電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/黃山明）芯片，一直被譽(yù)為 人類智慧、工程協(xié)作與精密制造的集大成者 ，而制造芯片的重要設(shè)備光刻機(jī)就是 雕刻這個(gè)結(jié)晶的 “ 神之手 ”。但僅有光刻機(jī)還不夠，還需要光刻膠、掩膜版以及
2025-10-28 08:53:35
6234 ? 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/吳子鵬）?在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)格局中，光刻機(jī)被譽(yù)為 “半導(dǎo)體工業(yè)皇冠上的明珠”，而極紫外（EUV）光刻技術(shù)更是先進(jìn)制程芯片制造的核心。長(zhǎng)期以來(lái)，荷蘭 ASML 公司幾乎壟斷
2025-10-04 03:18:009690 
*1(L/S*2)高分辨率。扇出型面板級(jí)封裝（FOPLP）技術(shù)為何會(huì)獲得臺(tái)積電、三星等代工大廠的青睞？比較傳統(tǒng)的光刻機(jī)設(shè)備，尼康DSP-100的技術(shù)原理有何不同？能解決AI芯片生產(chǎn)當(dāng)中的哪些痛點(diǎn)問(wèn)題？ 針對(duì)2nm、3nm芯片制造難題，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML新款光刻機(jī)又能帶來(lái)哪些優(yōu)勢(shì)？本文進(jìn)行詳細(xì)分析。
2025-07-24 09:29:397824 
公司，國(guó)盾量子持股30%，專注于量子計(jì)算及通用量子技術(shù)的開(kāi)發(fā)與應(yīng)用。 ? 作為一家以量子通信和量子計(jì)算機(jī)整機(jī)為主業(yè)的公司，國(guó)盾量子進(jìn)軍軟件領(lǐng)域看似意外，實(shí)則有著清晰的戰(zhàn)略考量。 ? 從硬件發(fā)展需求來(lái)看，隨著量子芯片復(fù)雜度不斷提升
2025-12-28 09:58:59386 根據(jù)中國(guó)政府采購(gòu)網(wǎng)公示，上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司中標(biāo) zycgr22011903 采購(gòu)步進(jìn)掃描式光刻機(jī)項(xiàng)目，設(shè)備數(shù)量為一臺(tái)，貨物型號(hào)為 SSC800/10，成交金額 1.1 億元
2025-12-26 08:35:004288 
在7納米、3納米等先進(jìn)芯片制造中，光刻機(jī)0.1納米級(jí)的曝光精度離不開(kāi)高精度石英壓力傳感器的支撐，其作為“隱形功臣”，是保障工藝穩(wěn)定、設(shè)備安全與產(chǎn)品良率的核心部件。本文聚焦石英壓力傳感器在光刻機(jī)中
2025-12-12 13:02:26424 國(guó)家“十五五”規(guī)劃將量子科技列為未來(lái)產(chǎn)業(yè)首位，量子測(cè)試技術(shù)作為其工程化與應(yīng)用落地的關(guān)鍵支撐，正加速?gòu)膶?shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)前沿。合肥作為“量子硅谷”，持續(xù)推動(dòng)量子科技產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展。
2025-12-04 14:41:54513 當(dāng)量子計(jì)算軟件領(lǐng)軍者遇上高性能GPU芯片領(lǐng)軍者，國(guó)產(chǎn)算力領(lǐng)域迎來(lái)一項(xiàng)重磅合作。 近日， 合肥瀚海量子科技有限公司（簡(jiǎn)稱“瀚海量子”）與沐曦集成電路（上海）股份有限公司（簡(jiǎn)稱“沐曦股份”）正式簽署戰(zhàn)略
2025-11-24 19:02:262890 11月18日晚，國(guó)產(chǎn)純MEMS芯片代工企業(yè)賽微電子，發(fā)布公告，公司計(jì)劃以不超過(guò)6000萬(wàn)元的總價(jià)款收購(gòu)芯東來(lái)部分股權(quán)，交易完成后預(yù)計(jì)持有芯東來(lái)不超過(guò)11%的股權(quán)，后者將成為賽微電子的參股
2025-11-19 18:15:282497 
11月22日，2025開(kāi)放原子開(kāi)發(fā)者大會(huì)期間，中國(guó)移動(dòng)將舉辦以 “量子開(kāi)源?互聯(lián)未來(lái)” 為主題的量子計(jì)算開(kāi)源技術(shù)分論壇。論壇聚焦量子計(jì)算基礎(chǔ)軟件體系構(gòu)建及國(guó)內(nèi)量子軟件生態(tài)發(fā)展，深度解析量子開(kāi)源的技術(shù)價(jià)值與產(chǎn)業(yè)意義，探討生態(tài)標(biāo)準(zhǔn)化建設(shè)路徑，助力降低開(kāi)發(fā)門(mén)檻、加速量子計(jì)算實(shí)用化落地。
2025-11-17 16:34:18838 本文由半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)縱橫(ID：ICVIEWS)編譯自eletimes量子AI助力，半導(dǎo)體供應(yīng)鏈韌性升級(jí)。幾十年來(lái)，硅一直是計(jì)算機(jī)發(fā)展的主要驅(qū)動(dòng)力，但摩爾定律如今已接近極限。隨著對(duì)芯片速度和能效要求
2025-11-12 09:40:12931 
電子發(fā)燒友綜合報(bào)道 日前，谷歌宣布其量子計(jì)算機(jī)取得突破性進(jìn)展，使用一種名為“量子回聲（Quantum Echoes）”的算法，在量子芯片Willow上完成了傳統(tǒng)超級(jí)計(jì)算機(jī)無(wú)法勝任的任務(wù)，使量子計(jì)算機(jī)
2025-10-27 06:51:009283 能力及每秒 110 千兆像素的數(shù)據(jù)傳輸速率 ，在滿足日益復(fù)雜的封裝工藝對(duì)可擴(kuò)展性、成本效益和精度要求的同時(shí)，消除對(duì)昂貴掩模技術(shù)的依賴。 ? TI DLP 技術(shù)造就高級(jí)封裝領(lǐng)域的無(wú)掩模數(shù)字光刻系統(tǒng) 關(guān)鍵所在 無(wú)掩模數(shù)字光刻機(jī)正廣泛應(yīng)用于高級(jí)封裝制造領(lǐng)域，這類光刻機(jī)無(wú)需光
2025-10-20 09:55:15887 系列。該系列產(chǎn)品主要面向mini/micro LED光電器件、光芯片、功率器件等化合物半導(dǎo)體領(lǐng)域，可靈活適配硅片、藍(lán)寶石、SiC等不同襯底材料，滿足多樣化的膠厚光刻工藝需求。 WS180i系列光刻機(jī)優(yōu)勢(shì)顯著。其晶圓覆蓋范圍廣，可處理2~8英寸的晶圓；分
2025-10-10 17:36:33929 滾珠導(dǎo)軌憑借其低摩擦、高剛性、納米級(jí)定位精度等特性，成為光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、貼片機(jī)等核心設(shè)備的關(guān)鍵傳動(dòng)元件，直接決定著芯片良率與生產(chǎn)效率。
2025-09-22 18:02:20602 
確定 12 英寸集成電路新建項(xiàng)目中光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等核心設(shè)備的防震基座類型與數(shù)量，需遵循 “設(shè)備需求為核心、環(huán)境評(píng)估為基礎(chǔ)、合規(guī)性為前提” 的原則，分步驟結(jié)合設(shè)備特性、廠房條件、工藝要求綜合判斷，具體流程與關(guān)鍵考量如下：
2025-09-18 11:24:23915 
光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟，其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn)：濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理：使用丙酮、NMP
2025-09-17 11:01:271282 
加工技術(shù)，。光刻機(jī)是光刻技術(shù)的核心設(shè)備，它的性能直接決定了芯片制造的良率和成本。
光刻技術(shù)的基本原理是利用光的照射將圖形轉(zhuǎn)移到光致抗?jié)釀┍∧ど稀?光刻技術(shù)的關(guān)鍵指標(biāo)的分辨率。
光刻技術(shù)的難點(diǎn)在于需要
2025-09-15 14:50:58
當(dāng)密碼卡在系統(tǒng)底層鑄就防御堡壘，如何將離散算力整合為業(yè)務(wù)護(hù)航的終極屏障?【量鎧武器庫(kù)】第四期進(jìn)軍核心戰(zhàn)場(chǎng)——量鎧抗量子密碼機(jī)!它聚合密碼卡算力資源，驅(qū)動(dòng)統(tǒng)一調(diào)度引擎，為金融交易、跨境支付、工業(yè)控制等關(guān)鍵業(yè)務(wù)提供覆蓋數(shù)據(jù)全生命周期的量子級(jí)防護(hù)!
2025-08-21 09:50:38716 澤攸科技ZEL304G電子束光刻機(jī)（EBL）是一款高性能、高精度的光刻設(shè)備，專為半導(dǎo)體晶圓的高速、高分辨率光刻需求設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)采用先進(jìn)的場(chǎng)發(fā)射電子槍，結(jié)合一體化的高速圖形發(fā)生系統(tǒng)，確保光刻質(zhì)量?jī)?yōu)異且
2025-08-15 15:14:01
澤攸科技ZML10A是一款創(chuàng)新的桌面級(jí)無(wú)掩膜光刻設(shè)備，專為高效、精準(zhǔn)的微納加工需求設(shè)計(jì)。該設(shè)備采用高功率、高均勻度的LED光源，并結(jié)合先進(jìn)的DLP技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了黃光或綠光引導(dǎo)曝光功能，真正做到
2025-08-15 15:11:55
8nm，專攻量子芯片和新型半導(dǎo)體研發(fā)的核心環(huán)節(jié)，可通過(guò)高能電子束在硅基上手寫(xiě)電路，無(wú)需掩膜版即可靈活修改設(shè)計(jì)，其精度已比肩國(guó)際主流設(shè)備。 ? 據(jù)介紹，與傳統(tǒng)光刻機(jī)相比，電子束光刻機(jī)在原型設(shè)計(jì)、快速迭代和小批量試制方面具有獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。此前先進(jìn)電子束光
2025-08-15 10:15:172937 
? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，近日，上海芯上微裝科技股份有限公司（簡(jiǎn)稱：芯上微裝，英文簡(jiǎn)稱：AMIES）第500臺(tái)步進(jìn)光刻機(jī)成功交付，并舉辦了第500臺(tái) 步進(jìn)光刻機(jī) 交付儀式。 ? ? 光刻是半導(dǎo)體器件
2025-08-13 09:41:341988 
當(dāng)抗量子密碼芯片在硬件底層筑牢基因防線，如何將這份力量匯聚成守護(hù)關(guān)鍵業(yè)務(wù)的戰(zhàn)略要塞?歡迎進(jìn)入【量鎧武器庫(kù)】第三戰(zhàn)場(chǎng)!本期我們直面信息系統(tǒng)的核心安全樞紐——量鎧抗量子密碼卡。它不是孤立存在的“盾牌
2025-08-07 09:26:061064 光刻工藝是芯片制造的關(guān)鍵步驟，其精度直接決定集成電路的性能與良率。隨著制程邁向3nm及以下，光刻膠圖案三維結(jié)構(gòu)和層間對(duì)準(zhǔn)精度的控制要求達(dá)納米級(jí)，傳統(tǒng)檢測(cè)手段難滿足需求。光子灣3D共聚焦顯微鏡憑借非
2025-08-05 17:46:43944 
? ? 時(shí)隔21年，佳能再開(kāi)新光刻機(jī)工廠 ? 日前，據(jù)《日本經(jīng)濟(jì)新聞》報(bào)道，佳能在當(dāng)?shù)匾患椅挥跂心究h宇都宮市的半導(dǎo)體光刻設(shè)備工廠舉行開(kāi)業(yè)儀式，這也是佳能時(shí)隔21年開(kāi)設(shè)的首家新光刻機(jī)廠。佳能宇都宮工廠
2025-08-05 10:23:382173 7 月 31 日消息，據(jù)《日經(jīng)新聞》報(bào)道，日本相機(jī)、打印機(jī)、光刻機(jī)大廠佳能 (Canon) 位于日本宇都宮市的新光刻機(jī)制造工廠將于 9 月正式投入量產(chǎn)，主攻成熟制程及后段封裝應(yīng)用設(shè)備，為全球芯片封裝
2025-08-04 17:39:28712 RISC-V架構(gòu)的AI加速器、量子AI芯片、光電組合AI芯片等。
隨著大模型面臨收益遞減、資源浪費(fèi)等困境，書(shū)中接著將目光投向 “后Transformer” 時(shí)代的新興算法。詳細(xì)解讀了超維計(jì)算、耦合振蕩
2025-07-28 13:54:18
極紫外光刻（EUVL）技術(shù)作為實(shí)現(xiàn)先進(jìn)工藝制程的關(guān)鍵路徑，在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位。當(dāng)前，LPP-EUV 光源是極紫外光刻機(jī)所采用的主流光源，其工作原理是利用波長(zhǎng)為 10.6um 的紅外
2025-07-22 17:20:36956 
。這一成果標(biāo)志著人類在量子科技的征程中邁出了堅(jiān)實(shí)的一步，為未來(lái)量子技術(shù)的廣泛應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。 ? ? 芯片的誕生：集成創(chuàng)新，突破傳統(tǒng) 該芯片首次成功地在一塊芯片上集成了量子光源與穩(wěn)定控制電子電路，并且采用了標(biāo)準(zhǔn)的
2025-07-18 16:58:50652 光刻機(jī)的成功搬入，意味著產(chǎn)線正式進(jìn)入設(shè)備安裝調(diào)試階段，距離8月底通線試產(chǎn)、第四季度產(chǎn)能爬坡并交付客戶的既定目標(biāo)指日可待。這一目標(biāo)的實(shí)現(xiàn)，將實(shí)現(xiàn)各類MEMS半導(dǎo)體傳感器產(chǎn)品從研發(fā)到量產(chǎn)的無(wú)縫銜接，對(duì)重慶乃至整個(gè)集成電路行業(yè)都具
2025-07-17 16:33:121559 
堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)——今年8月底通線試產(chǎn)，第四季度實(shí)現(xiàn)產(chǎn)能爬坡并交付客戶。 光刻機(jī)進(jìn)入百級(jí)潔凈黃光區(qū)廠房 奧松半導(dǎo)體項(xiàng)目作為重慶首個(gè)8英寸MEMS特色芯片全產(chǎn)業(yè)鏈項(xiàng)目，計(jì)劃總投資35億元，包含8英寸特色傳感器芯片量產(chǎn)線、8英寸MEMS特色晶
2025-07-16 18:11:441052 
電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道 6月30日消息，澳大利亞悉尼大學(xué)與新南威爾士大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)在量子計(jì)算領(lǐng)域取得里程碑式突破——他們成功開(kāi)發(fā)出全球首個(gè)在低溫環(huán)境下可精準(zhǔn)控制“百萬(wàn)量級(jí)量子比特”的芯片，相關(guān)成果
2025-07-07 05:58:003190 一、涂膠顯影設(shè)備：光刻工藝的“幕后守護(hù)者” 在半導(dǎo)體制造的光刻環(huán)節(jié)里，涂膠顯影設(shè)備與光刻機(jī)需協(xié)同作業(yè)，共同實(shí)現(xiàn)精密的光刻工藝。曝光工序前，涂膠機(jī)會(huì)在晶圓表面均勻涂覆光刻膠；曝光完成后，顯影設(shè)備則對(duì)晶
2025-07-03 09:14:54770 
的應(yīng)用。 改善光刻圖形線寬變化的方法 優(yōu)化曝光工藝參數(shù) 曝光是決定光刻圖形線寬的關(guān)鍵步驟。精確控制曝光劑量，可避免因曝光過(guò)度導(dǎo)致光刻膠過(guò)度反應(yīng)，使線寬變寬；或曝光不足造成線寬變窄。采用先進(jìn)的曝光設(shè)備，如極紫外（EUV）光刻機(jī)
2025-06-30 15:24:55740 
引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域，光刻圖形的垂直度對(duì)器件的電學(xué)性能、集成密度以及可靠性有著重要影響。精準(zhǔn)控制光刻圖形垂直度是保障先進(jìn)制程工藝精度的關(guān)鍵。本文將系統(tǒng)介紹改善光刻圖形垂直度的方法，并
2025-06-30 09:59:13489 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道，日前，ASML 技術(shù)高級(jí)副總裁 Jos Benschop 表示，ASML 已攜手光學(xué)組件獨(dú)家合作伙伴蔡司，啟動(dòng)了 5nm 分辨率的 Hyper NA 光刻機(jī)開(kāi)發(fā)。這一舉措標(biāo)志著
2025-06-29 06:39:001916 引言 在晶圓上芯片制造工藝中，光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效果直接影響芯片性能與良率。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法，并探討白光
2025-06-25 10:19:48815 工業(yè)實(shí)時(shí)操作系統(tǒng)（RTOS）堪稱工業(yè)精密設(shè)備運(yùn)行的中樞神經(jīng)，其根本使命在于保障命令在絕對(duì)可控的時(shí)間約束內(nèi)精確完成。無(wú)論半導(dǎo)體光刻機(jī)所需納米級(jí)精準(zhǔn)定位、精密電控系統(tǒng)百萬(wàn)分之一秒級(jí)的響應(yīng)速度，還是高速
2025-06-24 14:11:12402 在 MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）制造領(lǐng)域，光刻工藝是決定版圖中的圖案能否精確 “印刷” 到硅片上的核心環(huán)節(jié)。光刻 Overlay（套刻精度），則是衡量光刻機(jī)將不同層設(shè)計(jì)圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。光刻 Overlay 指的是芯片制造過(guò)程中，前后兩次光刻工藝形成的電路圖案之間的對(duì)準(zhǔn)精度。
2025-06-18 11:30:491557 
至關(guān)重要。本文將介紹用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液，并探討白光干涉儀在光刻圖形測(cè)量中的應(yīng)用。 用于 ARRAY 制程工藝的低銅腐蝕光刻膠剝離液 配方設(shè)計(jì) 低銅腐蝕光刻膠剝離液需兼顧光刻膠溶解能力與銅保護(hù)性能。其主要成分包括有機(jī)溶
2025-06-18 09:56:08693 進(jìn)入過(guò)無(wú)塵間光刻區(qū)的朋友，應(yīng)該都知道光刻區(qū)里用的都是黃燈，這個(gè)看似很簡(jiǎn)單的問(wèn)題的背后卻蘊(yùn)含了很多鮮為人知的道理，那為什么實(shí)驗(yàn)室光刻要用黃光呢？ 光刻是微流控芯片制造中的重要工藝之一。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，它是
2025-06-16 14:36:251070 ? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié)，但其可能對(duì)器件性能產(chǎn)生負(fù)面影響。同時(shí)，光刻圖形的精確測(cè)量對(duì)于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法，并介紹白光
2025-06-14 09:42:56736 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）日前，安徽省量子計(jì)算芯片重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室發(fā)布消息，國(guó)產(chǎn)量子芯片設(shè)計(jì)工業(yè)軟件Q-EDA“本源坤元”完成第五次技術(shù)迭代。 ? 本源坤元是國(guó)內(nèi)首個(gè)自主研發(fā)的量子芯片設(shè)計(jì)工業(yè)軟件，由
2025-06-05 00:59:006146 如果說(shuō)最終制造出來(lái)的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來(lái)可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關(guān)鍵輔料。 光刻膠（photoresist），在業(yè)內(nèi)又被稱為光阻或光阻劑
2025-06-04 13:22:51992 應(yīng)用和技術(shù)細(xì)節(jié)：1.劃片機(jī)的基本作用晶圓切割：將完成光刻、蝕刻等工藝的晶圓切割成獨(dú)立的存儲(chǔ)芯片單元。高精度要求：存儲(chǔ)芯片（如NAND、DRAM）的電路密度極高，切割精
2025-06-03 18:11:11843 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李彎彎）量子計(jì)算是一種基于量子力學(xué)原理的新型計(jì)算模式，其核心在于利用量子比特的疊加態(tài)和糾纏態(tài)特性，實(shí)現(xiàn)遠(yuǎn)超經(jīng)典計(jì)算機(jī)的并行計(jì)算能力。 ? 何為量子疊加和量子糾纏？量子疊加，即
2025-05-28 00:40:0012319 
在科技飛速發(fā)展的當(dāng)下，工業(yè)領(lǐng)域正站在新一輪變革的十字路口。量子計(jì)算，這一前沿科技，正逐漸從實(shí)驗(yàn)室走向?qū)嶋H應(yīng)用，與工業(yè)生產(chǎn)中的關(guān)鍵設(shè)備 —— 工控一體機(jī)相結(jié)合，為工業(yè)發(fā)展帶來(lái)前所未有的機(jī)遇，開(kāi)啟一扇
2025-05-27 16:29:26521 ) 市場(chǎng)預(yù)計(jì)將在未來(lái)五年內(nèi)實(shí)現(xiàn)大幅增長(zhǎng)。傳感器是芯片制造中使用的先進(jìn)光刻系統(tǒng)的核心。 制造復(fù)雜、高性能且越來(lái)越小的半導(dǎo)體芯片時(shí)，在很大程度上依賴于高精度、高靈敏度的光刻工藝，這些工藝有助于在硅晶圓和芯片制造中使用的其他基底上印制復(fù)雜的圖案。 先進(jìn)光刻系統(tǒng)采用了極其精確和靈敏的技
2025-05-25 10:50:00760 
芯片制造設(shè)備的精度要求達(dá)到了令人驚嘆的程度。以光刻機(jī)為例，它的光刻分辨率可達(dá)納米級(jí)別，在如此高的精度下，哪怕是極其微小的震動(dòng)，都可能讓設(shè)備部件產(chǎn)生位移或變形。這一細(xì)微變化，在芯片制造過(guò)程中卻會(huì)被放大
2025-05-21 16:51:03824 
但當(dāng)芯片做到22納米時(shí)，工程師遇到了大麻煩——用光刻機(jī)畫(huà)接觸孔時(shí)，稍有一點(diǎn)偏差就會(huì)導(dǎo)致芯片報(bào)廢。 自對(duì)準(zhǔn)接觸技術(shù)（SAC） ，完美解決了這個(gè)難題。
2025-05-19 11:11:301316 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文 / 吳子鵬）抗量子密碼芯片作為融合量子物理原理與經(jīng)典密碼學(xué)的新型安全芯片，其核心使命在于抵御量子計(jì)算對(duì)傳統(tǒng)加密體系帶來(lái)的嚴(yán)峻威脅。該芯片的核心技術(shù)涵蓋量子隨機(jī)數(shù)生成、抗量子算法
2025-05-08 01:06:008785 電子直寫(xiě)光刻機(jī)駐極體圓筒聚焦電極
隨著科技進(jìn)步，對(duì)電子顯微鏡的精度要求越來(lái)越高。電子直寫(xiě)光刻機(jī)的精度與電子波長(zhǎng)和電子束聚焦后的焦點(diǎn)直徑有關(guān)，電子波長(zhǎng)可通過(guò)增加加速電極電壓來(lái)減小波長(zhǎng)，而電子束聚焦后
2025-05-07 06:03:45
光刻圖形轉(zhuǎn)化軟件可以將gds格式或者gerber格式等半導(dǎo)體通用格式的圖紙轉(zhuǎn)換成如bmp或者tiff格式進(jìn)行掩模版加工制造，在掩膜加工領(lǐng)域或者無(wú)掩膜光刻領(lǐng)域不可或缺，在業(yè)內(nèi)也被稱為矢量圖形光柵化軟件
2025-05-02 12:42:10
芯片清洗機(jī)（如硅片清洗設(shè)備）是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于去除硅片表面的顆粒、有機(jī)物、金屬污染物和氧化層等，以確保芯片制造的良率和性能。以下是其在不同工藝環(huán)節(jié)的應(yīng)用： 1. 光刻前清洗 目的
2025-04-30 09:23:27478 光刻膠類型及特性光刻膠（Photoresist），又稱光致抗蝕劑，是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和光刻膠特性。
2025-04-29 13:59:337831 
4月8日及10日，《面向未來(lái)量子通信與大物理研究》線上研討會(huì)圓滿結(jié)束。感謝大家的觀看與支持！請(qǐng)查收研討會(huì)筆記！
2025-04-21 11:42:11497 
2025年美國(guó)特朗普政府的“對(duì)等關(guān)稅”影響究竟有多大？未來(lái)還不確定，只有等待時(shí)間的檢驗(yàn)。這里我們看到已經(jīng)有很多的科技巨頭受損嚴(yán)重，比如蘋(píng)果公司、光刻機(jī)巨頭阿斯麥ASML、英偉達(dá)等。但是業(yè)界多認(rèn)為目前
2025-04-17 10:31:121075 攻擊，航芯正加速推進(jìn)在抗量子密碼等前沿領(lǐng)域的深度布局。通過(guò)將芯片安全信任根技術(shù)（PUF）與抗量子密碼算法的深度融合，航芯正式推出基于PUF的「抗量子密碼加密簽名方
2025-04-14 11:01:46919 
近年來(lái)，芯片行業(yè)深陷大國(guó)博弈的風(fēng)口浪尖。國(guó)內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)的 “卡脖子” 難題，更多集中于芯片制造環(huán)節(jié)，尤其是光刻機(jī)、光刻膠等關(guān)鍵設(shè)備和材料領(lǐng)域。作為現(xiàn)代科技的核心，芯片的原材料竟是生活中隨處可見(jiàn)的沙子
2025-04-07 16:41:591257 
【2025年光刻機(jī)市場(chǎng)的規(guī)模預(yù)計(jì)為252億美元】 光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一，其在半導(dǎo)體制造中的重要性不言而喻。 目前，全球市場(chǎng)對(duì)光刻機(jī)的需求持續(xù)增長(zhǎng)，尤其是在先
2025-04-07 09:24:271240 三個(gè)維度展開(kāi)分析：一、量子科技核心材料體系1.量子計(jì)算材料超導(dǎo)材料：鈮鈦合金（NbTi）、拓?fù)涑瑢?dǎo)體（如SrBiSe單晶體）構(gòu)成量子比特的核心基質(zhì)。國(guó)產(chǎn)稀釋制冷機(jī)e
2025-04-07 06:50:062559 
。
光刻工藝、刻蝕工藝
在芯片制造過(guò)程中，光刻工藝和刻蝕工藝用于在某個(gè)半導(dǎo)體材料或介質(zhì)材料層上，按照光掩膜版上的圖形，“刻制”出材料層的圖形。
首先準(zhǔn)備好硅片和光掩膜版，然后再硅片表面上通過(guò)薄膜工藝生成一
2025-04-02 15:59:44
TSMC，中芯國(guó)際SMIC 組成:核心:生產(chǎn)線，服務(wù):技術(shù)部門(mén)，生產(chǎn)管理部門(mén)，動(dòng)力站（雙路保障），廢水處理站(環(huán)保，循環(huán)利用)等。生產(chǎn)線主要設(shè)備: 外延爐，薄膜設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)，擴(kuò)散爐
2025-03-27 16:38:20
光刻工藝貫穿整個(gè)芯片制造流程的多次重復(fù)轉(zhuǎn)印環(huán)節(jié)，對(duì)于集成電路的微縮化和高性能起著決定性作用。隨著半導(dǎo)體制造工藝演進(jìn)，對(duì)光刻分辨率、套準(zhǔn)精度和可靠性的要求持續(xù)攀升，光刻技術(shù)也將不斷演化，支持更為先進(jìn)的制程與更復(fù)雜的器件設(shè)計(jì)。
2025-03-27 09:21:333276 
微流控芯片制造過(guò)程中，勻膠是關(guān)鍵步驟之一，而勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速會(huì)在多個(gè)方面對(duì)微流控芯片的精度產(chǎn)生影響： 對(duì)光刻膠厚度的影響 勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速與光刻膠厚度成反比關(guān)系。旋轉(zhuǎn)速度影響勻膠時(shí)的離心力，轉(zhuǎn)速越大，角速度越大
2025-03-24 14:57:16750 在科技日新月異的今天，芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”，其制造過(guò)程復(fù)雜而精密，涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造，人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備，但實(shí)際上，芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝，揭示這些工藝如何協(xié)同工作，共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167 
在芯片制造這個(gè)高精尖領(lǐng)域，大家的目光總是聚焦在光刻機(jī)、EDA軟件這些“明星”身上。殊不知，一顆小小的芯片，從設(shè)計(jì)到最終成型，要經(jīng)歷數(shù)百道工序，而每一道工序都至關(guān)重要，就像木桶效應(yīng)，任何一塊短板都會(huì)
2025-03-20 15:11:071303 
三星半導(dǎo)體部門(mén)宣布已成功開(kāi)發(fā)出名為S3SSE2A的抗量子芯片，目前正積極準(zhǔn)備樣品發(fā)貨。這一創(chuàng)新的芯片專門(mén)設(shè)計(jì)用以保護(hù)移動(dòng)設(shè)備中的關(guān)鍵數(shù)據(jù)，用以抵御量子計(jì)算可能帶來(lái)的安全威脅。 據(jù)悉，三星
2025-02-26 15:23:282481 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文 / 吳子鵬）當(dāng)?shù)貢r(shí)間本周三（2 月 20 日），微軟公司宣布推出其首款量子計(jì)算芯片，命名為 Majorana 1。微軟在《自然》雜志上發(fā)表的一篇同行評(píng)審論文中詳細(xì)闡述了該
2025-02-21 00:05:002609 
近期，蘇州國(guó)芯科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“國(guó)芯科技”）與安徽問(wèn)天量子科技股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“問(wèn)天量子”）成立的“量子芯片聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室”協(xié)同攻關(guān)，推出的量子安全芯片CCM3310SQ-T完成研發(fā)并成功實(shí)現(xiàn)小批量實(shí)際供貨，該芯片已成功應(yīng)用于某通信項(xiàng)目。
2025-02-20 16:52:231328 
? EUV光刻有多強(qiáng)？目前來(lái)看，沒(méi)有EUV光刻，業(yè)界就無(wú)法制造7nm制程以下的芯片。EUV光刻機(jī)也是歷史上最復(fù)雜、最昂貴的機(jī)器之一。 EUV光刻有哪些瓶頸？ EUV光刻技術(shù)，存在很多難點(diǎn)。 1.1
2025-02-18 09:31:242257 
就是達(dá)到目的了，而芯片則必須要大規(guī)模地應(yīng)用才有意義，誠(chéng)然，芯片的產(chǎn)業(yè)化歷程也十分艱難。
首先，芯片的 生產(chǎn)成本高昂 ，初期投資巨大，需要光刻機(jī)、電子束曝光機(jī)到各種檢測(cè)設(shè)備；其次，要遵循 嚴(yán)格的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)
2025-02-17 15:43:33
在芯片制造的復(fù)雜流程中，光刻工藝是決定晶體管圖案能否精確“印刷”到硅片上的核心環(huán)節(jié)。而光刻Overlay(套刻精度)，則是衡量光刻機(jī)將不同層電路圖案對(duì)準(zhǔn)精度的關(guān)鍵指標(biāo)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，它就像建造摩天大樓
2025-02-17 14:09:254467 
，生產(chǎn)設(shè)備對(duì)穩(wěn)定性的要求近乎苛刻。光刻機(jī)、刻蝕機(jī)等設(shè)備在工作時(shí)，需保持極高的精度。以極紫外光刻機(jī)（EUV）為例，它在進(jìn)行納米級(jí)光刻時(shí)，任何微小的位移或變形都可能導(dǎo)致
2025-02-17 09:52:061192 
光刻技術(shù)對(duì)芯片制造至關(guān)重要，但傳統(tǒng)紫外光刻受衍射限制，摩爾定律面臨挑戰(zhàn)。為突破瓶頸，下一代光刻（NGL）技術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。本文將介紹納米壓印技術(shù)（NIL）的原理、發(fā)展、應(yīng)用及設(shè)備，并探討其在半導(dǎo)體制造中
2025-02-13 10:03:503709 
近日，據(jù)報(bào)道，日本國(guó)立產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所(AIST)與全球芯片巨頭英特爾公司正攜手合作，致力于開(kāi)發(fā)下一代量子計(jì)算機(jī)。這一舉措預(yù)示著量子計(jì)算領(lǐng)域將迎來(lái)新的突破。 據(jù)了解，此次合作將充分利用英特爾在芯片
2025-02-07 14:26:02833 光刻機(jī)用納米位移系統(tǒng)設(shè)計(jì)
2025-02-06 09:38:031028 
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)防震基座的安裝涉及多個(gè)關(guān)鍵步驟和考慮因素，以確保光刻機(jī)的穩(wěn)定運(yùn)行和產(chǎn)品質(zhì)量。首先，選擇合適的防震基座需要考慮適應(yīng)工作環(huán)境。由于半導(dǎo)體設(shè)備通常在潔凈的環(huán)境下運(yùn)行，因此選擇的搬運(yùn)工具如
2025-02-05 16:48:451240 一、定制化的必要性1，適應(yīng)不同設(shè)備需求（1)半導(dǎo)體設(shè)備的種類繁多，包括光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜沉積設(shè)備等，每種設(shè)備的尺寸、重量、重心位置以及振動(dòng)敏感程度都有所不同。例如，光刻機(jī)通常對(duì)精度要求極高，其工作
2025-02-05 16:48:20787 集成電路制造設(shè)備的防震標(biāo)準(zhǔn)制定主要涉及以下幾個(gè)方面：1,設(shè)備性能需求分析(1）精度要求：集成電路制造設(shè)備精度極高，如光刻機(jī)的光刻分辨率可達(dá)納米級(jí)別，刻蝕機(jī)需精確控制刻蝕深度、寬度等。微小震動(dòng)會(huì)使設(shè)備
2025-02-05 16:47:341038 光刻是芯片制造過(guò)程中至關(guān)重要的一步，它定義了芯片上的各種微細(xì)圖案，并且要求極高的精度。以下是光刻過(guò)程的詳細(xì)介紹，包括原理和具體步驟。?? 光刻原理?????? 光刻的核心工具包括光掩膜、光刻機(jī)
2025-01-28 16:36:003591 
量子芯片與硅芯片在技術(shù)和應(yīng)用上存在顯著差異，因此量子芯片是否可以完全代替硅芯片是一個(gè)復(fù)雜的問(wèn)題。以下是對(duì)這一問(wèn)題的詳細(xì)分析：
2025-01-27 13:53:001942 量子芯片在未來(lái)某些領(lǐng)域的應(yīng)用可能會(huì)展現(xiàn)出更大的優(yōu)勢(shì)，但它目前并不能完全替代半導(dǎo)體芯片。以下是對(duì)這一觀點(diǎn)的詳細(xì)解釋：
2025-01-27 13:51:002593 據(jù)外媒報(bào)道，芯片巨頭Arm計(jì)劃大幅度提高授權(quán)許可費(fèi)用，漲幅最高可達(dá)300%。這一消息對(duì)三星Exynos芯片的未來(lái)發(fā)展構(gòu)成了嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。
2025-01-23 16:17:48770 )、程序控制系統(tǒng)等部分組成。 在光刻工藝中，涂膠/顯影設(shè)備則是作為光刻機(jī)的輸入(曝光前光刻膠涂覆)和輸出(曝光后圖形的顯影)設(shè)備，通過(guò)機(jī)械手使晶圓在各系統(tǒng)之間傳輸和處理，從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影、堅(jiān)膜等工
2025-01-20 14:48:52678 本文介紹了如何提高光刻機(jī)的NA值。 為什么光刻機(jī)希望有更好的NA值？怎樣提高？ ? 什么是NA值？ ? 如上圖是某型號(hào)的光刻機(jī)配置，每代光刻機(jī)的NA值會(huì)比上一代更大一些。NA，又名
2025-01-20 09:44:182475 
不同類型的集成電路設(shè)備對(duì)防震基座的要求有何差異？-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司1，光刻機(jī)（1）精度要求極高：光刻機(jī)是集成電路制造的核心設(shè)備，用于將電路圖案精確地轉(zhuǎn)移到硅片上，其精度可達(dá)到納米級(jí)別。對(duì)于
2025-01-17 15:16:541221 
近日，飛利浦已將其位于荷蘭埃因霍溫的 MEMS 晶圓廠和代工廠出售給一個(gè)荷蘭投資者財(cái)團(tuán)，交易金額不詳。該代工廠為 ASML 光刻機(jī)等公司提供產(chǎn)品，并已更名為 Xiver。 該 MEMS 代工廠已被
2025-01-16 18:29:172616 本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類，光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機(jī)包括芯片光刻機(jī)和面板光刻機(jī)。面板光刻機(jī)的工作原理和芯片光刻機(jī)相似
2025-01-16 09:29:456357 
近期Google宣布了其全新的量子計(jì)算芯片Willow。這款芯片在不到5分鐘完成一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)計(jì)算，而如今最快的超級(jí)計(jì)算機(jī)完成同樣的任務(wù)，足足要花費(fèi)超過(guò)102? 年的時(shí)間。Willow不僅擁有105個(gè)量子比特，還在量子糾錯(cuò)和隨機(jī)電路采樣方面表現(xiàn)出色，進(jìn)一步展示了量子計(jì)算的巨大潛力。
2025-01-15 13:56:231148 過(guò)光刻、蝕刻、摻雜等一系列前端復(fù)雜工序后，在其表面形成了眾多微小且功能完整的芯片單元。劃片機(jī)通過(guò)精確控制的切割刀具，沿著芯片之間預(yù)先設(shè)計(jì)好的切割道進(jìn)行切割，將晶圓分割
2025-01-14 19:02:251053 
來(lái)源：John Boyd IEEE電氣電子工程師學(xué)會(huì) 9月，佳能交付了一種技術(shù)的首個(gè)商業(yè)版本，該技術(shù)有朝一日可能顛覆最先進(jìn)硅芯片的制造方式。這種技術(shù)被稱為納米壓印光刻技術(shù)（NIL
2025-01-09 11:31:181280 ，其電子束光刻設(shè)備在芯片制造的光刻工藝中起著關(guān)鍵作用。然而，企業(yè)所在園區(qū)周邊存在眾多工廠，日常生產(chǎn)活動(dòng)產(chǎn)生復(fù)雜的振動(dòng)源，包括重型機(jī)械運(yùn)轉(zhuǎn)、車輛行駛以及建筑物內(nèi)部的機(jī)
2025-01-07 15:13:21
納米級(jí)別的分辨率。本文將詳細(xì)介紹光刻機(jī)的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機(jī)的心臟，負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機(jī)使用汞燈作為光源，但隨著技術(shù)的進(jìn)步，目前多采用深紫外（DUV）或極紫外（EUV）光源，
2025-01-07 10:02:304530 
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