在半導(dǎo)體制造的精密流程中，晶圓清洗機(jī)濕法制程設(shè)備扮演著至關(guān)重要的角色。以下是關(guān)于晶圓清洗機(jī)濕法制程設(shè)備的介紹：分類單片清洗機(jī)：采用兆聲波、高壓噴淋或旋轉(zhuǎn)刷洗技術(shù)，針對納米級顆粒物進(jìn)行去除。批量式清洗
2025-12-29 13:27:19
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UV三防漆固化后附著力強(qiáng)，難以直接去除，需根據(jù)基材類型、漆層面積及操作環(huán)境選擇科學(xué)方法。常見去除方式主要有化學(xué)法、加熱法與微研磨技術(shù)，操作時(shí)應(yīng)以安全為首要原則，并盡量避免損傷基材與周邊元器件。電子三
2025-12-27 15:17:19165 
的長期可靠性。要真正發(fā)揮其保護(hù)作用，避免后續(xù)問題，必須把握兩大核心：一是掌握三防漆使用的注意事項(xiàng)，二是了解三防漆怎么去除。三防漆，電子三防漆，電路板三防漆三防漆使
2025-12-23 15:18:10118 
在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓去膠工藝之后確實(shí)需要進(jìn)行清洗和干燥步驟。以下是具體介紹：一、清洗的必要性去除殘留物光刻膠碎片：盡管去膠工藝旨在完全去除光刻膠，但在實(shí)際操作中，可能會(huì)有一些微小的光刻膠顆粒殘留
2025-12-16 11:22:10110 
襯底清洗是半導(dǎo)體制造、LED外延生長等工藝中的關(guān)鍵步驟，其目的是去除襯底表面的污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬離子、氧化層等），確保后續(xù)薄膜沉積或器件加工的質(zhì)量。以下是常見的襯底清洗方法及適用場景：一
2025-12-10 13:45:30323 
如題，板上的CW32L010有讀保護(hù)，JLINK能識別到內(nèi)核，但無法擦除下載程序。
要怎么才能去除讀保護(hù)呢
2025-11-20 06:23:51
近年來，租賃市場中出現(xiàn)的“串串房”問題持續(xù)引發(fā)社會(huì)關(guān)注。這類經(jīng)過快速裝修、精美包裝的房源，往往隱藏著室內(nèi)空氣質(zhì)量超標(biāo)的安全隱患。
2025-11-03 17:01:061322 ? ? ? ? ? 專業(yè)感知，重新定義“氣味監(jiān)控”的下限 在氣體檢測領(lǐng)域，異味氣體一直是難以量化、難以早期預(yù)警的棘手對象。傳統(tǒng)VOC或TVOC傳感器面對“多源異味”“ppb級濃度”“高濕擾動(dòng)”時(shí)常
2025-10-31 10:49:30246 
智能照明控制模塊：革新家居照明體驗(yàn)的核心組件-華爾永盛 在智能家居飛速發(fā)展的當(dāng)下，照明系統(tǒng)的升級成為不少家庭提升生活品質(zhì)的重要選擇，而智能照明控制模塊正是推動(dòng)家居照明體驗(yàn)革新的核心組件，為用戶帶來
2025-10-29 15:20:42253 清洗晶圓以去除金屬薄膜需要根據(jù)金屬類型、薄膜厚度和工藝要求選擇合適的方法與化學(xué)品組合。以下是詳細(xì)的技術(shù)方案及實(shí)施要點(diǎn)：一、化學(xué)濕法蝕刻（主流方案）酸性溶液體系稀鹽酸（HCl）或硫酸（H?SO?）基
2025-10-28 11:52:04363 
、甲醛檢測、二氧化碳濃度檢測。 增加了數(shù)值單位，如PM2.5與甲醛濃度都是ug/m3，二氧化碳濃度為ppm。 操作優(yōu)化： 單擊顯示下一個(gè)功能頁面，雙擊顯示上一個(gè)功能頁面。 按鈕操作代碼優(yōu)化，目前可穩(wěn)定執(zhí)行以上操作。 家里剛裝修總是覺得害怕有甲醛影響健康。市場
2025-10-23 10:23:00222 
半導(dǎo)體制造中的清洗工藝是確保芯片性能、可靠性和良率的關(guān)鍵基礎(chǔ)環(huán)節(jié)，其核心在于精準(zhǔn)控制污染物去除與材料保護(hù)之間的微妙平衡。以下是該領(lǐng)域的核心要素和技術(shù)邏輯： 一、分子級潔凈度的極致追求 原子尺度的表面
2025-10-22 14:54:24331 ? ?在電商平臺開發(fā)中，店鋪裝修模板的跨系統(tǒng)同步是核心需求。本文從接口設(shè)計(jì)、數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)和實(shí)現(xiàn)邏輯三個(gè)維度進(jìn)行技術(shù)拆解。 一、接口設(shè)計(jì)規(guī)范 基礎(chǔ)參數(shù) 請求方法：POST 端點(diǎn)路徑：/api/v1
2025-10-17 15:24:08235 
半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中，SC-1與SC-2作為RCA標(biāo)準(zhǔn)的核心步驟，分別承擔(dān)著去除有機(jī)物/顆粒和金屬離子的關(guān)鍵任務(wù)。二者通過酸堿協(xié)同機(jī)制實(shí)現(xiàn)污染物的分層剝離，其配方設(shè)計(jì)、反應(yīng)原理及工藝參數(shù)直接影響芯片
2025-10-13 11:03:551022 
晶圓去除污染物的措施是一個(gè)多步驟、多技術(shù)的系統(tǒng)工程，旨在確保半導(dǎo)體制造過程中晶圓表面的潔凈度達(dá)到原子級水平。以下是詳細(xì)的解決方案：物理清除技術(shù)超聲波輔助清洗利用高頻聲波（通常為兆赫茲范圍）在清洗液
2025-10-09 13:46:43472 
真空脫泡
原理 ：這是最常用、最有效的脫泡方法。將待涂覆的銀膏（如在注射器中）或已印刷好銀膏的基板，放入真空腔室內(nèi)，抽至高真空（通常要求達(dá)到 10?2 Pa 甚至更高的真空度）。在低氣壓下，氣泡內(nèi)部
2025-10-04 21:13:49
不斷拉伸、擠壓，使氣泡在剪切力和真空（如果配合真空室）作用下被有效去除。
方法：使用專用的行星式攪拌機(jī)，通?？梢栽O(shè)置在真空環(huán)境下進(jìn)行。
優(yōu)點(diǎn)：脫泡和混合（如回溫后恢復(fù)膏體均勻性）效果極佳，能獲得非常均勻
2025-10-04 21:11:19
半導(dǎo)體金屬腐蝕工藝是集成電路制造中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，涉及精密的材料去除與表面改性技術(shù)。以下是該工藝的核心要點(diǎn)及其實(shí)現(xiàn)方式：一、基礎(chǔ)原理與化學(xué)反應(yīng)體系金屬腐蝕本質(zhì)上是一種受控的氧化還原反應(yīng)過程。常用酸性溶液
2025-09-25 13:59:25951 
光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟，其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實(shí)施要點(diǎn)：濕法剝離技術(shù)有機(jī)溶劑溶解法原理：使用丙酮、NMP
2025-09-17 11:01:271282 
實(shí)驗(yàn)室的空氣質(zhì)量檢測設(shè)備龐大到足以占據(jù)整整一間屋子。而如今，蘭芯源系列空氣質(zhì)量檢測儀使用MEMS傳感器，僅有巴掌大小，卻能精準(zhǔn)檢測甲醛、TVOC、PM2.5等多項(xiàng)指標(biāo)。
2025-09-16 17:01:49854 室內(nèi)網(wǎng)線一般不建議直接用于室外環(huán)境，但可通過特定處理或選擇專用室外網(wǎng)線實(shí)現(xiàn)室外應(yīng)用。以下是詳細(xì)分析： 一、室內(nèi)網(wǎng)線用于室外的潛在問題 物理防護(hù)不足 外皮材質(zhì)：室內(nèi)網(wǎng)線外皮多為PVC(聚氯乙烯)，耐候
2025-09-12 09:58:00912 
推薦裝修時(shí)預(yù)埋網(wǎng)線，預(yù)算充足或?qū)W(wǎng)絡(luò)要求極高時(shí)可同時(shí)預(yù)埋光纖。以下從性能、成本、安裝、未來升級四個(gè)維度展開分析： 一、性能對比：光纖傳輸占優(yōu)，但家庭場景中網(wǎng)線足夠 傳輸速度 光纖：采用光信號傳輸
2025-09-03 11:40:212477 家居環(huán)境是人類的“第一空間”，是人們安身立命、享受生活的地方，然而現(xiàn)代社會(huì)的家居環(huán)境往往暗藏危險(xiǎn)，尤其是甲醛這種看不見摸不著的有害物質(zhì)。
2025-08-22 17:51:351126 在工業(yè)生產(chǎn)和日常生活中，油污的清洗一直是個(gè)難題。尤其是在機(jī)械零件、廚房器具和電子設(shè)備等場合，油污不僅影響美觀，更可能影響設(shè)備的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。如何有效地去除油污成為許多用戶所關(guān)注的問題。而超聲波清洗機(jī)作為
2025-08-18 16:31:14773 
LSHITECH龍仕這款無蓋 Type-C 接口，以簡約設(shè)計(jì)為核心，去除了翻蓋結(jié)構(gòu)，使得插拔操作變得更加簡單直接，節(jié)省了使用時(shí)間，提高了工作效率。適用于相對潔凈、穩(wěn)定的室內(nèi)環(huán)境，如辦公室
2025-08-14 11:36:50
半導(dǎo)體封裝過程中的清洗工藝是確保器件可靠性和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，主要涉及去除污染物、改善表面狀態(tài)及為后續(xù)工藝做準(zhǔn)備。以下是主流的清洗技術(shù)及其應(yīng)用場景：一、按清洗介質(zhì)分類濕法清洗
2025-08-13 10:51:341909 
在木工安裝、水電布管、瓷磚鋪貼及室內(nèi)裝修等作業(yè)中，快速完成位置校準(zhǔn)、垂直水平找平與精準(zhǔn)投點(diǎn)，是保障施工質(zhì)量的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
2025-08-11 13:59:53855 濕法刻蝕SC2工藝在半導(dǎo)體制造及相關(guān)領(lǐng)域中具有廣泛的應(yīng)用，以下是其主要應(yīng)用場景和優(yōu)勢：材料選擇性去除與表面平整化功能描述：通過精確控制化學(xué)溶液的組成，能夠?qū)崿F(xiàn)對特定材料的選擇性去除。例如，它能
2025-08-06 11:19:181198 
光阻去除（即去膠工藝）屬于半導(dǎo)體制造中的光刻制程環(huán)節(jié)，是光刻技術(shù)流程中不可或缺的關(guān)鍵步驟。以下是其在整個(gè)制程中的定位和作用：1.在光刻工藝鏈中的位置典型光刻流程為：涂膠→軟烘→曝光→硬烘→顯影→后烘
2025-07-30 13:33:021120 
光阻去除工藝（即去膠工藝）是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟，旨在清除曝光后的光刻膠而不損傷底層材料。以下是主流的技術(shù)方案及其特點(diǎn)：一、濕法去膠技術(shù)1.有機(jī)溶劑溶解法原理：利用丙酮、NMP（N-甲基吡咯烷酮
2025-07-30 13:25:43916 
一、核心功能多槽式清洗機(jī)是一種通過化學(xué)槽體浸泡、噴淋或超聲波結(jié)合的方式，對晶圓進(jìn)行批量濕法清洗的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、光伏、LED等領(lǐng)域。其核心作用包括：去除污染物：顆粒、有機(jī)物、金屬離子
2025-07-23 15:01:01
在晶圓清洗工藝中，選擇氣體需根據(jù)污染物類型、工藝需求和設(shè)備條件綜合判斷。以下是對不同氣體的分析及推薦：1.氧氣（O?）作用：去除有機(jī)物：氧氣等離子體通過活性氧自由基（如O*、O?）與有機(jī)污染物（如
2025-07-23 14:41:42495 
半導(dǎo)體制造過程中，清洗工序貫穿多個(gè)關(guān)鍵步驟，以確保芯片表面的潔凈度、良率和性能。以下是需要清洗的主要工序及其目的： 1. 硅片準(zhǔn)備階段 硅片切割后清洗 目的：去除切割過程中殘留的金屬碎屑、油污和機(jī)械
2025-07-14 14:10:021016 去離子水清洗的核心目的在于有效去除物體表面的雜質(zhì)、離子及污染物，同時(shí)避免普通水中的電解質(zhì)對被清洗物的腐蝕與氧化，確保高精度工藝環(huán)境的純凈。這一過程不僅提升了產(chǎn)品質(zhì)量，還為后續(xù)加工步驟奠定了良好基礎(chǔ)
2025-07-14 13:11:301045 
化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Polishing, 簡稱 CMP）技術(shù)是一種依靠化學(xué)和機(jī)械的協(xié)同作用實(shí)現(xiàn)工件表面材料去除的超精密加工技術(shù)。下圖是一個(gè)典型的 CMP 系統(tǒng)示意圖：
2025-07-03 15:12:552213 
微小毛刺的存在會(huì)對產(chǎn)品品質(zhì)、安全造成隱患，因此對于一些行業(yè)而言，去除毛刺是特別重要的工序。傳統(tǒng)的清洗方法可能無法徹底解決毛刺問題，但是超聲波清洗機(jī)能夠有效地去除微小毛刺，提高產(chǎn)品質(zhì)量和安全性。本文將
2025-07-02 16:22:27493 
半導(dǎo)體濕法清洗是芯片制造過程中的關(guān)鍵工序，用于去除晶圓表面的污染物（如顆粒、有機(jī)物、金屬離子、氧化物等），確保后續(xù)工藝的良率與穩(wěn)定性。隨著芯片制程向更小尺寸（如28nm以下）發(fā)展，濕法清洗設(shè)備
2025-06-25 10:21:37
火災(zāi)征兆預(yù)檢知～對電路板生發(fā)異味氣體的檢出近年來，因IoT的普及帶來的電氣產(chǎn)品高性能化與小型集成化，使得電路板一直朝著高密度化的方向發(fā)展。如此高密度的電路板在長期使用和熱蓄積下很容易產(chǎn)生品質(zhì)劣化
2025-06-14 12:03:08488 
作中的得力助手。它通過高壓水流，迅速且有效地去除各種污漬，極大地提高了清潔效率。本文將深入探討高壓清洗機(jī)的工作原理、優(yōu)勢、實(shí)際應(yīng)用步驟，以及一些專業(yè)建議，幫助您更好地利用這一
2025-06-11 16:44:12636 
），避免引入二次污染。 適用場景：用于RCA標(biāo)準(zhǔn)清洗（SC1/SC2配方）、去除硅片表面金屬離子和顆粒。 典型應(yīng)用： SC1溶液（H?SO?/H?O?）：去除有機(jī)物和金屬污染； SC2溶液（HCl/H?O?）：去除重金屬殘留。 技術(shù)限制： 傳統(tǒng)SPM（硫酸+過氧化氫）清洗中，過氧
2025-06-04 15:15:411056 焊劑是焊料中的添加劑，通過去除和防止氧化以及改善液體焊料的潤濕特性來促進(jìn)焊接過程。焊錫絲有不同類型的焊劑芯。
2025-06-04 09:21:33805 在現(xiàn)代制造業(yè)中，表面質(zhì)量對產(chǎn)品的性能和外觀至關(guān)重要。超聲波清洗機(jī)作為一種高效的清洗工具，在去除表面污垢和缺陷方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用。本文將介紹超聲波清洗機(jī)的作用，以及它是否能夠有效去除毛刺。超聲波清洗機(jī)
2025-05-29 16:17:33874 
有研究表明，大多數(shù)人80%以上的時(shí)間都在室內(nèi)度過，但霧霾、PM2.5、甲醛、TVOC、氨、氡等室內(nèi)空氣污染物卻成為危害人體健康的隱形殺手。我們該如何辨別所處的室內(nèi)環(huán)境是否健康安全？
2025-05-13 11:49:18832 一、方案背景 隨著大型室內(nèi)場所如商場、醫(yī)院、機(jī)場、停車場等大型場館日益增多，人們在復(fù)雜的室內(nèi)環(huán)境中經(jīng)常面臨找路難，不知去向的問題，通過室內(nèi)導(dǎo)航方案，能為用戶提供精準(zhǔn)、便捷的室內(nèi)路徑引導(dǎo)服務(wù)，輕松規(guī)劃
2025-05-09 13:45:44726 芯片刻蝕是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟，用于將設(shè)計(jì)圖案從掩膜轉(zhuǎn)移到硅片或其他材料上，形成電路結(jié)構(gòu)。其原理是通過化學(xué)或物理方法去除特定材料（如硅、金屬或介質(zhì)層），以下是芯片刻蝕的基本原理和分類： 1. 刻蝕
2025-05-06 10:35:311971 結(jié)構(gòu)與材料 ? 2. 性能特點(diǎn) 3. 使用環(huán)境 室內(nèi)光纜： 適用于建筑物內(nèi)部、數(shù)據(jù)中心、機(jī)房等室內(nèi)環(huán)境。 需滿足室內(nèi)防火規(guī)范，如低煙無鹵要求。 安裝時(shí)需避免過度彎曲，防止信號衰減。 室外光纜
2025-04-29 10:11:401352 
半導(dǎo)體BOE（Buffered Oxide Etchant，緩沖氧化物蝕刻液）刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面氧化層的關(guān)鍵工藝，尤其在微結(jié)構(gòu)加工、硅基發(fā)光器件制作及氮化硅/二氧化硅刻蝕中廣
2025-04-28 17:17:255511 很多行業(yè)的人都在好奇一個(gè)問題，就是spm清洗會(huì)把氮化硅去除嗎？為此，我們根據(jù)實(shí)踐與理論，給大家找到一個(gè)結(jié)果，感興趣的話可以來看看吧。 SPM清洗通常不會(huì)去除氮化硅（Si?N?），但需注意特定條件
2025-04-27 11:31:40866 可以解決這個(gè)問題——超聲波除油清洗設(shè)備。這種設(shè)備利用高頻超聲波振動(dòng)技術(shù)，能夠高效、徹底地去除難以清潔的油漬。接下來，我們將詳細(xì)探討超聲波除油清洗設(shè)備的工作原理和優(yōu)
2025-04-23 16:48:06846 
室內(nèi)外融合定位車載終端是一種集多種定位技術(shù)于一體的高精度定位設(shè)備，能夠在室內(nèi)外環(huán)境中無縫切換并提供精準(zhǔn)的位置數(shù)據(jù)。以下是關(guān)于這款產(chǎn)品的詳細(xì)介紹：產(chǎn)品特點(diǎn)●快速精準(zhǔn)定位 ●方便安裝
2025-04-19 16:24:53
室內(nèi)外融合智能定位手表是一款基于4G通信開發(fā)的融合多重定位模式的智能穿戴硬件，其可支持GPS、北斗、WiFi、藍(lán)牙等定位模式，能夠在室內(nèi)外環(huán)境中無縫切換并提供精準(zhǔn)定位。產(chǎn)品特點(diǎn)●支持血氧、心率、體溫
2025-04-19 16:21:58
室內(nèi)外融合定位便攜式終端是一種集多種定位技術(shù)于一體的高精度定位設(shè)備，能夠在室內(nèi)外環(huán)境中無縫切換并提供精準(zhǔn)的位置數(shù)據(jù)。同時(shí)，便攜式終端可以作為移動(dòng)的4G網(wǎng)關(guān)使用，掃描終端BLE設(shè)備。產(chǎn)品特點(diǎn)●產(chǎn)品輕便
2025-04-19 16:18:53
室內(nèi)外融合安全帽定位終端是一款專為安全帽定位需求開發(fā)的定位終端，其優(yōu)勢在于體積輕巧，方便佩戴，充電便捷，同時(shí)具有多重定位方式，可以實(shí)現(xiàn)室內(nèi)外一體化定位。產(chǎn)品特點(diǎn)●產(chǎn)品輕便小巧 ●方便安裝于
2025-04-19 16:13:17
引言 ? ????????在大型商場、醫(yī)院、展覽館等復(fù)雜室內(nèi)空間中，室內(nèi)叁仟智能指路牌已成為人們快速定位、便捷出行的得力助手。而其定位精度，宛如指路牌的 “靈魂”，直接決定了指引的準(zhǔn)確性與可靠性
2025-04-01 10:37:49784 本文介紹在OpenHarmony5.0Release操作系統(tǒng)下，去除鎖屏開機(jī)后直接進(jìn)入界面的方法。觸覺智能PurplePiOH鴻蒙開發(fā)板演示，搭載了瑞芯微RK3566四核處理器，1TOPS算力NPU
2025-03-12 18:51:211034 
請問會(huì)產(chǎn)生以下問題的原因是什么
有辦法去除嗎
另外發(fā)現(xiàn)如果用激光直接打在DMD上
反射出來的圖形每一個(gè)像素的光會(huì)有暈開的現(xiàn)象
有辦法解決嗎?
謝謝
2025-02-28 07:03:31
我利用DLP3010evm的displayboard和自己做的一塊底板連接。
去除了底板上的MSP430，直接將賽普拉斯芯片與dlpc連接。賽普拉斯芯片配置和evm一樣。
可以燒錄固件，但是GUI
2025-02-27 08:07:54
室內(nèi)機(jī)房布線采用的光纜主要有以下幾種類型： 單芯、雙芯互連室內(nèi)光纜(Interconnect cable) 結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：采用緊套結(jié)構(gòu)和高承載芳綸紗圍繞緊套光纖，結(jié)構(gòu)尺寸小，柔軟性好，可承受很小的彎曲
2025-02-26 09:46:371026 引言
碳化硅（SiC）作為新一代半導(dǎo)體材料，因其出色的物理和化學(xué)特性，在功率電子、高頻通信、高溫及輻射環(huán)境等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。然而，在SiC外延片的制備過程中，揭膜后的臟污問題一直是影響外延片質(zhì)量和后續(xù)器件性能的關(guān)鍵因素。臟污主要包括顆粒物、有機(jī)物、無機(jī)化合物以及重金屬離子等，它們可能來源于外延生長過程中的反應(yīng)副產(chǎn)物、空氣中的污染物或處理過程中的殘留
2025-02-24 14:23:16260 
本文介紹了集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù)，分別討論了高介電常數(shù)柵極工藝、先柵極工藝和后柵極工藝對比，并詳解了偽柵去除工藝。 高介電常數(shù)金屬柵極工藝 隨著CMOS集成電路特征尺寸的持續(xù)縮小，等效柵氧
2025-02-20 10:16:361303 
0BB（無主柵技術(shù)）是光伏電池領(lǐng)域的一項(xiàng)創(chuàng)新，旨在優(yōu)化傳統(tǒng)太陽能電池的電極設(shè)計(jì)。傳統(tǒng)電池通常采用主柵（粗導(dǎo)線）和副柵（細(xì)導(dǎo)線）收集電流，而0BB技術(shù)完全去除了主柵，僅保留更密集的副柵結(jié)構(gòu)，從而減少
2025-02-19 09:04:212019 
? ? 焊接應(yīng)力是個(gè)啥？6種方法輕松去除！ ??? 由于焊接時(shí)局部不均勻熱輸入，導(dǎo)致構(gòu)件內(nèi)部溫度場、應(yīng)力場以及顯微組織狀態(tài)發(fā)生快速變化，容易產(chǎn)生不均勻彈塑性形變，因此采用焊接工藝加工的工件較其他加工
2025-02-18 09:29:302308 
實(shí)驗(yàn)名稱：ATA-304C功率放大器在半波整流電化學(xué)方法
去除低濃度含鉛廢水中鉛離子中的應(yīng)用實(shí)驗(yàn)方向：環(huán)境電化學(xué)實(shí)驗(yàn)設(shè)備：ATA-304C功率放大器，信號發(fā)生器、蠕動(dòng)泵、石墨棒等實(shí)驗(yàn)?zāi)康模涸诎氩ㄕ?/div>
2025-02-13 18:32:04792 
作為物聯(lián)網(wǎng)智能硬件的引領(lǐng)者，云里物里當(dāng)然不是來聊電影的，而是想借此機(jī)會(huì)，和大家探討一下：室內(nèi)導(dǎo)航究竟是如何實(shí)現(xiàn)的?它背后的技術(shù)原理是什么?接下來，讓我們一起揭開室內(nèi)導(dǎo)航的神秘面紗。
2025-02-12 13:50:31961
請問ads1298怎么去除工頻干擾，我測出的信號看起來很像50hz的工頻干擾，請問這個(gè)干擾要用軟件去除嗎，還是在輸入端搭電路或者是我測出的信號不對？
2025-02-12 07:54:29
大家好，我在使用TLC7524做數(shù)模轉(zhuǎn)換，在上電的一瞬間有接近100ms的最高值電壓輸出。如果將WR腳用1K電阻拉到地（此引腳未連接其他電路），則時(shí)間縮短至1ms以內(nèi)，但仍然無法徹底消除。請問有什么好方法可以去除上電高電平輸出，以下是原理圖：
2025-01-24 07:32:47
DS90C365干擾怎么去除？ 只要DS90C365一工作，USB HUB就沒自動(dòng)降速到低速設(shè)備，攝像頭沒法打開。我已將把DS90C365移開，單它好像還是會(huì)通過排線串?dāng)_HUB那，把排線割成1條條的，明顯可以工作幾分鐘，各位專家求個(gè)解決方案啊。板子已經(jīng)回來了，急需解決方案啊
THANKS
2025-01-24 06:22:23
請問ADC前端的信號幅值變化很小，與噪聲相差很小，怎樣去除噪聲提取有用信號
2025-01-22 07:56:19
在電子工程和信號處理領(lǐng)域，低通濾波器（Low Pass Filter, LPF）扮演著至關(guān)重要的角色。它們用于去除信號中的高頻噪聲，平滑數(shù)據(jù)，或者在通信系統(tǒng)中限制信號帶寬。盡管低通濾波器的應(yīng)用廣泛
2025-01-21 10:02:121306 原子層為單位，逐步去除材料表面，從而實(shí)現(xiàn)高精度、均勻的刻蝕過程。它與 ALD（原子層沉積）相對，一個(gè)是逐層沉積材料，一個(gè)是逐層去除材料。 ? 工作原理 ALE 通常由以下兩個(gè)關(guān)鍵階段組成： ? 表面活化階段：使用氣相前體或等離子體激活表面，形成化學(xué)吸附層或修飾層。 ? 例如，
2025-01-20 09:32:431280 
生活和工作中，你是否面臨過這些測量難題？新家裝修、舊居改造過程中，使用傳統(tǒng)的卷尺需要反反復(fù)復(fù)多次測量，而且需要兩個(gè)人協(xié)作，測量結(jié)果也差一些精準(zhǔn)度；戶外施工時(shí)，傳統(tǒng)測量工具讀數(shù)不易看清，容易出現(xiàn)誤差；面對復(fù)雜建筑測繪環(huán)境時(shí)，普通測距儀的功能無法滿足需求。
2025-01-18 09:38:571310 本文介紹了FinFet Process Flow-源漏極是怎樣形成的。 在FinFET制造工藝中，當(dāng)完成偽柵極結(jié)構(gòu)后，接下來的關(guān)鍵步驟是形成源漏極（Source/Drain）。這一階段對于確保器件
2025-01-17 11:00:482771 
你好，請問：
一：心電的耐極化電壓正負(fù)300mV，算不算共模電壓？
二：ADS1298R內(nèi)部硬件有沒有去除耐極化電壓？還是直接在軟件上面設(shè)計(jì)了？
2025-01-16 07:06:57
的兼容性帶可控硅調(diào)光器。它集成了電流紋波去除器消除低頻電流紋波和不需要額外的電氣設(shè)計(jì)?兼容高壓可控硅調(diào)光器?集成：500V主MOS和700V放血器金屬氧化物半導(dǎo)體?閉
2025-01-15 09:21:19
SycoTec高速電主軸以卓越性能確保碳鋼精密加工去毛刺高效精確，提高加工精度和生產(chǎn)效率，降低人工成本，推動(dòng)制造業(yè)自動(dòng)化智能化發(fā)展。
2025-01-10 10:48:57664 
現(xiàn)在在使用TI的ADS1299 demo板，不過測試的時(shí)候工頻干擾很大，有沒有好的辦法去除工頻干擾。ADS1299ECG-ECG軟件中的Post Processing Filters是不是用來做濾波的，感覺不能用啊，請高手指點(diǎn)，不勝感激。
2025-01-09 06:53:59
8寸晶圓的清洗工藝是半導(dǎo)體制造過程中至關(guān)重要的環(huán)節(jié)，它直接關(guān)系到芯片的良率和性能。那么直接揭曉關(guān)于8寸晶圓的清洗工藝介紹吧！ 顆粒去除清洗 目的與方法：此步驟旨在去除晶圓表面的微小顆粒物，這些顆粒
2025-01-07 16:12:00813 bin文件去除開機(jī)logo，有償，能做的聯(lián)系我
2025-01-07 15:25:43
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