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電子發(fā)燒友網(wǎng)>今日頭條>MACE工藝制備黑硅的表面形態(tài)學(xué)和光學(xué)性能研究

MACE工藝制備黑硅的表面形態(tài)學(xué)和光學(xué)性能研究

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2016-09-18 16:55:030

用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)梯度運(yùn)算_OpenCV3編程入門-源碼例程

OpenCV3編程入門-源碼例程全集-用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)梯度運(yùn)算,感興趣的小伙伴們可以瞧一瞧。
2016-09-18 17:02:2510

用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)帽運(yùn)算_OpenCV3編程入門-源碼例程

OpenCV3編程入門-源碼例程全集-用morphologyEx進(jìn)行形態(tài)學(xué)帽運(yùn)算,感興趣的小伙伴們可以瞧一瞧。
2016-09-18 17:02:250

Intel科技光學(xué)芯片正朝400Gbps邁進(jìn)

Intel不能大幅升級處理器性能并不單單是好基友AMD跟不上隊(duì)或者PC市場下滑,很大一個(gè)原因是半導(dǎo)體工藝進(jìn)展變慢了,不可能像之前的摩爾定律那樣大幅提升性能。不過Intel手里還是有很多科技的,他們研發(fā)的光學(xué)芯片正在小型化,已實(shí)現(xiàn)100Gbps速率,正在朝400Gbps邁進(jìn)。
2016-11-09 18:06:10990

太陽電池電極接觸研究

太陽電池電極接觸研究
2016-12-16 17:23:060

基于改進(jìn)_變換和數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的電壓暫降檢測方法_王瑩

基于改進(jìn)_變換和數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的電壓暫降檢測方法_王瑩
2017-01-08 10:11:412

改進(jìn)的形態(tài)學(xué)運(yùn)算在聲納圖像生成中的應(yīng)用_李莉

改進(jìn)的形態(tài)學(xué)運(yùn)算在聲納圖像生成中的應(yīng)用_李莉
2017-03-19 11:30:431

基于形態(tài)學(xué)濾波的激光標(biāo)靶中激光光斑的識別黃一萬

基于形態(tài)學(xué)濾波的激光標(biāo)靶中激光光斑的識別_黃一萬
2017-03-15 08:00:001

基高通量單細(xì)胞陣列芯片制備研究_孟祥

基高通量單細(xì)胞陣列芯片制備研究_孟祥
2017-03-19 11:41:390

高溫薄膜傳感器制備性能研究_王強(qiáng)

高溫薄膜傳感器制備性能研究_王強(qiáng)
2017-03-19 19:04:390

基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)TOP-HAT彩色圖像增強(qiáng)

針對傳統(tǒng)彩色圖像增強(qiáng)過程中的過度增強(qiáng)及空間變化所引起的信息丟失現(xiàn)象,在RGB空間提出一種基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)top-hat算法,以各分量標(biāo)準(zhǔn)差權(quán)重比例為調(diào)控因子的彩色圖像增強(qiáng)方法。首先,提取R、G、B通道
2017-11-20 15:08:143

子像素形態(tài)學(xué)反走樣算法的改進(jìn)

針對子像素形態(tài)學(xué)反走樣( SMAA)算法提取圖像輪廓信息少和存儲空間較大的問題,提出一種改進(jìn)的形態(tài)學(xué)反走樣算法。該算法用一個(gè)像素的亮度與調(diào)整因子的乘積作為動(dòng)態(tài)閾值,來判定該像素是否為輪廓條件
2017-11-24 16:58:570

基于機(jī)器視覺的米字形結(jié)構(gòu)元素?cái)?shù)學(xué)形態(tài)學(xué)濾波方法

:效率低、精度低、人為主觀性強(qiáng)和測量者個(gè)體差異等問題,提出了一種基于機(jī)器視覺的道岔鋼軌端面尺寸測量方法,此方法的核心技術(shù)在于應(yīng)用米字形結(jié)構(gòu)元素的數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)操作MI-cored對道岔鋼軌端面圖像進(jìn)行二次去噪處理,并通過實(shí)
2017-11-29 15:08:471

基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的模糊模板匹配方法

為了更加高效地利用模板匹配的方法實(shí)現(xiàn)對車牌字符圖像的識別,結(jié)合數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)和模糊集理論,提出基于數(shù)學(xué)形態(tài)學(xué)的模糊模板匹配方法。首先,對于二值圖像的每個(gè)像素點(diǎn)及其8鄰域,以賦權(quán)的方式刻畫中心像素點(diǎn)隸屬于
2017-12-04 14:32:071

一種圖像的形態(tài)學(xué)識別算法

的圓形進(jìn)行圖像過濾,獲取圖形不同尺寸的形態(tài)學(xué)特征,建立扇形區(qū)域特征向量;最后采用多尺度的分析方法進(jìn)行圖像識別以及圖像角度分析。在角度無關(guān)性、比例無關(guān)性、輪廓干擾魯棒性下與傳統(tǒng)方法進(jìn)行對比實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明該
2018-01-17 11:07:230

如何制備鋰電池基負(fù)極極片?

鋰電池基負(fù)極極片該如何制備呢?KarkarZ等人研究電極的制備工藝。
2018-08-07 15:52:145521

使用OpenCV實(shí)現(xiàn)形態(tài)學(xué)操作和腐蝕膨脹及開閉運(yùn)算的實(shí)例說明

本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是的是使用OpenCV實(shí)現(xiàn)形態(tài)學(xué)操作和腐蝕膨脹及開閉運(yùn)算的實(shí)例說明。
2019-11-22 16:52:001

形態(tài)學(xué)+功能學(xué):一體化的心血管疾病智能診斷

無論是形態(tài)學(xué)或功能學(xué),市面上大部分產(chǎn)品都依賴于大量的人工介入,無法做到高度的自動(dòng)化。 近日,雷鋒網(wǎng)心血管科技云峰會邀請到睿心醫(yī)療聯(lián)合創(chuàng)始人兼CTO馬駿,以「形態(tài)學(xué)+功能學(xué):一體化的心血管疾病智能診斷
2020-10-21 17:43:394925

形態(tài)學(xué)濾波算法的FPGA硬件實(shí)現(xiàn)

一、背景介紹 基于二值圖像的濾波算法即形態(tài)學(xué)濾波,在圖像目標(biāo)采集的預(yù)處理中經(jīng)常被使用到,針對不同的使用場景涉及到腐蝕、膨脹、開閉運(yùn)算等處理。實(shí)際使用中對于不同的分辨率大小以及模板窗口大小,都要進(jìn)行
2021-03-03 10:20:132526

基于二值圖像的濾波算法即形態(tài)學(xué)濾波

形態(tài)學(xué)濾波由腐蝕和膨脹兩種操作組成。首先,腐蝕(Erosion)的核心思想是圖像像素之間進(jìn)行邏輯與運(yùn)算,簡單來說,當(dāng)一個(gè)包含當(dāng)前像素的結(jié)構(gòu)單元的像素值都為“1”時(shí)輸出待處理的的目標(biāo)像素。
2021-03-09 11:51:106368

如何實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)邏輯的形態(tài)圖像處理器

在闡述坐標(biāo)邏輯運(yùn)算的基礎(chǔ)上,論述了基于坐標(biāo)邏輯形態(tài)學(xué)硬件實(shí)現(xiàn)的圖像處理系統(tǒng).該系統(tǒng)采用D!、P+FPGA的框架結(jié)構(gòu),利用FH礬的可重構(gòu)特性將其中一片F(xiàn)P(認(rèn)作為協(xié)處理器可以實(shí)現(xiàn)不同的圖像處理功能.將
2021-03-30 11:28:584

基于層次值的皮膚創(chuàng)面形態(tài)學(xué)展開方法

創(chuàng)面形態(tài)學(xué)展開方法。首先對皮膚創(chuàng)面進(jìn)行層次劃分,分層拓?fù)溆成渲疗矫?。然后結(jié)合力學(xué)方法模擬皮膚的應(yīng)力和應(yīng)變,分層優(yōu)化皮膚創(chuàng)面的展開形狀,實(shí)現(xiàn)局部創(chuàng)面和創(chuàng)面整體的并行優(yōu)化。最后對生成的皮膚展開輪廓進(jìn)行光順,得到
2021-05-12 16:16:5931

OpenCV中實(shí)現(xiàn)了圖像形態(tài)學(xué)什么常見操作?

圖像形態(tài)學(xué)是圖像處理的分支學(xué)科,在二值圖像處理中占有重要地位、OpenCV中實(shí)現(xiàn)了圖像形態(tài)學(xué)如下常見操作: -膨脹操作 -腐蝕操作 -開操作 -閉操作 -擊中擊不中操作 -帽操作 -頂帽操作
2021-05-27 14:11:551955

基于層次值的皮膚創(chuàng)面形態(tài)學(xué)展開方法綜述

基于層次值的皮膚創(chuàng)面形態(tài)學(xué)展開方法
2021-06-27 15:10:226

opencv 輪廓放大_OpenCV開發(fā)筆記(六十六):紅胖子8分鐘帶你總結(jié)形態(tài)學(xué)操作-膨脹、腐蝕、開運(yùn)算、閉運(yùn)算、梯

opencv 輪廓放大_OpenCV開發(fā)筆記(六十六):紅胖子8分鐘帶你總結(jié)形態(tài)學(xué)操作-膨脹、腐蝕、開運(yùn)算、閉運(yùn)算、梯......
2021-11-24 14:21:0221

晶體襯底的表面織構(gòu)和光學(xué)特性的說明

、光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡相結(jié)合,研究了KOH/IPA蝕刻對紋理表面形態(tài)和粗糙度的影響。結(jié)果表明,在80℃以下的溫度下,IPA濃度對(001)-單晶晶體表面粗糙度的影響最強(qiáng)。高于該值時(shí),在襯底上顯示出溫度引起裂紋。氫氧化鉀:
2022-01-11 14:41:581824

集成光子制備工藝研究

摘要 本文主要研究集成光子的制備工藝?;贗II-V半導(dǎo)體的器件, 這項(xiàng)工作涵蓋了一系列III-V材料以及各種各樣的設(shè)備。 最初,設(shè)計(jì),制造和光學(xué)表征研究了鋁砷化鎵波導(dǎo)增強(qiáng)光學(xué)非線性
2022-02-24 14:55:401658

晶片表面組織工藝優(yōu)化研究

本文章將對表面組織工藝優(yōu)化進(jìn)行研究,多晶晶片表面組織化工藝主要分為干法和濕法,其中利用酸或堿性溶液的濕法蝕刻工藝在時(shí)間和成本上都比較優(yōu)秀,主要適用于太陽能電池量產(chǎn)工藝。本研究在多晶晶片表面組織化工藝
2022-03-25 16:33:491013

通過兩步濕法刻蝕法制備

研究的形成進(jìn)行了兩步短濕蝕刻處理,所建議的結(jié)構(gòu)包括兩個(gè)步驟。第一步:濕酸性蝕刻凹坑狀形態(tài),具有降低紋理化溫度的新解決方案;第二步:通過金屬輔助蝕刻(MAE)獲得的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)。由于紋理制作
2022-03-29 15:07:501520

采用濕蝕刻技術(shù)制備

和水熱蝕刻制備具有更大的優(yōu)勢。它為制備可見光和近紅外光電子器件提供了一種合適而經(jīng)濟(jì)的方法。本文采用濕式蝕刻法制備了微結(jié)構(gòu),并對其微觀結(jié)構(gòu)進(jìn)行了表征,并對其光學(xué)性能進(jìn)行了測試。
2022-03-29 16:02:591360

在玻璃上制備大晶粒多晶薄膜的方法

的鋁誘導(dǎo)結(jié)晶(AIC)的鋁誘導(dǎo)層交換(ALILE)工藝已被用于制備具有大晶粒和表面高優(yōu)先(100)取向的p+型籽晶層。
2022-04-13 15:24:372644

形態(tài)學(xué)運(yùn)算與仿真:圖像處理中形態(tài)學(xué)操作的簡單解釋

形態(tài)學(xué)是圖像處理領(lǐng)域的一個(gè)分支,主要用于描述和處理圖像中的形狀和結(jié)構(gòu)。形態(tài)學(xué)可以用于提取圖像中的特征、消除噪聲、改變圖像的形狀等。其中形態(tài)學(xué)的核心操作是形態(tài)學(xué)運(yùn)算。
2023-05-23 15:52:441724

石墨烯增強(qiáng)銅基復(fù)合材料制備工藝性能研究進(jìn)展

銅基復(fù)合材料的制備工藝與綜合性能,重點(diǎn)討論了各種制備工藝的特點(diǎn)、強(qiáng)化機(jī)制、構(gòu)型設(shè)計(jì),總結(jié)了針對復(fù)合界面結(jié)合弱與石墨烯分散困難這2類主要技術(shù)難點(diǎn)的解決途徑,最后對石墨烯增強(qiáng)銅基復(fù)合材料的制備工藝進(jìn)行了展望。
2023-06-14 16:23:4811359

絲網(wǎng)印刷工藝對晶太陽能電池表面形貌與電學(xué)性能的影響

在晶太陽能電池的生產(chǎn)工藝中,絲網(wǎng)印刷工藝對其表面特征和性能的影響通常是非常直接且關(guān)鍵的。然而為了了解絲網(wǎng)印刷對電池表面特征和性能影響程度的大小、科學(xué)表征由絲網(wǎng)印刷工藝印刷過后的柵線參數(shù)和電池片性能
2023-11-09 08:34:141680

飛秒激光制備器件的原理 飛秒激光制備表面型紅外器件

近年來,隨著研究人員對紅外微光學(xué)元器件的深入研究,高精度制備器件備受關(guān)注。傳統(tǒng)的制備技術(shù)存在許多缺點(diǎn),而飛秒激光有著超強(qiáng)、超快的特性,非常合適用來制備紅外微光學(xué)元器件。
2023-12-29 16:25:012911

形態(tài)與沉積方式

優(yōu)化硅的形態(tài)與沉積方式是半導(dǎo)體和MEMS工藝的關(guān)鍵,LPCVD和APCVD為常見的沉積技術(shù)。
2024-01-22 09:32:155750

晶圓的制備流程

本文從硅片制備流程為切入點(diǎn),以方便了解和選擇合適的晶圓,晶圓的制備工藝流程比較復(fù)雜,加工工序多而長,所以必須嚴(yán)格控制每道工序的加工質(zhì)量,才能獲得滿足工藝技術(shù)要求、質(zhì)量合格的硅單晶片(晶圓),否則就會對器件的性能產(chǎn)生顯著影響。
2024-10-21 15:22:271991

N型單晶制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響

本文介紹了N型單晶制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響。
2025-03-18 16:46:211309

LPCVD方法在多晶制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

本文圍繞單晶、多晶與非晶三種形態(tài)的結(jié)構(gòu)特征、沉積技術(shù)及其工藝參數(shù)展開介紹,重點(diǎn)解析LPCVD方法在多晶制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn),并結(jié)合不同工藝條件對材料性能的影響,幫助讀者深入理解材料在先進(jìn)微納制造中的應(yīng)用與工藝演進(jìn)路徑。
2025-04-09 16:19:531996

光學(xué)輪廓儀揭示:表面特性對 CFRP / 鋁合金粘接性能影響的研究

納米級分辨率和三維重構(gòu)能力成為關(guān)鍵工具。光子灣科技的光學(xué)輪廓儀在材料表面力學(xué)性能關(guān)聯(lián)研究中優(yōu)勢顯著,本研究中為揭示表面特性與粘接性能的聯(lián)系提供可靠手段。#Photon
2025-08-05 17:45:58823

共聚焦顯微鏡解析 | 表面微織構(gòu) MoN 涂層的織構(gòu)調(diào)控與摩擦學(xué)性能研究

,MoN涂層的協(xié)同作用機(jī)理待深入研究。光子灣科技的高端光學(xué)測量技術(shù)為材料研究提供支撐,本文結(jié)合共聚焦顯微鏡三維成像,研究表面微織構(gòu)MoN涂層的織構(gòu)調(diào)控與摩擦學(xué)性能,
2025-08-05 17:46:16812

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