電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/黃山明）芯片，一直被譽為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機就是 雕刻這個結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機被譽為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進制程芯片制造的核心。長期以來，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009690 
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級封裝（FOPLP）技術(shù)為何會獲得臺積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點問題？ 針對2nm、3nm芯片制造難題，光刻機龍頭企業(yè)ASML新款光刻機又能帶來哪些優(yōu)勢？本文進行詳細分析。
2025-07-24 09:29:397818 
根據(jù)中國政府采購網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團）股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購步進掃描式光刻機項目，設(shè)備數(shù)量為一臺，貨物型號為 SSC800/10，成交金額 1.1 億元
2025-12-26 08:35:004287 
收購湖北三峽實驗室重大科技成果“光刻膠用光引發(fā)劑制備專有技術(shù)及實驗設(shè)備所有權(quán)”，標(biāo)志著我國在這一關(guān)鍵材料領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破性進展。 ? “這不僅是一項技術(shù)成果的市場轉(zhuǎn)化，更是我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控進程中的重要突破?！睒I(yè)內(nèi)專家
2025-12-17 09:16:275950 在7納米、3納米等先進芯片制造中，光刻機0.1納米級的曝光精度離不開高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機中
2025-12-12 13:02:26424 公司向中興通訊銷售零部件、商品、軟件和技術(shù)。此禁令一出，舉世震驚，瞬間成為全球科技行業(yè)關(guān)注的焦點。
在芯片設(shè)計與開發(fā)領(lǐng)域，EDA工具扮演著至關(guān)重要的角色。雖然當(dāng)時中興事件對EDA工具的直接影響，不如
2025-12-09 16:35:24
缺乏內(nèi)置錯誤檢查： SPI 的一個顯著缺點是缺乏內(nèi)置錯誤檢查機制。雖然其高速通信是一個顯著的優(yōu)勢，但它也為由于信號噪聲、時鐘抖動或電壓尖峰等因素造成的潛在數(shù)據(jù)錯誤留下了空間。在數(shù)據(jù)完整性至關(guān)重要
2025-11-26 06:41:19
，憑借自主核心技術(shù)的突破，不僅打破了國外品牌的技術(shù)壟斷，更以高適配性、高性價比賦能節(jié)能產(chǎn)業(yè)，成為推動我國能源高效利用的重要力量。 此前，國內(nèi)中高端能耗管理系統(tǒng)市場長期被國外品牌占據(jù)，這些系統(tǒng)不僅價格高昂，還存在適配
2025-11-13 16:11:16214 對于自動駕駛來說的作用，如有不準(zhǔn)確之處，歡迎大家留言指正。 為什么這置信度驗證是個重要問題 所謂置信度驗證，就是檢驗自動駕駛系統(tǒng)在它“自認(rèn)為正確”的判斷上，到底有多可靠。在基于規(guī)則的自動駕駛方案中，程序的輸出可
2025-11-12 08:54:45703 
分布與纏結(jié)行為，成功研發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。相關(guān)研究成果已刊發(fā)于國際頂級期刊《自然·通訊》，標(biāo)志著我國在光刻膠關(guān)鍵材料領(lǐng)域取得實質(zhì)性突破。 ? 此次成果對國產(chǎn)芯片制造而言具有里程碑式意義：團隊利用
2025-10-27 09:13:046178 
在現(xiàn)代教育與商務(wù)會議領(lǐng)域，教學(xué)會議一體機及智慧黑板已成為學(xué)校教學(xué)的重要設(shè)備，而 OPS 電腦作為其核心運算單元，性能表現(xiàn)至關(guān)重要。深圳雙芯信息科技有限公司深耕 OPS 電腦主機研發(fā)生產(chǎn)與銷售 20
2025-10-24 11:36:10
在現(xiàn)代教育與商務(wù)會議領(lǐng)域，教學(xué)會議一體機及智慧黑板已成為學(xué)校教學(xué)的重要設(shè)備，而 OPS 電腦作為其核心運算單元，性能表現(xiàn)至關(guān)重要。深圳雙芯信息科技有限公司深耕 OPS 電腦主機研發(fā)生產(chǎn)與銷售 20
2025-10-21 15:21:15
能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ，在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對可擴展性、成本效益和精度要求的同時，消除對昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級封裝領(lǐng)域的無掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無掩模數(shù)字光刻機正廣泛應(yīng)用于高級封裝制造領(lǐng)域，這類光刻機無需光
2025-10-20 09:55:15887 近日，深圳穩(wěn)頂聚芯技術(shù)有限公司（簡稱“穩(wěn)頂聚芯”）宣布，其自主研發(fā)的首臺國產(chǎn)高精度步進式光刻機已成功出廠，標(biāo)志著我國在半導(dǎo)體核心裝備領(lǐng)域取得新進展。 此次穩(wěn)頂聚芯出廠的步進式光刻機屬于WS180i
2025-10-10 17:36:33929 滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級定位精度等特性，成為光刻機、刻蝕機、貼片機等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動元件，直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20602 
確定 12 英寸集成電路新建項目中光刻機、刻蝕機等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
2025-09-18 11:24:23914 
摘要 ：在全球科技競爭日益激烈的背景下，芯片國產(chǎn)替代對于保障國家安全及推動科技自主化具有重要意義。通用接口芯片作為諸多關(guān)鍵領(lǐng)域不可或缺的硬件組件，其國產(chǎn)化進程備受矚目。本文以廈門國科安芯科技有限公司
2025-09-15 17:31:481027 %。至少將GAA納米片提升幾個工藝節(jié)點。
2、晶背供電技術(shù)
3、EUV光刻機與其他競爭技術(shù)
光刻技術(shù)是制造3nm、5nm等工藝節(jié)點的高端半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵技術(shù)。是將設(shè)計好的芯片版圖圖形轉(zhuǎn)移到硅晶圓上的一種精細
2025-09-15 14:50:58
摘要 ：隨著現(xiàn)代電子技術(shù)的飛速發(fā)展，DCDC電源芯片作為電子系統(tǒng)中的關(guān)鍵組成部分，在眾多領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。本文聚焦國科安芯推出的ASP4644系列DCDC電源芯片，通過對其技術(shù)資料、測試報告
2025-09-13 11:11:032605 
當(dāng)前，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正處于深度調(diào)整與技術(shù)革新的關(guān)鍵時期，我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在政策支持與市場需求的雙重驅(qū)動下，加速向自主可控方向邁進。作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈后道核心環(huán)節(jié)的封裝測試領(lǐng)域，其技術(shù)水平直接影響芯片
2025-09-11 11:06:01752 
全球存儲解決方案領(lǐng)域的領(lǐng)軍企業(yè)Kioxia Corporation成功研發(fā)出一款大容量、高帶寬閃存模塊原型，該模塊對于大規(guī)模人工智能(AI)模型而言至關(guān)重要。這一成果是在日本國家研發(fā)機構(gòu)——日本
2025-08-26 17:50:26784 在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中，光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié)，而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點，為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠解決方案。
2025-08-22 17:52:461542 
光刻機外，技術(shù)難度最大、重要程度最高的設(shè)備之一。此次出機的 28 納米關(guān)鍵尺寸電子束量測量產(chǎn)設(shè)備，由無錫亙芯悅科技有限公司自主研制，在電子光學(xué)系統(tǒng)、運動平臺、電子電路和軟件等方向?qū)崿F(xiàn)了完全自研，能有效解決我國半導(dǎo)體量檢測
2025-08-19 16:17:38614 
澤攸科技ZEL304G電子束光刻機（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計。該系統(tǒng)采用先進的場發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量優(yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級無掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進的DLP技術(shù)，實現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
8nm，專攻量子芯片和新型半導(dǎo)體研發(fā)的核心環(huán)節(jié)，可通過高能電子束在硅基上手寫電路，無需掩膜版即可靈活修改設(shè)計，其精度已比肩國際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹，與傳統(tǒng)光刻機相比，電子束光刻機在原型設(shè)計、快速迭代和小批量試制方面具有獨特優(yōu)勢。此前先進電子束光
2025-08-15 10:15:172936 
制造過程中至關(guān)重要的一步，它通過曝光和顯影過程，在光刻膠層上精確地刻畫出幾何圖形結(jié)構(gòu)，隨后利用刻蝕工藝將這些圖形轉(zhuǎn)移到襯底材料上。這一過程直接決定了最終芯片的性能與功能。芯上微裝已經(jīng)與盛合晶微半導(dǎo)體（江陰）有限公司等企業(yè)達成合作
2025-08-13 09:41:341988 
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 近日，八億時空宣布其KrF光刻膠萬噸級半導(dǎo)體制程高自動化研發(fā)/量產(chǎn)雙產(chǎn)線順利建成，標(biāo)志著我國在中高端光刻膠領(lǐng)域的自主化進程邁出關(guān)鍵一步。 ? 此次建成的KrF光刻膠產(chǎn)線采用
2025-08-10 03:26:009089 ? ? 時隔21年，佳能再開新光刻機工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟新聞》報道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開業(yè)儀式，這也是佳能時隔21年開設(shè)的首家新光刻機廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173 7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報道，日本相機、打印機、光刻機大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，芯片作為現(xiàn)代科技的核心元件，在各個領(lǐng)域發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。
2025-07-22 18:15:55858 
奧松傳感傳來好消息，在7月14日11時38分，重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地（下稱“奧松半導(dǎo)體項目”）迎來具有里程碑意義的時刻——8英寸生產(chǎn)線首臺光刻機設(shè)備，在眾人關(guān)切注視的目光中平穩(wěn)進場。 首臺
2025-07-17 16:33:121559 
堅實基礎(chǔ)——今年8月底通線試產(chǎn)，第四季度實現(xiàn)產(chǎn)能爬坡并交付客戶。 光刻機進入百級潔凈黃光區(qū)廠房 奧松半導(dǎo)體項目作為重慶首個8英寸MEMS特色芯片全產(chǎn)業(yè)鏈項目，計劃總投資35億元，包含8英寸特色傳感器芯片量產(chǎn)線、8英寸MEMS特色晶
2025-07-16 18:11:441052 
光刻膠生產(chǎn)技術(shù)復(fù)雜、品種規(guī)格多樣，在電子工業(yè)集成電路制造中，對其有著極為嚴(yán)格的要求，而保證光刻膠產(chǎn)品的厚度便是其中至關(guān)重要的一環(huán)。 項目需求? 本次項目旨在測量光刻膠厚度，光刻膠本身厚度處于 30μm-35μm 范圍，測量精度要
2025-07-11 15:53:24430 
減速機在機械傳動系統(tǒng)里扮演著至關(guān)重要的角色，它能夠降低轉(zhuǎn)速并提升扭矩。
2025-07-10 17:56:29531 
的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過度導(dǎo)致光刻膠過度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機
2025-06-30 15:24:55736 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道，日前，ASML 技術(shù)高級副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨家合作伙伴蔡司，啟動了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機開發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916 在工業(yè)控制領(lǐng)域，核心板是系統(tǒng)運行的“心臟”，其選擇至關(guān)重要。今天，就來聊聊如何挑選一款合適又靠譜的工控核心板，讓你的產(chǎn)品在性能、穩(wěn)定性等方面都能脫穎而出。1.處理器處理器，是核心板的關(guān)鍵，包括處理器
2025-06-25 11:36:27595 
在半導(dǎo)體制造的精密流程中，晶圓濕法清洗設(shè)備扮演著至關(guān)重要的角色。它不僅是芯片生產(chǎn)的基礎(chǔ)工序，更是決定良率、效率和成本的核心環(huán)節(jié)。本文將從技術(shù)原理、設(shè)備分類、行業(yè)應(yīng)用到未來趨勢，全面解析這一關(guān)
2025-06-25 10:26:37
引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝對金屬結(jié)構(gòu)的保護至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻，影響器件性能。同時，光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠剝離液組合
2025-06-24 10:58:22565 需求等場景下提供關(guān)鍵補充，增強了供應(yīng)鏈的韌性和靈活性。兩者相輔相成，共同構(gòu)成了復(fù)雜多變、高效運轉(zhuǎn)的全球芯片分銷網(wǎng)絡(luò)，對推動電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展至關(guān)重要。理解他們的價值和運作模式，對于電子制造企業(yè)優(yōu)化供應(yīng)鏈管理、應(yīng)對市場波動具有重要的實踐意義。找芯片代理商就找深圳市微效電子有限公司，一級代理，原裝正品；
2025-06-24 09:13:21
在 MEMS（微機電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機將不同層設(shè)計圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計 低銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護性能。其主要成分包括有機溶
2025-06-18 09:56:08693 測量對工藝優(yōu)化和產(chǎn)品質(zhì)量控制至關(guān)重要。本文將探討低含量 NMF 光刻膠剝離液及其制備方法，并介紹白光干涉儀在光刻圖形測量中的應(yīng)用。 低含量 NMF 光刻膠剝離液及制備方法 配方組成 低含量 NMF 光刻膠剝離液主要由低濃度 NMF、助溶劑、堿性物質(zhì)、緩蝕劑
2025-06-17 10:01:01678 進入過無塵間光刻區(qū)的朋友，應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈，這個看似很簡單的問題的背后卻蘊含了很多鮮為人知的道理，那為什么實驗室光刻要用黃光呢？ 光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡單來說，它是
2025-06-16 14:36:251070 ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時，光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 我國發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的核心目的，可綜合政策導(dǎo)向、產(chǎn)業(yè)需求及國際競爭態(tài)勢，從以下四個維度進行結(jié)構(gòu)化分析：一、突破關(guān)鍵技術(shù)瓶頸，實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈自主可控1.應(yīng)對外部技術(shù)封鎖美國對華實施光刻機等核心設(shè)備出口管制
2025-06-09 13:27:371250 
時鐘系統(tǒng)作為北斗導(dǎo)航系統(tǒng)的重要組成部分，對于提升時間精度起著至關(guān)重要的作用。北斗時鐘系統(tǒng)是指北斗衛(wèi)星上的原子鐘，它是基于原子物理學(xué)原理制作的高精度時間測量裝置。在衛(wèi)
2025-06-05 14:15:55674 
中圖儀器國產(chǎn)自主高精度三坐標(biāo)測量機采用的測量技術(shù)和精密的傳感器，結(jié)合精密的機械結(jié)構(gòu)和溫度補償系統(tǒng)，精度高、重復(fù)性優(yōu)。在連續(xù)生產(chǎn)過程中，高重復(fù)性的坐標(biāo)測量機在連續(xù)測量過程中能夠提供一致的結(jié)果，通過確保
2025-06-04 15:49:31
如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51992 劃片機（DicingSaw）在半導(dǎo)體制造中主要用于將晶圓切割成單個芯片（Die），這一過程在內(nèi)存儲存卡（如NAND閃存芯片、SSD、SD卡等）的生產(chǎn)中至關(guān)重要。以下是劃片機在存儲芯片制造中的關(guān)鍵
2025-06-03 18:11:11843 
中圖儀器CEM3000自主研發(fā)臺式掃描電鏡采用的鎢燈絲電子槍，發(fā)射電流大、穩(wěn)定性好，以及對真空度要求不高。臺式電鏡無需占據(jù)大量空間來容納整個電鏡系統(tǒng)，這使其甚至能夠出現(xiàn)在用戶日常工作的桌面上，在用
2025-05-29 14:47:28
芯片制造設(shè)備的精度要求達到了令人驚嘆的程度。以光刻機為例，它的光刻分辨率可達納米級別，在如此高的精度下，哪怕是極其微小的震動，都可能讓設(shè)備部件產(chǎn)生位移或變形。這一細微變化，在芯片制造過程中卻會被放大
2025-05-21 16:51:03823 
但當(dāng)芯片做到22納米時，工程師遇到了大麻煩——用光刻機畫接觸孔時，稍有一點偏差就會導(dǎo)致芯片報廢。 自對準(zhǔn)接觸技術(shù)（SAC） ，完美解決了這個難題。
2025-05-19 11:11:301316 
電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進步，對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān)，電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337823 
一、引言 在全球經(jīng)濟格局深刻調(diào)整的背景下，中美貿(mào)易摩擦持續(xù)升級，美國對華半導(dǎo)體出口管制措施不斷加碼，對我國汽車芯片產(chǎn)業(yè)的供應(yīng)鏈安全、技術(shù)發(fā)展及市場穩(wěn)定構(gòu)成多重挑戰(zhàn)。作為我國汽車產(chǎn)業(yè)的重要組成部分，車
2025-04-10 17:11:361031 近年來，芯片行業(yè)深陷大國博弈的風(fēng)口浪尖。國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的 “卡脖子” 難題，更多集中于芯片制造環(huán)節(jié)，尤其是光刻機、光刻膠等關(guān)鍵設(shè)備和材料領(lǐng)域。作為現(xiàn)代科技的核心，芯片的原材料竟是生活中隨處可見的沙子
2025-04-07 16:41:591257 
繼電器扮演著至關(guān)重要的角色。它們的主要任務(wù)是執(zhí)行信號切換，確保測試信號能夠準(zhǔn)確無誤地從測試機傳輸?shù)酱郎y芯片。這些繼電器的性能直接影響到測試的準(zhǔn)確性和可靠性。因此，選擇合適的干簧繼電器對于整個測試
2025-04-07 16:40:55
【2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為252億美元】 光刻機作為半導(dǎo)體制造過程中價值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場對光刻機的需求持續(xù)增長，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271236 TSMC，中芯國際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門，生產(chǎn)管理部門，動力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機，蝕刻機，離子注入機，擴散爐
2025-03-27 16:38:20
光刻工藝貫穿整個芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進，對光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計。
2025-03-27 09:21:333276 
在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓甩干機發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。然而，晶圓甩干過程中的碎片問題一直是影響生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。晶圓作為半導(dǎo)體器件的載體，其完整性對于后續(xù)的制造工藝至關(guān)重要。即使是極小
2025-03-25 10:49:12766 微流控芯片制造過程中，勻膠是關(guān)鍵步驟之一，而勻膠機轉(zhuǎn)速會在多個方面對微流控芯片的精度產(chǎn)生影響： 對光刻膠厚度的影響 勻膠機轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋轉(zhuǎn)速度影響勻膠時的離心力，轉(zhuǎn)速越大，角速度越大
2025-03-24 14:57:16750 在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時代的“心臟”，其制造過程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機這一高端設(shè)備，但實際上，芯片的成功制造遠不止依賴光刻機這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167 
在芯片制造這個高精尖領(lǐng)域，大家的目光總是聚焦在光刻機、EDA軟件這些“明星”身上。殊不知，一顆小小的芯片，從設(shè)計到最終成型，要經(jīng)歷數(shù)百道工序，而每一道工序都至關(guān)重要，就像木桶效應(yīng)，任何一塊短板都會
2025-03-20 15:11:071303 
微電子實驗室是致力于各類半導(dǎo)體芯片研究的重要科研機構(gòu)。對于高端芯片的研發(fā)而言，實驗室內(nèi)部的環(huán)境溫濕度條件至關(guān)重要，因此該實驗室對環(huán)境溫濕度的控制與監(jiān)測提出了極為嚴(yán)格的要求。
2025-02-26 15:16:341025 嵌入式工業(yè)級顯示器在環(huán)保垃圾柜設(shè)備中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。以下是其具體作用的分析： 一、提供交互界面 嵌入式工業(yè)級顯示器為環(huán)保垃圾柜設(shè)備提供了一個直觀、易用的交互界面。用戶可以通過觸摸屏幕進行操作
2025-02-21 11:36:48654 
工業(yè)安卓主板在智慧糧倉設(shè)備中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。以下是關(guān)于其作用的具體分析： ?一、提供穩(wěn)定可靠的運行平臺 智慧糧倉設(shè)備需要長時間穩(wěn)定運行，以實現(xiàn)對糧食儲存環(huán)境的實時監(jiān)測和精準(zhǔn)控制。工業(yè)安卓主板
2025-02-20 17:50:22561 ? EUV光刻有多強？目前來看，沒有EUV光刻，業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點。 1.1
2025-02-18 09:31:242256 
就是達到目的了，而芯片則必須要大規(guī)模地應(yīng)用才有意義，誠然，芯片的產(chǎn)業(yè)化歷程也十分艱難。
首先，芯片的 生產(chǎn)成本高昂 ，初期投資巨大，需要光刻機、電子束曝光機到各種檢測設(shè)備；其次，要遵循 嚴(yán)格的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)
2025-02-17 15:43:33
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機將不同層電路圖案對準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡單來說，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片粘接工藝作為微電子封裝技術(shù)中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，對于確保芯片與外部電路的穩(wěn)定連接、提升封裝產(chǎn)品的可靠性和性能具有至關(guān)重要的作用。芯片粘接工藝涉及多種技術(shù)和材料，其工藝參數(shù)的精確控制對于保證粘接質(zhì)量至關(guān)重要。本文將對芯片粘接工藝及其關(guān)鍵工藝參數(shù)進行詳細介紹。
2025-02-17 11:02:072171 
在半導(dǎo)體制造的精密世界里，每一個細微環(huán)節(jié)都關(guān)乎芯片的性能與質(zhì)量。其中，半導(dǎo)體防震基座作為支撐核心設(shè)備的關(guān)鍵部件，其剛性表現(xiàn)起著舉足輕重的作用。一、剛性為何至關(guān)重要隨著芯片制程工藝不斷向更小尺寸邁進
2025-02-17 09:52:061192 
安卓工控觸屏一體機在印刷機械設(shè)備中確實發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，主要體現(xiàn)在以下幾個方面：
2025-02-14 18:11:02668 
SMA連接器不僅是射頻通信領(lǐng)域的關(guān)鍵技術(shù)組件，也是保障各類電子設(shè)備之間高效、穩(wěn)定信號傳輸?shù)幕A(chǔ)。對于從事相關(guān)行業(yè)的工程師和技術(shù)人員來說，了解并掌握SMA連接器的特點和用途，有助于優(yōu)化系統(tǒng)
2025-02-14 10:18:19926 
光刻技術(shù)對芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503708 
國產(chǎn)全自主三坐標(biāo)測量機廣泛應(yīng)用于機械制造、汽車工業(yè)、電子工業(yè)、航空航天工業(yè)以及計量檢測等領(lǐng)域，是現(xiàn)代工業(yè)檢測和質(zhì)量控制的重要設(shè)備。主要特點1、高精度與穩(wěn)定性：三軸
2025-02-07 14:23:23
光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
2025-02-06 09:38:031028 
在電子電路設(shè)計領(lǐng)域，接地層和電源層對于模擬電路和數(shù)字電路都具有不可替代的關(guān)鍵作用。 對于模擬電路而言，接地層的重要性首先體現(xiàn)在信號參考方面。模擬電路處理的是連續(xù)變化的模擬信號，這些信號的幅度、頻率等
2025-02-05 16:56:00975 半導(dǎo)體設(shè)備光刻機防震基座的安裝涉及多個關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機的穩(wěn)定運行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運行，因此選擇的搬運工具如
2025-02-05 16:48:451240 光刻是芯片制造過程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過程的詳細介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機
2025-01-28 16:36:003590 
本文介紹了如何提高光刻機的NA值。 為什么光刻機希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號的光刻機配置，每代光刻機的NA值會比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182475 
不同類型的集成電路設(shè)備對防震基座的要求有何差異？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司1，光刻機（1）精度要求極高：光刻機是集成電路制造的核心設(shè)備，用于將電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上，其精度可達到納米級別。對于
2025-01-17 15:16:541221 
在當(dāng)今科技飛速發(fā)展的時代，芯片作為信息技術(shù)的核心，其重要性不言而喻。而龍芯3A6000 是中國自主研發(fā)、自主可控的新一代通用處理器，采用中國自主設(shè)計的指令系統(tǒng)和架構(gòu)，以其安全可控的特性，正成為我國科技領(lǐng)域的一顆璀璨明星，彰顯著我國科技的崛起與奮進。
2025-01-17 08:45:041025 近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個荷蘭投資者財團，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機等公司提供產(chǎn)品，并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172614 ，但是由于面板光刻機針對的是薄膜晶體管，芯片光刻機針對的是晶圓，面板光刻機精度要求遠低于芯片光刻機，只要達到pm級別即可。后道光刻機則是單質(zhì)封裝光刻機，封裝光刻機的作用相較于前道光刻機來說較小，所以其精度和價值遠遠比
2025-01-16 09:29:456356 
。 FLIR消防用熱像儀在火場救援中至關(guān)重要 它能提供清晰火場圖像 助消防員迅速定位火源 制定有效滅火策略，確保救援高效安全 比如FLIR K1指揮員用熱像儀 可作為火災(zāi)現(xiàn)場一雙額外的眼睛 使消防指揮員們能夠在完全黑暗的條件下
2025-01-15 17:52:13783 特性對于理解和設(shè)計復(fù)雜的電路系統(tǒng)至關(guān)重要。
通過分析阻性負載的電壓和電流關(guān)系，可以預(yù)測電路的行為，并設(shè)計出滿足特定需求的電路。
穩(wěn)定性與可靠性：
阻性負載通常具有穩(wěn)定的電阻值，這使得它們在電路中表
2025-01-07 15:18:48
泊蘇 Type C 系列防震基座在半導(dǎo)體光刻加工電子束光刻設(shè)備的應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司一、企業(yè)背景與光刻加工電子束光刻設(shè)備挑戰(zhàn)某大型半導(dǎo)體制造企業(yè)專注于高端芯片的研發(fā)與生產(chǎn)
2025-01-07 15:13:21
? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟，其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備，它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程，但精度要求極高，能夠達到
2025-01-07 10:02:304530 
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