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中微等離子體刻蝕設(shè)備Primo AD-RIE(TM)運抵中芯國際

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)宣布重磅推出六款半導(dǎo)體設(shè)備新產(chǎn)品。這些設(shè)備覆蓋等離子體刻蝕(Etch)、原子層沉積(ALD)及外延(EPI)等關(guān)鍵工藝,不僅充分彰顯了公司在技術(shù)領(lǐng)域的硬核實力,更進(jìn)一步鞏固了其在高端半導(dǎo)體設(shè)備市場的領(lǐng)先地位,為加速向高端設(shè)備平臺化公司轉(zhuǎn)型注入強(qiáng)勁新動能。
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ATA-7050高壓放大器手冊

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ATA-7050B高壓放大器手冊

*附件:ATA-7050B單頁手冊V1.1.pdf 帶寬:(-3dB)DC~5kHz 電壓:10kVp-p(±5kVp) 電流:20mAp 功率:100Wp 壓擺率:≥111V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
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ATA-7030高壓放大器手冊

*附件:ATA-7030單頁手冊V3.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~5kHz 電壓:6kVp-p(±3kVp) 電流:30mAp 功率:90Wp 壓擺率:≥67V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
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ATA-7025高壓放大器手冊

*附件:ATA-7025單頁手冊V3.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~10kHz 電壓:5kVp-p(±2.5kVp) 電流:30mAp 功率:75Wp 壓擺率:≥112V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
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ATA-7020高壓放大器手冊

*附件:ATA-7020單頁手冊V3.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~30kHz 電壓:4kVp-p(±2kVp) 電流:30mAp 功率:60Wp 壓擺率:≥267V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
2025-08-21 19:19:50

ATA-7015高壓放大器手冊

*附件:ATA-7015單頁手冊V3.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~80kHz 電壓:3kVp-p(±1.5kVp) 電流:40mAp 功率:60Wp 壓擺率:≥534V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
2025-08-21 19:19:31

ATA-7015B高壓放大器手冊

*附件:ATA-7015B單頁手冊V2.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~40kHz 電壓:3kVp-p(±1.5kVp) 電流:40mAp 功率:60Wp 壓擺率:≥266V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
2025-08-21 19:17:54

ATA-7010高壓放大器手冊

*附件:ATA-7010單頁手冊V3.0.pdf 帶寬:(-3dB)DC~100kHz 電壓:2kVp-p(±1kVp) 電流:40mAp 功率:40Wp 壓擺率:≥445V/μs 應(yīng)用:介電彈性測試、電流體打印、鐵電測試、等離子體測試、3D打印、材料極化、靜電紡絲、流控
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AiP8P501ASOP20/DIP20 AiP8P501GSOP20/DIP20 AiP8P601AAiP24C02 ………………………………………………………………………………… 原廠代理,支持終端工廠,為客戶提供
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2025-07-14 17:47:32

家電行業(yè)一站式芯片解決方案

在智能化、節(jié)能化浪潮下,家電的“核心動力”正迎來芯片級革新!憑借高性能一化的解決方案,為空調(diào)、冰箱、洗衣機(jī)等家電注入“”動力,從人機(jī)交互到電機(jī)驅(qū)動,從電源管理到信號處理,的MCU、邏輯、電機(jī)驅(qū)動、電源管理、顯示驅(qū)動、運放、通信接口等產(chǎn)品,全面覆蓋家電行業(yè)的各類需求。
2025-07-14 10:30:42903

音效功放芯片代理供應(yīng)

AiP4809MSOP8 AiP2112TSSOP14 AiP8903TSSOP14 ………………………………………………………………………………… 原廠代理,支持終端工廠,為客戶提供樣品以及相關(guān)技術(shù)咨詢 如需更多系列型號,歡迎聯(lián)系咨詢。 深圳市天電子有限公司馬先生:17318031970
2025-07-10 16:37:42

otp代理供應(yīng)

AiP8P501ASOP20/DIP20 AiP8P501GSOP20/DIP20 AiP8P601AAiP24C02 ………………………………………………………………………………… 原廠代理,支持終端工廠,為客戶提供
2025-07-08 18:51:08

辟謠!國際收購英國IP公司

2025年7月8日,針對近期市場流傳的“國際擬收購英國某半導(dǎo)體IP公司以強(qiáng)化先進(jìn)制程技術(shù)儲備”的傳聞,電子發(fā)燒友網(wǎng)記者向Imagination求證消息的真假時,工作人員明確表示是假消息,“正在向
2025-07-08 10:04:281432

干法刻蝕的評價參數(shù)詳解

在MEMS制造工藝,干法刻蝕是通過等離子體、離子束等氣態(tài)物質(zhì)對薄膜材料或襯底進(jìn)行刻蝕的工藝,其評價參數(shù)直接影響器件的結(jié)構(gòu)精度和性能。那么干法刻蝕有哪些評價參數(shù)呢?
2025-07-07 11:21:571619

遠(yuǎn)程等離子體刻蝕技術(shù)介紹

遠(yuǎn)程等離子體刻蝕技術(shù)通過非接觸式能量傳遞實現(xiàn)材料加工,其中熱輔助離子刻蝕(TAIBE)作為前沿技術(shù),尤其適用于碳氟化合物(FC)材料(如聚四氟乙烯PTFE)的精密處理。
2025-06-30 14:34:451128

公司首臺金屬刻蝕設(shè)備付運

集成電路研發(fā)設(shè)計及制造服務(wù)商。此項里程碑既標(biāo)志著公司在等離子體刻蝕領(lǐng)域的又一自主創(chuàng)新,也彰顯了公司持續(xù)研發(fā)的技術(shù)能力與穩(wěn)步發(fā)展的綜合實力。
2025-06-27 14:05:32835

安泰高壓放大器在等離子體發(fā)生裝置研究的應(yīng)用

:ATA-67100高壓放大器在介質(zhì)阻擋放電等離子體激勵器的應(yīng)用 一、高壓放大器在等離子體發(fā)生裝置的作用 (一)驅(qū)動和維持等離子體放電 等離子體放電需高能量電源提供足夠電流和電壓。高壓放大器可將低電壓、小電流信號放大為高電壓、大電流
2025-06-24 17:59:15486

觸摸芯片EMI提升指南

為助力客戶提升對觸摸相關(guān)方案的開發(fā)效率,優(yōu)化用戶的體驗感。基于豐富的項目經(jīng)驗,針對觸摸芯片EMI無法通過的情況提供了幾種常用的解決方法,顯著提升開發(fā)效率與終端用戶體驗。
2025-06-24 10:38:246439

中南大學(xué)生命科學(xué)學(xué)院:可變形水凝膠球負(fù)載金納米顆粒,構(gòu)建高靈敏度壓力傳感器

等離子體傳感器,通過將金納米顆粒高密度封裝于可壓變形的海藻酸鹽水凝膠,實現(xiàn)了從溶液到生物組織的壓力傳感,為活體組織壓力監(jiān)測提供了新平臺。 ? 本 文 要 點 ? ? 1、本文提出一種基于納米光機(jī)械轉(zhuǎn)換器的等離子
2025-06-23 18:21:372965

芯片制造解耦等離子體氮化工藝流程

在5納米以下的芯片制程,晶體管柵極介質(zhì)層的厚度已縮至1納米以下(約5個原子層)。此時,傳統(tǒng)二氧化硅(SiO?)如同漏水的薄紗,電子隧穿導(dǎo)致的漏電功耗可占總功耗的40%。
2025-06-12 14:11:582386

上海光機(jī)所在多等離子體通道實現(xiàn)可控Betatron輻射

隊利用兩束相對論強(qiáng)度飛秒激光在近臨界密度等離子體的干涉效應(yīng),成功誘導(dǎo)出多等離子體通道,顯著提升了Betatron輻射的轉(zhuǎn)換效率。相關(guān)成果以“Controlled Betatron radiation
2025-06-12 07:45:08393

公司左濤濤榮獲“上海質(zhì)量工匠”稱號

近日,上海市質(zhì)量協(xié)會公布第三屆(2025年度)“上海質(zhì)量工匠”名單,半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(證券簡稱:公司,證券代碼:688012)刻蝕設(shè)計總監(jiān)左濤濤憑借出色的引領(lǐng)力、實踐力、創(chuàng)新力、攻關(guān)力、傳承力等“工匠五力”獲此殊榮。
2025-06-11 10:55:51818

等離子清洗機(jī)PLC數(shù)據(jù)采集遠(yuǎn)程監(jiān)控系統(tǒng)方案

,等離子清洗機(jī)在生產(chǎn)過程面臨以下核心問題: 數(shù)據(jù)孤島現(xiàn)象:傳統(tǒng)清洗機(jī)依賴本地PLC控制,數(shù)據(jù)分散在各車間,難以集中分析與優(yōu)化。 運維效率低下:設(shè)備故障依賴人工巡檢,響應(yīng)滯后,導(dǎo)致停機(jī)時間延長,影響生產(chǎn)計劃。 能耗與
2025-06-07 15:17:39624

高溫磷酸刻蝕設(shè)備_高精度全自動

 一、設(shè)備概述高溫磷酸刻蝕設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于各向異性刻蝕的關(guān)鍵設(shè)備,通過高溫磷酸溶液與半導(dǎo)體材料(如硅片、氮化硅膜)的化學(xué)反應(yīng),實現(xiàn)精準(zhǔn)的材料去除。其核心優(yōu)勢在于納米級刻蝕精度和均勻
2025-06-06 14:38:13

一文詳解干法刻蝕工藝

干法刻蝕技術(shù)作為半導(dǎo)體制造的核心工藝模塊,通過等離子體與材料表面的相互作用實現(xiàn)精準(zhǔn)刻蝕,其技術(shù)特性與工藝優(yōu)勢深刻影響著先進(jìn)制程的演進(jìn)方向。
2025-05-28 17:01:183195

觸摸芯片硬件設(shè)計指南

為助力客戶提升對觸摸相關(guān)方案的開發(fā)效率,優(yōu)化用戶的體驗感。基于豐富的項目經(jīng)驗,針對觸摸芯片硬件設(shè)計的常見問題進(jìn)行了系統(tǒng)梳理,顯著提升開發(fā)效率與終端用戶體驗。
2025-05-15 16:45:202830

捕捉微觀世界的電子眼:湯姆遜散射診斷讀出電子學(xué)解決方案

01背景介紹隨著聚變研究的深入發(fā)展,對等離子體參數(shù)測量的精度、時間分辨率和數(shù)據(jù)處理能力提出了更高的要求。湯姆遜散射診斷讀出電子學(xué)系統(tǒng)作為該技術(shù)的核心硬件載體,其性能直接決定了等離子體參數(shù)診斷的可靠性
2025-05-14 10:29:37247

全球首次!民營企業(yè)核聚變裝置實驗取得重大突破

近期,新奧“玄龍-50U”球形環(huán)氫硼聚變裝置實驗取得重大突破,成功實現(xiàn)了高溫高密度、百萬安培(兆安)等離子體電流。這是目前國際上首次實現(xiàn)百萬安培氫硼等離子體放電,標(biāo)志著新奧在球形環(huán)氫硼聚變研究領(lǐng)域
2025-05-08 18:07:00823

半導(dǎo)體刻蝕工藝技術(shù)-icp介紹

ICP(Inductively Coupled Plasma,電感耦合等離子體刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造的一種關(guān)鍵干法刻蝕工藝,廣泛應(yīng)用于先進(jìn)集成電路、MEMS器件和光電子器件的加工。以下是關(guān)于ICP
2025-05-06 10:33:063897

信號鏈芯片矩陣概述

作為國產(chǎn)信號鏈芯片主力供應(yīng)商,擁有多年設(shè)計經(jīng)驗+本土化流片封測,打造覆蓋7大核心品類的完整產(chǎn)品生態(tài)。
2025-04-27 10:20:57832

等離子設(shè)備節(jié)能數(shù)據(jù)采集解決方案

在現(xiàn)代制造業(yè)等離子設(shè)備憑借其高效、優(yōu)質(zhì)的焊接性能,廣泛應(yīng)用于航空航天、汽車制造、船舶工業(yè)等領(lǐng)域。然而,等離子設(shè)備運行過程能耗較高,且傳統(tǒng)模式下缺乏對能耗數(shù)據(jù)的精準(zhǔn)采集與分析,導(dǎo)致企業(yè)難以
2025-04-25 17:22:20689

制氧機(jī)整體解決方案

在醫(yī)療健康行業(yè),小型制氧機(jī)作為重要的家用醫(yī)療設(shè)備,為需要氧療的患者提供穩(wěn)定、持續(xù)的氧氣供應(yīng)。該設(shè)備通過分子篩與空氣壓縮機(jī)相配合,濾除空氣的氮氣,從空氣中提取高純度的氧氣。的小型制氧機(jī)
2025-04-18 16:29:471546

亮相2025年國家電及消費電子博覽會

日前,全球矚目的家電盛會AWE(中國家電及消費電子博覽會)在上海圓滿落幕。以“智控未來·動無限”為主題,攜LED恒流顯示驅(qū)動、觸摸MCU、32位RISC-V MCU、通用邏輯、信號鏈、電源
2025-03-31 14:26:21975

公司推出12英寸晶圓邊緣刻蝕設(shè)備Primo Halona

Halona正式發(fā)布。公司此款刻蝕設(shè)備的問世,實現(xiàn)了在等離子體刻蝕技術(shù)領(lǐng)域的又一次突破創(chuàng)新,標(biāo)志著公司向關(guān)鍵工藝全面覆蓋的目標(biāo)再進(jìn)一步,也為公司的高質(zhì)量發(fā)展注入強(qiáng)勁動能。
2025-03-28 09:21:191191

公司ICP雙反應(yīng)臺刻蝕機(jī)Primo Twin-Star取得新突破

近日,半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司(以下簡稱“公司”,股票代碼“688012.SH”)宣布通過不斷提升反應(yīng)臺之間氣體控制的精度, ICP雙反應(yīng)臺刻蝕機(jī)Primo Twin-Star 又取得新的突破,反應(yīng)臺之間的刻蝕精度已達(dá)到0.2A(亞埃級)。
2025-03-27 15:46:001178

XB4907AJL單離子/聚合物電池保護(hù)IC規(guī)格書

電子發(fā)燒友網(wǎng)站提供《賽XB4907AJL單離子/聚合物電池保護(hù)IC規(guī)格書.pdf》資料免費下載
2025-03-25 17:50:322

射頻電源應(yīng)用領(lǐng)域與行業(yè)

、半導(dǎo)體與微電子制造 1.等離子體工藝 刻蝕(Etching):利用射頻激發(fā)的等離子體對晶圓進(jìn)行納米級精密刻蝕(如RIE,反應(yīng)離子刻蝕)。 薄膜沉積:化學(xué)氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)通過射頻電源生成等離子體,沉積絕緣層或金屬層(如SiO?、Al?O?)。 離
2025-03-24 16:42:451430

通快霍廷格電子攜前沿等離子體電源解決方案亮相SEMICON China 2025

通快霍廷格電子等離子體射頻及直流電源為晶圓制造的沉積、刻蝕離子注入等關(guān)鍵工藝提供精度、質(zhì)量和效率的有力保障。 立足百年電源研發(fā)經(jīng)驗,通快霍廷格電子將持續(xù)通過創(chuàng)新等離子體電源解決方案,助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)
2025-03-24 09:12:28560

超寬超亮激光驅(qū)動光源(LDLS)

特殊定制的氙燈燈室,氙燈燈室會先通電,激發(fā)出氙等離子體,通過外置1000 nm左右波長激光光源輸出恒等功率匯聚到光源燈室,光會經(jīng)過光學(xué)系統(tǒng)會聚,照射加熱氙等離子體上,等離子體加熱到足夠的溫度時,就會發(fā)出高亮度的光。燈室發(fā)光后系統(tǒng)會自動
2025-03-19 06:24:291038

LIBS是什么?

。 LIBS,全稱激光誘導(dǎo)擊穿光譜技術(shù),顧名思義,就是利用高能激光脈沖,在瞬間將物質(zhì)表面“擊穿”,產(chǎn)生高溫高密的等離子體。這些等離子體在冷卻過程,會釋放出特定波長的光,就像每種元素獨有的“指紋”。通過分析這些光譜信息,我們就能
2025-03-13 15:15:51924

等離子體光譜儀(ICP-OES):原理與多領(lǐng)域應(yīng)用剖析

等離子體光譜儀(ICP-OES)憑借其高靈敏度、高分辨率以及能夠同時測定多種元素的顯著特點,在眾多領(lǐng)域發(fā)揮著關(guān)鍵作用。它以電感耦合等離子體(ICP)作為激發(fā)源,將樣品原子化、電離并激發(fā)至高能級,隨后
2025-03-12 13:43:573379

利用等離子體將鉛筆芯重新用作光學(xué)材料

光學(xué)材料在許多現(xiàn)代應(yīng)用中都是必不可少的,但控制材料表面反射光的方式既昂貴又困難?,F(xiàn)在,在最近的一項研究,來自日本的研究人員發(fā)現(xiàn)了一種利用等離子體調(diào)整鉛筆芯樣品反射光譜的簡單而低成本的方法。他們
2025-03-11 06:19:55635

托卡馬克裝置:探索可控核聚變的前沿利器

年實現(xiàn)首次放電,并在2022年等離子體電流突破100萬安培,創(chuàng)造了中國可控核聚變裝置運行的新紀(jì)錄。中國環(huán)流三號的建成和運行標(biāo)志著中國在托卡馬克裝置技術(shù)方面達(dá)到了國際先進(jìn)水平。 國際合作: 2023年
2025-03-10 18:56:12

等離子體蝕刻工藝對集成電路可靠性的影響

隨著集成電路特征尺寸的縮小,工藝窗口變小,可靠性成為更難兼顧的因素,設(shè)計上的改善對于優(yōu)化可靠性至關(guān)重要。本文介紹了等離子刻蝕對高能量電子和空穴注入柵氧化層、負(fù)偏壓溫度不穩(wěn)定性、等離子體誘發(fā)損傷、應(yīng)力遷移等問題的影響,從而影響集成電路可靠性。
2025-03-01 15:58:151548

國際Lumi智能開發(fā)平臺支持DeepSeek

作為大模型領(lǐng)域的一顆璀璨新星,DeepSeek從模型結(jié)構(gòu)到訓(xùn)推流程進(jìn)行了全面優(yōu)化,并完全開源,打破了算力依賴路徑,推動行業(yè)從 “規(guī)模至上” 邁向 “效率優(yōu)先”。國際Lumi智能開發(fā)平臺,作為一款低代碼/無代碼的 AI 應(yīng)用構(gòu)建工具,與DeepSeek模型相得益彰。
2025-02-28 15:46:06990

國際推出DeepSeek一機(jī)解決方案

近日,國際AIGC研究院推出分別面向智慧政務(wù)和企業(yè)領(lǐng)域的一機(jī)解決方案——“政務(wù)AI智囊團(tuán)”和“企業(yè)AI智囊團(tuán)”。
2025-02-26 13:50:39762

電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)法測定氟的應(yīng)用進(jìn)展

和公共健康研究至關(guān)重要。綜述了現(xiàn)有的氟分析方法,重點探討了近年來發(fā)展的基于電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)技術(shù)的氟分析方法及應(yīng)用,深入討論了這類方法如何通過質(zhì)量轉(zhuǎn)移策略,
2025-02-19 13:57:431704

國際擴(kuò)產(chǎn)迎新進(jìn)展:京城二期工業(yè)用地成交

近日,國際位于北京的晶圓廠項目——京城二期,迎來了建設(shè)進(jìn)展的重要節(jié)點。據(jù)最新消息,京城二期的工業(yè)用地已經(jīng)成功成交,這標(biāo)志著該項目正式進(jìn)入了實質(zhì)性的建設(shè)階段。 據(jù)了解,京城二期項目擬建
2025-02-19 11:32:531996

光阻的基礎(chǔ)知識

本文將系統(tǒng)介紹光阻的組成與作用、剝離的關(guān)鍵工藝及化學(xué)機(jī)理,并探討不同等離子體處理方法在光阻去除的應(yīng)用。 ? 一、光阻(Photoresist,PR)的本質(zhì)與作用 光阻是半導(dǎo)體制造過程中用于光刻
2025-02-13 10:30:233887

OptiSystem應(yīng)用:EDFA離子-離子相互作用效應(yīng)

本案例展示了EDFA的兩種離子-離子相互作用效應(yīng): 1.均勻上轉(zhuǎn)換(HUC) 2.非均勻離子對濃度淬滅(PIQ) 離子-離子相互作用效應(yīng)涉及稀土離子之間的能量轉(zhuǎn)移問題。當(dāng)稀有離子的局部濃度變得足夠
2025-02-13 08:53:27

推出CBTLVD系列模擬開關(guān)

推出四款CBTLVD系列模擬開關(guān)。
2025-02-12 14:21:301116

流控芯片中等離子清洗機(jī)改性原理

工藝流程實現(xiàn)最佳化。 等離子體清洗方式主要分為物理清洗和化學(xué)清洗。物理清洗的原理是,由射頻電源電離氣體產(chǎn)生等離子體具有很高的能量等離子體通過物理作用轟擊金屬表面,使金屬表面的污染物從金屬表面脫落?;瘜W(xué)清洗的原理
2025-02-11 16:37:51725

干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用

碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基于等離子體的干法蝕刻在SiC的圖案化及電子器件制造起到了關(guān)鍵作用,本文將介紹干法刻蝕的概念、碳硅
2025-01-22 10:59:232666

等離子體的一些基礎(chǔ)知識

等離子體(Plasma)是一種電離氣體,通過向氣體提供足夠的能量,使電子從原子或分子掙脫束縛、釋放出來,成為自由電子而獲得,通常含有自由和隨機(jī)移動的帶電粒子(如電子、離子)和未電離的中性粒子。由于
2025-01-20 10:07:169181

什么是原子層刻蝕

原子層為單位,逐步去除材料表面,從而實現(xiàn)高精度、均勻的刻蝕過程。它與 ALD(原子層沉積)相對,一個是逐層沉積材料,一個是逐層去除材料。 ? 工作原理 ALE 通常由以下兩個關(guān)鍵階段組成: ? 表面活化階段:使用氣相前等離子體激活表面,形成化學(xué)吸附層或修飾層。 ? 例如,
2025-01-20 09:32:431280

等離子電視與最新技術(shù)對比

在電視技術(shù)的發(fā)展史上,等離子電視曾是家庭娛樂的中心。然而,隨著科技的進(jìn)步,新的顯示技術(shù)不斷涌現(xiàn),等離子電視逐漸退出了主流市場。本文將探討等離子電視與當(dāng)前主流顯示技術(shù)——液晶顯示(LCD)、有機(jī)
2025-01-13 09:56:301903

等離子電視的連接方式解析

、等離子電視的基本接口 等離子電視通常配備有多種接口,以滿足不同設(shè)備的連接需求。以下是一些常見的接口類型: HDMI接口 :高清多媒體接口(HDMI)是目前最主流的高清視頻和音頻傳輸接口,支持1080p甚至更高的分辨率傳輸。 AV接口
2025-01-13 09:54:282041

等離子電視與液晶電視的區(qū)別

在現(xiàn)代家庭娛樂設(shè)備,電視是不可或缺的一部分。隨著科技的發(fā)展,電視技術(shù)也在不斷進(jìn)步,從早期的顯像管電視發(fā)展到了現(xiàn)在的等離子電視和液晶電視。這兩種電視技術(shù)各有特點,消費者在選擇時往往會感到困惑。 一
2025-01-13 09:51:394000

OptiFDTD應(yīng)用:納米盤型諧振腔等離子體波導(dǎo)濾波器

幾何諧振腔[3]以及環(huán)形諧振腔[4]。 ?MIM波導(dǎo),有兩種等離子體濾波器,即帶通和帶阻濾波器。 2D FDTD模擬 ?選擇TM偏振波激發(fā)SPPs ?應(yīng)用正弦調(diào)制高斯脈沖光來模擬感興趣的波長 ?輸入
2025-01-09 08:52:57

深入剖析半導(dǎo)體濕法刻蝕過程殘留物形成的機(jī)理

半導(dǎo)體濕法刻蝕過程殘留物的形成,其背后的機(jī)制涵蓋了化學(xué)反應(yīng)、表面交互作用以及側(cè)壁防護(hù)等多個層面,下面是對這些機(jī)制的深入剖析: 化學(xué)反應(yīng)層面 1 刻蝕劑與半導(dǎo)體材料的交互:濕法刻蝕技術(shù)依賴于特定
2025-01-08 16:57:451468

流控的烘膠技術(shù)

一、烘膠技術(shù)在流控的作用 提高光刻膠穩(wěn)定性 在 流控芯片 制作過程,光刻膠經(jīng)過顯影后,進(jìn)行烘膠(堅膜)能使光刻膠結(jié)構(gòu)更穩(wěn)定。例如在后續(xù)進(jìn)行干法刻蝕、濕法刻蝕或者LIGA等工藝時,烘膠可以讓
2025-01-07 15:18:06823

如何通過LIBS實現(xiàn)對合金材料的快速檢測?

方法: 1.了解LIBS工作原理 LIBS技術(shù)通過高能激光脈沖聚焦于材料表面,瞬間形成等離子體。等離子體冷卻過程中發(fā)射的特征光譜可用于分析材料成分。不同元素在光譜中有獨特的發(fā)射線,通過檢測這些發(fā)射線可以確定合金的元素組成。 2.選擇適當(dāng)?shù)募?/div>
2025-01-06 15:44:15932

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