成圈機(jī)是實(shí)現(xiàn)電線規(guī)整纏繞、保證產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵設(shè)備。如今的電線成圈機(jī)普遍配備可編程邏輯控制器（PLC），對成圈速度、張力控制、排線精度等關(guān)鍵環(huán)節(jié)進(jìn)行精準(zhǔn)調(diào)控。但在實(shí)際生產(chǎn)
2025-07-10 17:08:16566 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形線寬變化直接影響器件性能與集成度。精確控制光刻圖形線寬是保障工藝精度的關(guān)鍵。本文將介紹改善光刻圖形線寬變化的方法，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中
2025-06-30 15:24:55736 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916 引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí)，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 物的應(yīng)用，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的作用。 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物 配方組成 金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合物主要由有機(jī)溶劑、堿性助劑、緩蝕體系和添加劑構(gòu)成。有機(jī)溶劑如 N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMP），
2025-06-24 10:58:22565 在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557 
引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中，光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用，但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕，影響器件性能。同時(shí)，光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
2025-06-18 09:56:08693 在現(xiàn)代工業(yè)自動(dòng)化生產(chǎn)進(jìn)程中，點(diǎn)膠機(jī)作為電子制造、汽車零部件、醫(yī)療器械等行業(yè)不可缺少的設(shè)備，承擔(dān)著精確涂覆膠水、密封劑、導(dǎo)熱硅脂等材料的重要任務(wù)。而直線滑臺(tái)模組的應(yīng)用，為點(diǎn)膠機(jī)的性能提升帶來了質(zhì)的飛躍
2025-06-17 13:19:02457 
引言 在半導(dǎo)體制造過程中，光刻膠剝離液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮（NMF）雖在光刻膠剝離方面表現(xiàn)出色，但因其高含量使用帶來的成本、環(huán)保等問題備受關(guān)注。同時(shí)，光刻圖形的精準(zhǔn)
2025-06-17 10:01:01678 通過使用光掩膜和光刻膠在基板上復(fù)制流體圖案的過程?；鍖⑼扛补瓒趸瘜咏^緣層和光刻膠。光刻膠在被紫外光照射后可以容易地用顯影劑溶解，然后在腐蝕后，流體圖案將留在基板上。無塵室(Cleanroom)排除掉空間范圍內(nèi)空氣中的微
2025-06-16 14:36:251070 介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的作用。 金屬低刻蝕的光刻膠剝離液 配方設(shè)計(jì) 金屬低刻蝕光刻膠剝離液需平衡光刻膠溶解能力與金屬保護(hù)性能。其核心成分包括有機(jī)溶劑、堿性物質(zhì)和緩蝕劑。有機(jī)溶劑（如 N - 甲基吡咯烷酮）負(fù)責(zé)溶
2025-06-16 09:31:51586 以某塑料制品生產(chǎn)企業(yè)為例，該企業(yè)擁有多臺(tái)日精注塑機(jī)，以往生產(chǎn)過程中存在設(shè)備運(yùn)行狀態(tài)監(jiān)控不及時(shí)、生產(chǎn)數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)分析困難等問題。引入數(shù)之能 IOT 中臺(tái)對接 MES 系統(tǒng)的解決方案后，企業(yè)實(shí)現(xiàn)了對注塑機(jī)的全面數(shù)字化管理。
2025-06-14 15:46:37690 
干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 ? 減少光刻膠剝離工藝對器件性能影響的方法 ? 優(yōu)化光刻膠材料選擇 ? 選擇與半導(dǎo)體襯底兼容性良好的光刻膠材料，可增強(qiáng)光刻膠與襯底的粘附力，減少剝離時(shí)對襯底的損傷風(fēng)險(xiǎn)。例如，針對特定的硅基襯
2025-06-14 09:42:56736 長時(shí)間處于良好的工作狀態(tài),其穩(wěn)定性也得到了顯著的提升。嵌入式單片機(jī)在電機(jī)控制系統(tǒng)中的應(yīng)用可以分為軟件應(yīng)用和硬件應(yīng)用,硬件提供基本的物理框架支撐,軟件提供基本的信息、數(shù)據(jù)處理渠道,也只有這樣,才能
2025-06-11 15:07:24
的基礎(chǔ)，直接決定了這些技術(shù)的發(fā)展水平。 二、顯影在光刻工藝中的位置與作用 位置：顯影是光刻工藝中的一個(gè)重要步驟，在曝光之后進(jìn)行。 作用：其作用是將曝光產(chǎn)生的潛在圖形，通過顯影液作用顯現(xiàn)出來。具體而言，是洗去光刻
2025-06-09 15:51:162127 劃片機(jī)（DicingSaw）在半導(dǎo)體制造中主要用于將晶圓切割成單個(gè)芯片（Die），這一過程在內(nèi)存儲(chǔ)存卡（如NAND閃存芯片、SSD、SD卡等）的生產(chǎn)中至關(guān)重要。以下是劃片機(jī)在存儲(chǔ)芯片制造中的關(guān)鍵
2025-06-03 18:11:11843 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料，其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時(shí)，精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大，白光干涉儀為此提供了有力的技術(shù)保障
2025-05-29 09:38:531103 
? 引言 ? Micro OLED 作為新型顯示技術(shù)，在微型顯示領(lǐng)域極具潛力。其中，陽極像素定義層的制備直接影響器件性能與顯示效果，而光刻圖形的精準(zhǔn)測量是確保制備質(zhì)量的關(guān)鍵。白光干涉儀憑借獨(dú)特
2025-05-23 09:39:17628 圖1.拼接曝光加工系統(tǒng) 衍射光柵廣泛應(yīng)用于精密測量、激光脈沖壓縮、光譜分析等領(lǐng)域。干涉光刻作為一種無掩膜曝光光刻方法，在衍射光柵加工制造方面具有高效率、高靈活度的優(yōu)勢。但干涉光刻加工的光柵尺寸在
2025-05-22 09:30:59570 
但當(dāng)芯片做到22納米時(shí)，工程師遇到了大麻煩——用光刻機(jī)畫接觸孔時(shí)，稍有一點(diǎn)偏差就會(huì)導(dǎo)致芯片報(bào)廢。 自對準(zhǔn)接觸技術(shù)（SAC） ，完美解決了這個(gè)難題。
2025-05-19 11:11:301316 
隨著極紫外光刻（EUV）技術(shù)面臨光源功率和掩模缺陷挑戰(zhàn)，X射線光刻技術(shù)憑借其固有優(yōu)勢，在特定領(lǐng)域正形成差異化競爭格局。
2025-05-09 10:08:491370 
出現(xiàn)誤差。傳統(tǒng)聚焦手段已不能滿足電子直寫光刻機(jī)對電子束質(zhì)量的要求。
只有對聚焦電極改進(jìn)才是最佳選擇，以下介紹該進(jìn)后的電極工作原理。通過把電子束壓縮到中心線達(dá)到縮束的目的，使電子束分布在一條直線
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337823 
。 ? ?● 負(fù)載能力：評估音圈電機(jī)需要承受的負(fù)載大小，包括靜態(tài)負(fù)載和動(dòng)態(tài)負(fù)載。 2. 性能參數(shù)： ? ?● 推力/扭矩：選擇具有足夠推力或扭矩的音圈電機(jī)以滿足應(yīng)用中的力或扭矩需求。 ? ?● 精度與重復(fù)性：對于需要高精度定位的應(yīng)用，選擇具有高定
2025-04-23 17:47:08769 、Chiller在半導(dǎo)體工藝中的應(yīng)用解析1、溫度控制的核心作用設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行保障：半導(dǎo)體制造設(shè)備如光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等，其內(nèi)部光源、光學(xué)系統(tǒng)及機(jī)械部件在運(yùn)行過程中產(chǎn)生大量熱量。Ch
2025-04-21 16:23:481232 
2025年美國特朗普政府的“對等關(guān)稅”影響究竟有多大？未來還不確定，只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重，比如蘋果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:121073 電機(jī)安裝過程是電機(jī)檢測過程中的重要環(huán)節(jié),傳統(tǒng)的電機(jī)安裝過程受電機(jī)工藝和結(jié)構(gòu)影響較大,不同底座需不同的工裝,裝機(jī)時(shí)間在30~120 min 不等且對人員有較高的安裝經(jīng)驗(yàn)要求,如何快速有效的提高電機(jī)裝機(jī)
2025-04-11 09:52:12
【2025年光刻機(jī)市場的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機(jī)的需求持續(xù)增長，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271236 漢源高科HDMI高清視頻光端機(jī)在電視臺(tái)的應(yīng)用中，憑借高清傳輸、多信號整合、長距抗擾、便捷控制、靈活拓展、穩(wěn)定可靠和專業(yè)售后等綜合優(yōu)勢，全面提升了節(jié)目制作、傳輸與播出的質(zhì)量和效率，為電視臺(tái)在激烈的媒體
2025-04-01 17:13:12
TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動(dòng)力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)，擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20
的工作原理及在實(shí)際工作的應(yīng)用，并針對實(shí)際I ：作中出現(xiàn)的問題進(jìn)行了分析和探討，滿足了工作需要，達(dá)到了理想效果。
點(diǎn)擊附件查看全文*附件：異步電機(jī)軟啟動(dòng)在高爐供料控制系統(tǒng)中的應(yīng)用.pdf
2025-03-25 15:34:32
在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167 
控 制電機(jī)轉(zhuǎn)速來完成的，因而調(diào)速系統(tǒng)是其最核心的控制 系 統(tǒng) \" 。在電機(jī)的速度達(dá)到穩(wěn)態(tài)的情況下，轉(zhuǎn)速負(fù)反饋和PI調(diào)節(jié)器的單閉環(huán)調(diào)速系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)無靜差調(diào)速。但電機(jī)在啟動(dòng)過程中，為了實(shí)現(xiàn)最快
2025-03-20 13:03:04
在本示例中，模擬了衰減相移掩模。 該掩模將線/空間圖案成像到光刻膠中。 掩模的單元格如下圖所示：
掩模的基板被具有兩個(gè)開口的吸收材料所覆蓋。在其中一個(gè)開口的下方，位于相移區(qū)域。
由于這個(gè)例子是所謂
2025-03-12 09:48:30
層次的分析和應(yīng)用。數(shù)據(jù)中臺(tái)作為一種數(shù)據(jù)管理和服務(wù)的架構(gòu)，能夠?yàn)镸ES系統(tǒng)提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)支撐，解決傳統(tǒng)MES在數(shù)據(jù)整合、分析和應(yīng)用中的痛點(diǎn)。 二.MES系統(tǒng)的數(shù)據(jù)痛點(diǎn) 1.數(shù)據(jù)孤島問題：MES系統(tǒng)通常與ERP、WMS、SCADA等多個(gè)系統(tǒng)并行運(yùn)行，數(shù)據(jù)分散在不
2025-03-11 11:14:27668 
振動(dòng)測試 是電機(jī)測試過程中重要的測試項(xiàng)目，電動(dòng)機(jī)振動(dòng)會(huì)加速電機(jī)軸承的磨損，使軸承的壽命使用周期大大縮短，且在運(yùn)行過程中發(fā)出很大的噪聲。同時(shí)，電機(jī)振動(dòng)降低其繞組絕緣。因此，對新生產(chǎn)的電機(jī)或長時(shí)間
2025-03-05 13:16:56787 
摘要
在傳統(tǒng)的 Talbot 光刻中，在光敏層中僅使用一個(gè)圖像。 但是，可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的兩個(gè)圖像。 在本案例中，按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab
2025-02-26 08:54:28
的基本原理，并更仔細(xì)地研究特定的光刻應(yīng)用，以產(chǎn)生納米結(jié)構(gòu)。
圓錐相位掩模版的泰伯成像
在VirtualLab Fusion中對帶有一層圓錐體的相位掩模板進(jìn)行了嚴(yán)格的建模。檢測到不同的Talbot圖像
2025-02-26 08:49:53
精密的線路圖形精確地復(fù)制到每一片晶圓上。 然而，在使用光掩模進(jìn)行硅片光刻的過程中，當(dāng)掩模板被光刻機(jī)中的激光持續(xù)照射一段時(shí)間后，掩模板上常常會(huì)出現(xiàn)一種被稱為霧狀缺陷（Deflate）的問題，其中最常見的一種表現(xiàn)形式就是“haze”（霧
2025-02-19 10:03:571139 ? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242256 
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467 
，生產(chǎn)設(shè)備對穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等設(shè)備在工作時(shí)，需保持極高的精度。以極紫外光刻機(jī)（EUV）為例，它在進(jìn)行納米級光刻時(shí)，任何微小的位移或變形都可能導(dǎo)致
2025-02-17 09:52:061192 
光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028 
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240 一、定制化的必要性1，適應(yīng)不同設(shè)備需求（1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多，包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備等，每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動(dòng)敏感程度都有所不同。例如，光刻機(jī)通常對精度要求極高，其工作
2025-02-05 16:48:20786 光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
2025-01-28 16:36:003589 
)、程序控制系統(tǒng)等部分組成。 在光刻工藝中，涂膠/顯影設(shè)備則是作為光刻機(jī)的輸入(曝光前光刻膠涂覆)和輸出(曝光后圖形的顯影)設(shè)備，通過機(jī)械手使晶圓在各系統(tǒng)之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅(jiān)膜等工
2025-01-20 14:48:52678 本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182475 
防震基座的要求也最為嚴(yán)格。例如，在工作過程中，光刻機(jī)的投影物鏡系統(tǒng)需要極高的穩(wěn)定性。因此，防震基座必須能夠有效隔離微小振動(dòng)，要求隔振效率在高頻振動(dòng)（如頻率大于100
2025-01-17 15:16:541221 
近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán)，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品，并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172614 本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456356 
在現(xiàn)代電機(jī)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)中，高效能與高安全性是設(shè)計(jì)的核心目標(biāo)。而功率半導(dǎo)體器 (如 IGBT、MOSFET、SiC 和 GaN器件) 的性能直接決定系統(tǒng)的效率和穩(wěn)定性。
2025-01-09 09:42:022214 
霍爾元件在空調(diào)電機(jī)中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面： 一、檢測與控制電機(jī)轉(zhuǎn)速 霍爾元件作為磁傳感器，能夠檢測磁場及其變化。在空調(diào)電機(jī)中，霍爾元件常被用于檢測風(fēng)扇的轉(zhuǎn)速。當(dāng)風(fēng)扇轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，會(huì)帶動(dòng)一個(gè)永磁體
2025-01-08 16:34:221059 ，其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而，企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠，日常生產(chǎn)活動(dòng)產(chǎn)生復(fù)雜的振動(dòng)源，包括重型機(jī)械運(yùn)轉(zhuǎn)、車輛行駛以及建筑物內(nèi)部的機(jī)
2025-01-07 15:13:21
近日，賀矽萬(上海)半導(dǎo)體科技有限公司成功通過了ISO9001質(zhì)量管理體系認(rèn)證，標(biāo)志著公司在無掩模激光直寫光刻機(jī)領(lǐng)域的質(zhì)量管理和服務(wù)能力邁上了新的臺(tái)階。 此次認(rèn)證的依據(jù)是GB/T
2025-01-07 14:51:27949 ? 本文介紹了組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達(dá)到
2025-01-07 10:02:304530 
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