我們?nèi)A林科納研究了三種化學(xué)溶液，用于在分布反饋激光器應(yīng)用的InP外延生長之前清洗光柵。這些化學(xué)物質(zhì)是濃縮的HMSO和n< SO，H2 2的混合溶液，其中n =β和
2022-05-12 13:42:40
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本文展示了一種使用連續(xù)濕法化學(xué)表面活化(即SPM→RCAl清洗)結(jié)合硅和石英玻璃晶片的鍵合方法。經(jīng)過200 ℃的多步后退火，獲得了無空洞或微裂紋的牢固結(jié)合，基于詳細(xì)的表面和鍵合界面表征，建立了一個(gè)鍵
2022-05-13 16:08:323705 
一種新型光纖位移傳感器的設(shè)計(jì)
2012-08-14 23:19:19
一種新型單相脈沖整流器
2012-08-20 17:00:38
一種新型多協(xié)作中繼選擇協(xié)議研究
2012-08-06 13:35:31
請求大佬詳細(xì)介紹一下一種新型微弱激光檢測系統(tǒng)
2021-04-21 06:19:40
一種新型的矩陣鍵盤掃描方式
2016-10-09 21:37:27
新型銅互連方法—電化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)研究進(jìn)展多孔低介電常數(shù)的介質(zhì)引入硅半導(dǎo)體器件給傳統(tǒng)的化學(xué)機(jī)械拋光（ＣＭＰ）技術(shù)帶來了巨大的挑戰(zhàn)，低ｋ 介質(zhì)的脆弱性難以承受傳統(tǒng)ＣＭＰ 技術(shù)所施加的機(jī)械力。一種結(jié)合了
2009-10-06 10:08:07
新型非聯(lián)網(wǎng)2.4GHz技術(shù)為什么會是一種理想的選擇？
2021-05-28 06:15:05
1、全自動化的在線式清洗機(jī) 一種全自動化的在線式清洗機(jī)，該清洗機(jī)針對SMT/THT的PCBA焊接后表面殘留的松香助焊劑、水溶性助焊劑、免清洗性助焊劑/焊膏等有機(jī)、無機(jī)污染物進(jìn)行徹底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
抄板之免清洗技術(shù) 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種替代技術(shù)，尤其是移動通信產(chǎn)品基本上都是采用免洗方法來替代ODS.目前國內(nèi)
2018-09-13 15:47:25
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1、免清洗技術(shù) 在焊接過程中采用免清洗助焊劑或免清洗焊膏，焊接后直接進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種
2012-07-23 20:41:56
定義的CSP分類中。晶片級CSP是多種應(yīng)用的一種低成本選擇,這些應(yīng)用包括EEPROM等引腳數(shù)量較少的器件，以及ASIC和微處理器。CSP采用晶片級封裝(WLP)工藝加工，WLP的主要優(yōu)點(diǎn)是所有裝配
2018-08-27 15:45:31
分享一種CameraCube新型圖像傳感技術(shù)
2021-06-08 09:29:49
有機(jī)物光纖的特點(diǎn)是什么？一種新型有機(jī)物光纖的全光交換系統(tǒng)設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
2021-06-03 06:45:33
新型車載影音系統(tǒng)的工作原理是什么？如何去設(shè)計(jì)一種新型車載影音系統(tǒng)？
2021-05-12 06:46:11
為什么要提出一種新型AC-PDP驅(qū)動電路？新型AC-PDP驅(qū)動電路的設(shè)計(jì)思想及其計(jì)算機(jī)仿真新型AC-PDP驅(qū)動電路的具體實(shí)現(xiàn)
2021-04-21 07:00:47
在本設(shè)計(jì)中，設(shè)計(jì)了一種新型的應(yīng)用pin diodes的射頻開關(guān)轉(zhuǎn)換電路，實(shí)現(xiàn)的功能是4路RF輸入信號選擇其中任意2路RF信號輸出。
2021-06-04 06:55:00
什么是DPGA（數(shù)字可編程增益放大器）？如何設(shè)計(jì)一種采用發(fā)散指數(shù)曲線理念的新型DPGA？
2021-04-23 07:05:37
根據(jù)供電企業(yè)的實(shí)際需要，采用無線技術(shù)設(shè)計(jì)了一種新型電纜接頭溫度監(jiān)測系統(tǒng)終端。
2021-04-09 06:05:47
本文介紹了一種新型UHF頻段RFID讀寫器設(shè)計(jì)方案。
2021-06-01 06:33:21
基于FPGA的新型數(shù)字微鏡芯片測試系統(tǒng)是由哪些部分組成的？怎樣去設(shè)計(jì)一種基于FPGA的新型數(shù)字微鏡芯片測試系統(tǒng)？
2021-11-10 06:05:57
怎樣去設(shè)計(jì)一種基于STM32的負(fù)壓式玻璃清洗機(jī)器人呢？有哪些操作流程？
2021-10-14 08:47:00
求一種新型WCDMA直放站PA的設(shè)計(jì)方案
2021-05-26 06:14:52
求一種新型低溫科里奧利質(zhì)量流量計(jì)
2021-05-06 06:56:40
請求大佬分享一種新型光電定向系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)
2021-04-22 06:16:37
求一種新型系統(tǒng)級可編程芯片的設(shè)計(jì)方案
2021-05-06 07:44:32
求一種DSP+CPLD新型的智能儀器的設(shè)計(jì)方案
2021-05-08 07:54:25
求一種可以讓汽車中電容傳感器的應(yīng)用數(shù)量大幅增長的新型測量技術(shù)？
2021-05-11 07:04:26
本文以傳統(tǒng)的電磁式系統(tǒng)為基礎(chǔ)，研制一種使用紅外輻射技術(shù)的新型轉(zhuǎn)速測量儀，安裝方便，對周圍環(huán)境要求不高，可以很容易地完成轉(zhuǎn)速的測量。具有較寬的動態(tài)測量范圍，測量精度較高。
2021-05-08 06:46:34
進(jìn)入下道工序不再清洗，免清洗技術(shù)是目前使用最多的一種替換技術(shù)，尤其是移動通訊產(chǎn)品基本上都是采用免洗方法來替換ODS。目前海內(nèi)外已經(jīng)開發(fā)出良多種免洗焊劑，海內(nèi)如北京晶英公司的免清洗焊劑。免清洗焊劑大致
2018-09-13 15:50:54
怎么設(shè)計(jì)一種新型射頻開關(guān)轉(zhuǎn)換電路？射頻開關(guān)轉(zhuǎn)換電路設(shè)計(jì)步驟有哪些？
2021-04-21 07:06:21
為什么要設(shè)計(jì)一種新型電壓基準(zhǔn)電路？怎樣去設(shè)計(jì)一種新型電壓基準(zhǔn)電路？
2021-04-22 06:37:20
為什么要提出一種基于AVR的新型防汽車追尾安全裝置設(shè)計(jì)？怎樣去設(shè)計(jì)一種新型防汽車追尾安全裝置？
2021-05-12 06:02:32
一種新型接近開關(guān)及應(yīng)用
2009-04-14 09:15:29
15 一種新型的高壓交流調(diào)壓技術(shù):摘要：介紹了一種新型的星點(diǎn)控制交流調(diào)壓方案，它解決了傳統(tǒng)的交流調(diào)壓諧波大，保護(hù)較難實(shí)現(xiàn)等問題，已在110kV/150A高壓直流電源系統(tǒng)中實(shí)際應(yīng)用
2009-06-20 21:30:3238 利用法布里珀羅振蕩模構(gòu)造了一種新型的光化學(xué)傳感器。與傳統(tǒng)的以表面等離子模和光導(dǎo)模為探針的迅衰場傳感器不同,這種新型結(jié)構(gòu)中被傳感介質(zhì)處于法布里珀羅腔的振蕩場中,其能
2009-07-14 09:18:5019 將一種自合成的水溶性聚對苯撐乙烯(P PV ) 衍生物電聚合到玻碳電極表面, 制得一種新型N O 電化學(xué)傳感器. 實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明, 該傳感器對N O 具有靈敏的伏安響應(yīng), 相對裸玻碳電極兩個(gè)氧
2009-11-23 14:14:0033 一種新型陽極氧化多孔硅技術(shù):在適當(dāng)條件下氧化多孔硅是提高多孔硅發(fā)光強(qiáng)度的良好途徑,提出了一種新型陽極氧化方法,并探討了該方法所涉及的陽極氧化條件。采用含CH3CSNH2 的HF
2009-12-29 23:38:4713 敘述了凝汽器銅管化學(xué)清洗的優(yōu)點(diǎn)和在清洗過程中必須注意的幾個(gè)問題，并且用實(shí)例進(jìn)一步說明化學(xué)清洗還能夠有效防止凝汽器銅管的腐蝕。
2010-02-03 11:43:558 納濾(NF)膜法—— 一種新型的水處理技術(shù)
介紹了一種新型的水處理技術(shù)——納濾膜法，對它的發(fā)展概況、特點(diǎn)，分離機(jī)理以及在水處理領(lǐng)域的應(yīng)用作了簡單的闡
2010-02-22 11:40:0710 為了降低全搜索運(yùn)動估計(jì)算法帶來的巨大計(jì)算量,提高運(yùn)動估計(jì)計(jì)算速度,提出了一種新型的用于全搜索運(yùn)動估計(jì)硬件結(jié)構(gòu)。該硬件結(jié)構(gòu)能實(shí)時(shí)地通過全搜索運(yùn)動估計(jì)來搜索每個(gè)像素塊
2010-07-29 16:07:4516
一種新型通信用整流器
摘要：介紹了一種新型通信用整流器的電路組成與技術(shù)特點(diǎn)，給出了主電路結(jié)構(gòu)與技術(shù)指標(biāo)。
關(guān)
2009-07-09 10:42:52702 
一種新型的雙向全橋直流變換器控制策略_黃知超
2016-12-28 14:23:303 一種基于DDS技術(shù)的新型激光測距系統(tǒng)的設(shè)計(jì)
2017-01-02 19:33:2823 一種新型的電刷調(diào)整方法_周國玉
2017-01-02 16:09:050 一種新型便攜式轉(zhuǎn)轍機(jī)測試儀的設(shè)計(jì)與實(shí)現(xiàn)_王全剛
2017-02-07 18:11:351 今天為大家介紹一項(xiàng)國家發(fā)明授權(quán)專利——一種自動清洗的新型智能水表。該專利由安徽翼邁科技股份有限公司申請，并于2018年3月6日獲得授權(quán)公告。
2018-07-01 09:20:001000 
本文研究了一種新型全橋電路的零電壓零電流開關(guān)(zvzcs)變換器，分析了電路的原理和設(shè)計(jì)原則。
2018-05-30 09:39:1714 快速、高效、經(jīng)濟(jì)的農(nóng)藥痕量殘留的檢測技術(shù)具有重要意義。本文構(gòu)建了一種新型的仿生電化學(xué)傳感器以實(shí)現(xiàn)對農(nóng)產(chǎn)品中農(nóng)藥殘留的快速檢測。主要研究結(jié)果如下：
2018-12-24 08:00:008 摘要：化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是目前廣泛采用的幾乎唯一的高精度全局平面化技術(shù)。拋光后表面的清洗質(zhì)量直接關(guān)系到CMP技術(shù)水平的高低。介紹了各種機(jī)械、物理及化學(xué)清洗方法與工藝技術(shù)優(yōu)缺點(diǎn)，指出了清洗荊
2020-12-29 12:03:262353 本發(fā)明的工藝一般涉及到半導(dǎo)體晶片的清洗。更確切地說，本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機(jī)殘留物、金屬雜質(zhì)和其它特定的沾污物的清洗處理步驟的順序。 集成電路制造中所用的半導(dǎo)體晶片
2020-12-29 14:45:212673 當(dāng)傳感器監(jiān)測到選定的壓力信號傳遞到晶體管時(shí)會產(chǎn)生響應(yīng)，隨后傳導(dǎo)并放大這些信號進(jìn)行檢測。近來，一種被稱為有機(jī)電化學(xué)晶體管（OECT）的新型晶體管技術(shù)，在低電壓和低功耗下展現(xiàn)出了優(yōu)越的信號放大能力。
2021-03-17 13:59:5815031 近日，中國科學(xué)院微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所第八研究室宓現(xiàn)強(qiáng)課題組通過同時(shí)引入電化學(xué)生物傳感器、DNA四面體探針和微流控芯片，開發(fā)了一種新型的微流控-電化學(xué)檢測系統(tǒng)
2021-05-30 08:58:413817 
一種新型的多智能體深度強(qiáng)化學(xué)習(xí)算法
2021-06-23 10:42:4736 [技術(shù)領(lǐng)域] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種酸性化學(xué)品供應(yīng)控制系 統(tǒng)。 由于半導(dǎo)體行業(yè)中芯片生產(chǎn)線的工作對象是硅晶片，而能在硅晶片上蝕刻圖形 以及清洗硅晶片上的雜質(zhì)、微粒子的化學(xué)
2023-04-20 13:57:00465 一種三電平全橋直流變換器新型控制策略研究(現(xiàn)代電源技術(shù)王建輝課后答案)-一種三電平全橋直流變換器新型控制策略研究? ? ? ? ? ? ? ? ??
2021-08-31 18:40:2311 一種基于UC3879的新型軟開關(guān)DC-DC移相全橋變換器(ups電源技術(shù)支持祥云平臺)-一種基于UC3879的新型軟開關(guān)DC-DC移相全橋變換器? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?
2021-09-22 10:12:4865 索引術(shù)語—清洗、化學(xué)機(jī)械拋光、乙二胺四乙酸、多晶硅、三氧化二氫。 摘要 本文為后化學(xué)機(jī)械拋光工藝開發(fā)了新型清洗液，在稀釋的氫氧化銨(NH4OH+H2O)堿性水溶液中加入表面活性劑四甲基氫氧化銨
2022-01-26 17:21:181363 
半導(dǎo)體制造工業(yè)中的濕法清洗/蝕刻工藝用于通過使用高純化學(xué)品清洗或蝕刻來去除晶片上的顆?；蛉毕?。擴(kuò)散、光和化學(xué)氣相沉積(CVD)、剝離、蝕刻、聚合物處理、清潔和旋轉(zhuǎn)擦洗之前有預(yù)清潔作為濕法清潔/蝕刻
2022-02-22 13:47:512798 
和極低溫的關(guān)于向粒子噴射氮?dú)馊苣z等“清洗能力相關(guān)技術(shù)”進(jìn)行了大量研究;另一方面，關(guān)于通過清洗暫時(shí)遠(yuǎn)離晶片的粒子，重新附著到晶片上，進(jìn)行葉片式清洗，在干燥時(shí)晶片和保持晶片的轉(zhuǎn)盤高速旋轉(zhuǎn)。
2022-02-22 16:01:081496 
清洗都是開發(fā)半導(dǎo)體電子器件的首要和基本步驟。清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學(xué)物質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。 介紹 半導(dǎo)體是一種固體物質(zhì)，其導(dǎo)電性介于絕緣體和導(dǎo)體之間。半導(dǎo)體材料的定義性質(zhì)是，它可以摻雜
2022-02-23 17:44:202533 摘要 該公司提供了一種用于清洗半導(dǎo)體晶片的方法和設(shè)備 100，該方法和方法包括通過從裝載端口 110 中的盒中取出兩個(gè)或多個(gè)晶片來填充化學(xué)溶液的第一罐將晶片放入。將晶片放入裝滿液體的第一槽(137
2022-02-28 14:56:031771 
摘要 本文介紹了半導(dǎo)體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實(shí)驗(yàn)研究。比較了兩種晶片制備技術(shù):一種是傳統(tǒng)的濕法技術(shù)，其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中，然后干燥；另一種
2022-03-04 15:03:503354 
殘留物由不同量的聚乙二醇或礦物油(切削液)、鐵和銅的氧化物、碳化硅和研磨硅，這些殘留物可以通過鋸切過程中產(chǎn)生的摩擦熱燒到晶片表面，為了去除這些殘留物，需要選擇正確的化學(xué)物質(zhì)來補(bǔ)充所使用的設(shè)備。 在晶片清洗并給予
2022-03-15 16:25:37882 
本文介紹了新興的全化學(xué)晶片清洗技術(shù)，研究它們提供更低的水和化學(xué)消耗的能力，提供了每種技術(shù)的工藝應(yīng)用、清潔機(jī)制、工藝效益和考慮因素、環(huán)境、安全和健康(ESH)效益和考慮因素、技術(shù)狀態(tài)和供應(yīng)商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57943 
單片SPM系統(tǒng)使用了大量的化學(xué)物質(zhì)，同時(shí)滿足28nm以下的清潔規(guī)格。 本文描述了在集成系統(tǒng)Ultra-C Tahoe中使用批量SPM系統(tǒng)和單晶片清洗，結(jié)果達(dá)到了技術(shù)規(guī)范，使用了不到單晶片系統(tǒng)中使用的80%的SPM化學(xué)物質(zhì)。
2022-04-01 14:22:552107 
晶片干洗系統(tǒng)，更詳細(xì)地說，是一種能夠提高對晶片干燥效率的馬蘭戈尼型(MARANGONI)TYPE)干洗系統(tǒng)。
2022-04-08 14:51:041388 
、封閉系統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)。另一方面，動態(tài)自旋清洗法解決了現(xiàn)在普遍使用的靜態(tài)分批清洗法中存在的交叉污染、藥液使用量的減少化、清洗時(shí)間的縮短化問題，而且還可以抑制自然氧化膜的生成，因此受到了人們的關(guān)注。將自旋清洗
2022-04-13 15:25:213124 
本文利用CZ、FZ和EPI晶片，研究了濕式化學(xué)清洗過程對硅晶片表面微粒度的影響。結(jié)果表明，表面微粗糙度影響了氧化物的介電斷裂~特性：隨著硅基底的微粗糙度的增加，氧化物的微電擊穿會降解。利用
2022-04-14 13:57:201074 
本發(fā)明公開了一種用濕式均勻清洗半導(dǎo)體晶片的方法,所公開的本發(fā)明的特點(diǎn)是:具備半導(dǎo)體晶片和含有預(yù)定清潔液的清潔組、對齊上述半導(dǎo)體晶片的平坦區(qū)域，使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導(dǎo)體晶片浸入
2022-04-14 15:13:571071 本文的目標(biāo)是討論一種新技術(shù)，它可以在保持競爭力的首席運(yùn)營官的同時(shí)改善權(quán)衡。 將開發(fā)濕化學(xué)抗蝕劑去除溶液的能力與對工藝和工具要求的理解相結(jié)合，導(dǎo)致了用于光刻膠去除的單晶片清洗技術(shù)的發(fā)展。 該技術(shù)針對晶
2022-05-07 15:11:111355 
引言 描述了溢流晶片清洗工藝中的流場。該信息被用于一項(xiàng)倡議，其主要目的是減少晶片清洗中的用水量。使用有限元數(shù)值技術(shù)計(jì)算速度場。大部分的水無助于晶片清洗。 介紹 清洗步驟占工廠中使用的ulaa純水
2022-06-06 17:24:461876 
表面和亞微米深溝槽的清洗在半導(dǎo)體制造中是一個(gè)巨大的挑戰(zhàn)。在這項(xiàng)工作中，使用物理數(shù)值模擬研究了使用脈動流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結(jié)果與文獻(xiàn)中的數(shù)值和實(shí)驗(yàn)結(jié)果吻合良好。毯式和圖案化晶片的初步結(jié)果表明，振蕩流清洗比穩(wěn)定流清洗更有效，并且振蕩流的最佳頻率是溝槽尺寸的函數(shù)。
2022-06-07 15:51:37737 
本發(fā)明涉及一種在集成電路制造中減少漏電流的方法，更具體地說，涉及一種在集成電路制造中通過新的預(yù)氧化清洗順序減少超薄柵氧化物漏電流的方法。 根據(jù)本發(fā)明的目的，實(shí)現(xiàn)了一種預(yù)氧化清洗襯底表面的新方法。我們
2022-06-17 17:20:401625 
本文講述了我們?nèi)A林科納的一種在單個(gè)晶圓清洗工藝中使用新型清洗溶液的方法，該方法涉及在單一晶片模式下使用清洗溶液，并且清洗溶液包括至少包括氫氧化銨（NH-OH）、過氧化氫(HO)、水(HO)和螯合劑
2022-06-30 17:22:114125 
雖然聽起來可能沒有極紫外(EUV)光刻那么性感，但對于確保成功的前沿節(jié)點(diǎn)、先進(jìn)半導(dǎo)體器件制造，濕法晶片清洗技術(shù)可能比EUV更重要，這是因?yàn)槠骷目煽啃院妥罱K產(chǎn)品的產(chǎn)量都與晶片的清潔度直接相關(guān)，因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">晶片要經(jīng)過數(shù)百個(gè)圖案化、蝕刻、沉積和互連工藝步驟。
2022-07-07 16:24:232658 
的實(shí)驗(yàn)和理論分析來建立晶片表面清潔技術(shù)。本文解釋了金屬和顆粒雜質(zhì)在硅片表面的粘附機(jī)理，并提出了一些清洗方法。 介紹 LSI(大規(guī)模集成電路)集成密度的增加對硅片質(zhì)量提出了更高的要求。更高質(zhì)量的晶片意味著晶體精度、成形質(zhì)量和
2022-07-11 15:55:451911 
在半導(dǎo)體和太陽能電池制造過程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問題。
2023-06-02 13:33:212934 
激光清洗技術(shù)是激光技術(shù)在工程領(lǐng)域的一種成功應(yīng)用，其基本原理是利用激光能量密度高的特點(diǎn)，使激光與工件基底上附著的污染物相互作用，以瞬間受熱膨脹、熔化、氣體揮發(fā)等形式與工件基底分離。激光清洗技術(shù)具有高效
2023-10-29 08:07:495391 
近日，北京理工大學(xué)光電學(xué)院許廷發(fā)教授科研團(tuán)隊(duì)與清華大學(xué)林星助理教授團(tuán)隊(duì)聯(lián)合開發(fā)了一種新型全光學(xué)智能光譜儀(Opto-Intelligence Spectrometer, OIS)。
2024-07-31 06:18:53974 
引言
碳化硅（SiC）作為一種寬禁帶半導(dǎo)體材料，因其出色的物理和化學(xué)性質(zhì)，在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。然而，在SiC晶片的制備和加工過程中，表面金屬殘留成為了一個(gè)
2025-02-06 14:14:59395 
引言
碳化硅（SiC）外延晶片因其卓越的物理和化學(xué)特性，在功率電子、高頻通信、高溫傳感等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。在SiC外延晶片的制備過程中，硅面貼膜是一道關(guān)鍵步驟，用于保護(hù)外延層免受機(jī)械損傷和污染。然而
2025-02-07 09:55:37317 引言
碳化硅（SiC）作為一種高性能的半導(dǎo)體材料，因其卓越的物理和化學(xué)性質(zhì)，在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。然而，在SiC外延片的制造過程中，表面污染物的存在會嚴(yán)重影響
2025-02-11 14:39:46414 好奇，一臺“清洗機(jī)”究竟有多重要?本文將帶你了解：全自動半導(dǎo)體晶片清洗機(jī)的技術(shù)原理、清洗流程、設(shè)備構(gòu)造，以及為什么它是芯片制造中不可或缺的核心裝備。一、晶片為什么要反
2025-06-24 17:22:47688 
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