介紹

本文討論了我們?nèi)A林科納用于再循環(huán)蝕刻浴的過(guò)濾器的物理、性能和成本特性。然而，要為生產(chǎn)操作選擇合適的過(guò)濾器，還需要蝕刻應(yīng)用知識(shí)和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。

摘要

它的初始成本應(yīng)該很低;它不應(yīng)降解或“插入”化學(xué)品，因此不應(yīng)需要更改。在實(shí)際應(yīng)用中，其中一些特性是相互排斥的，必須進(jìn)行權(quán)衡。例如，顆粒保留率和流速是矛盾的：過(guò)濾器的保持力越強(qiáng)，流速越低。對(duì)低成本的需求與在腐蝕性化學(xué)環(huán)境中實(shí)現(xiàn)低可提取物所需的過(guò)濾材料的高成本相沖突。為了實(shí)現(xiàn)下游清潔，過(guò)濾器必須在清潔的環(huán)境中制造，并在制造后的過(guò)程中進(jìn)行清潔，這也增加了成本。本文探討了這些問(wèn)題，并描述了用于再循環(huán)緩沖氧化物蝕刻 (BOE) 應(yīng)用的過(guò)濾設(shè)備的測(cè)試。在這里，流速和無(wú)顆粒非常重要，并且由于許多蝕刻浴配方的高表面張力和低氣體溶解度，過(guò)濾器潤(rùn)濕性也很重要。

過(guò)濾器特性

根據(jù)應(yīng)用的不同，過(guò)濾器的某些特性比其他特性更重要。對(duì)于 BOE REB，流速、可萃取物和顆粒截留率非常重要，但如上所述，過(guò)濾器潤(rùn)濕性也很重要。在接下來(lái)的部分中，過(guò)濾器屬性按 REB 應(yīng)用程序的重要性順序進(jìn)行描述。

流量

通過(guò)過(guò)濾器的流速會(huì)影響其顆粒去除率。在高流量下，浴液周轉(zhuǎn)速度更快，顆粒去除率更高。高流量還會(huì)增加攪拌并消除浴槽中的死區(qū)。流量由管道、噴射器和過(guò)濾器 的阻力控制。降低過(guò)濾器阻力會(huì)增加流量，尤其是當(dāng)過(guò)濾器阻力最初高于管道阻力時(shí)。

潤(rùn)濕性

膜很難用 40% NH4F 自然潤(rùn)濕，因?yàn)樗且环N接近飽和的溶液，表面張力為 95 達(dá)因/厘米 [6];一些膜過(guò)濾器實(shí)際上在 NH ^ F 的濃縮浴中去濕。通過(guò)使用具有較低表面張力和較高氣體溶解度的 BOE 溶液(即氟化銨濃度較低的溶液)，可以消除導(dǎo)致流動(dòng)損失和晶片上顆粒數(shù)量增加的去濕現(xiàn)象。

完整性可測(cè)試

在 REB 中安裝過(guò)濾器之前進(jìn)行完整性測(cè)試是值得的完整性測(cè)試可能表明過(guò)濾器故障和顆粒通過(guò)的可能性。對(duì)于 REB 應(yīng)用，其中通過(guò)小的過(guò)濾器缺陷的顆粒將在下一次浴槽周轉(zhuǎn)中被去除，完整性測(cè)試并不重要-;這里完整性測(cè)試只需要檢測(cè)過(guò)濾器的主要故障。雖然測(cè)試晶片表面的顆粒監(jiān)測(cè)可以達(dá)到同樣的目的，但完整性測(cè)試的優(yōu)勢(shì)在于可以將過(guò)濾器明確識(shí)別為顆粒問(wèn)題的來(lái)源。

審核編輯：湯梓紅