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Mentor CalibreLFD獲得TSMC的20nm制造工藝認(rèn)證

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3C認(rèn)證派生是什么意思?

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數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)、算法賦能,制造業(yè)正加速進(jìn)化。近期,偉創(chuàng)力福永(福海)成功獲得由金磚國(guó)家未來網(wǎng)絡(luò)研究院頒發(fā)的《智能制造能力成熟度模型》(CMMM)四級(jí)認(rèn)證。值得一提的是,智能制造評(píng)估評(píng)價(jià)公共服務(wù)平臺(tái)數(shù)據(jù)顯示,截至2025年初,全國(guó)獲評(píng)CMMM四級(jí)及以上認(rèn)證制造企業(yè)占比僅約6%。
2025-07-22 11:06:381120

偉創(chuàng)力固戍通過智能制造能力成熟度四級(jí)認(rèn)證

偉創(chuàng)力固戍于近期榮獲中國(guó)制造成熟度模型(CMMM)四級(jí)認(rèn)證!這一權(quán)威認(rèn)證使固戍躋身于14萬余家參評(píng)企業(yè)中的前7%,充分彰顯了工廠在智能制造轉(zhuǎn)型過程中所展現(xiàn)出的卓越專業(yè)能力與不懈努力。
2025-07-05 14:35:49978

【新品發(fā)布】艾為推出SIM卡電平轉(zhuǎn)換AW39103,成功通過高通平臺(tái)認(rèn)證

艾為推出SIM卡電平轉(zhuǎn)換產(chǎn)品AW39103,其憑借優(yōu)異的性能,成功通過高通平臺(tái)認(rèn)證,并獲得高通最高推薦等級(jí)(GOLD)。圖1高通平臺(tái)認(rèn)證隨著手機(jī)平臺(tái)處理器工藝向4nm/3nm演進(jìn),其I/O電平已降至
2025-07-04 18:06:291030

摩爾斯微電子的Wi-Fi HaLow技術(shù)正式獲得Matter 認(rèn)證

2025 年6月26日,中國(guó)北京、澳大利亞悉尼與美國(guó)加州爾灣 ——全球領(lǐng)先的Wi-Fi HaLow芯片供應(yīng)商,摩爾斯微電子今日宣布,公司的MM6108-EKH05-Light芯片已正式獲得連接標(biāo)準(zhǔn)
2025-06-26 10:51:131054

PTR54H20核心架構(gòu)與特性

PTR54H20是一款基于Nordic nRF54H20芯片的超低功耗藍(lán)牙6.0模塊,采用22nm制程工藝,集成五核異構(gòu)計(jì)算架構(gòu):雙Arm Cortex-M33處理器(主頻320MHz)、雙
2025-06-25 09:57:37

下一代高速芯片晶體管解制造問題解決了!

在半導(dǎo)體工藝演進(jìn)到2nm,1nm甚至0.7nm等節(jié)點(diǎn)以后,晶體管結(jié)構(gòu)該如何演進(jìn)?2017年,imec推出了叉片晶體管(forksheet),作為環(huán)柵(GAA)晶體管的自然延伸。不過,產(chǎn)業(yè)對(duì)其可制造
2025-06-20 10:40:07

Mentor Design Capture詳細(xì)培訓(xùn)教程

mentor旗下的一款原理圖設(shè)計(jì)軟件應(yīng)用介紹
2025-06-06 16:55:442

蘋果A20芯片的深度解讀

以下是基于最新行業(yè)爆料對(duì)蘋果A20芯片的深度解讀,綜合技術(shù)革新、性能提升及行業(yè)影響三大維度分析: 一、核心技術(shù)創(chuàng)新 ? ? 制程工藝突破 ? ? 全球首款2nm芯片 ?:采用臺(tái)積電N2(第一代2納米
2025-06-06 09:32:012982

蘋果A20芯片官宣WMCM技術(shù)!

制程工藝升級(jí) 蘋果 A20 芯片將采用臺(tái)積電的第二代 2nm 工藝(N2),這一制程技術(shù)相較于當(dāng)下 iPhone 16 系列
2025-06-05 16:03:391294

CMOS超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí)

本節(jié)將介紹 CMOS 超大規(guī)模集成電路制造工藝流程的基礎(chǔ)知識(shí),重點(diǎn)將放在工藝流程的概要和不同工藝步驟對(duì)器件及電路性能的影響上。
2025-06-04 15:01:322171

貼片電容代理商能保證電容工藝嗎?

貼片電容代理商能否保證電容工藝,這主要取決于代理商的資質(zhì)、信譽(yù)以及與制造商的合作關(guān)系。以下是對(duì)此問題的詳細(xì)分析: ?一、代理商的資質(zhì)與信譽(yù) 專業(yè)認(rèn)證 :優(yōu)質(zhì)的貼片電容代理商通常會(huì)獲得制造商的官方認(rèn)證
2025-05-29 15:03:41494

PCB表面處理丨沉錫工藝深度解讀

化學(xué)沉錫工藝作為現(xiàn)代PCB表面處理技術(shù)的新成員,其發(fā)展軌跡與電子制造業(yè)自動(dòng)化浪潮緊密相連。這項(xiàng)在近十年悄然興起的技術(shù),憑借其獨(dú)特的冶金學(xué)特性,在通信基礎(chǔ)設(shè)施領(lǐng)域找到了專屬舞臺(tái)——當(dāng)高速背板需要實(shí)現(xiàn)
2025-05-28 10:57:42

全電壓!PD 20W氮化鎵電源方案認(rèn)證款:U8722BAS+U7612B

全電壓!PD20W氮化鎵電源方案認(rèn)證款:U8722BAS+U7612B上次給大家介紹了20W氮化鎵單電壓的應(yīng)用方案,立馬就有小伙伴發(fā)出了全電壓應(yīng)用方案的需求。深圳銀聯(lián)寶科技有求必應(yīng),PD20W氮化鎵
2025-05-22 15:41:26734

天合光能再次獲得法國(guó)碳足跡認(rèn)證

伏項(xiàng)目組件產(chǎn)品的碳足跡要求。天合光能成為目前行業(yè)內(nèi)屈指可數(shù)獲得300kg eq CO?/kWc認(rèn)證并具備交付能力的組件制造商,再次引領(lǐng)行業(yè)綠色低碳產(chǎn)品發(fā)展。
2025-05-16 11:12:25713

中科曙光DeepAI深算智能引擎獲得中國(guó)信通院權(quán)威認(rèn)證

近日,DeepAI深算智能引擎憑借場(chǎng)景覆蓋、生態(tài)兼容、性能優(yōu)化、功能集成等方面的核心優(yōu)勢(shì),成功通過中國(guó)信通院、泰爾實(shí)驗(yàn)室、鑄基計(jì)劃三方的聯(lián)合測(cè)評(píng),成為行業(yè)內(nèi)首個(gè)獲得此項(xiàng)認(rèn)證的端到端全棧AI加速套件。
2025-05-10 09:35:45946

什么是SMT錫膏工藝與紅膠工藝?

SMT錫膏工藝與紅膠工藝是電子制造中兩種關(guān)鍵工藝,主要區(qū)別在于材料特性、工藝目的及適用場(chǎng)景。以下是詳細(xì)解析:
2025-05-09 09:15:371245

PanDao:簡(jiǎn)化光學(xué)元件制造流程

層次的創(chuàng)新潛能。 費(fèi)恩勒進(jìn)一步指出:\"生產(chǎn)部門同樣擁有專屬的術(shù)語體系。他們需要決策適配各制造環(huán)節(jié)的設(shè)備選型、工藝流程優(yōu)化、技術(shù)人員技能矩陣構(gòu)建、車間布局拓?fù)湟?guī)劃等關(guān)鍵維度——這實(shí)質(zhì)上是制造
2025-05-08 08:46:08

PanDao:光學(xué)設(shè)計(jì)中的制造風(fēng)險(xiǎn)管理

是通過對(duì)其加工參數(shù)進(jìn)行系統(tǒng)分析確定的。 1.簡(jiǎn)介 在光學(xué)制造技術(shù)中,可預(yù)測(cè)且穩(wěn)定的制造工藝對(duì)成本與質(zhì)量進(jìn)行可靠管理至關(guān)重要。本文闡述了針對(duì)特定光學(xué)元件與系統(tǒng),如何來確定光學(xué)制造鏈中應(yīng)采用的最佳光學(xué)制造技術(shù)
2025-05-07 09:01:47

PanDao:光學(xué)制造過程建模

、面形精度、公差等級(jí))。隨后,(c)光學(xué)制造鏈設(shè)計(jì)師將光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)與公差轉(zhuǎn)化為優(yōu)化后的制造工藝鏈,并最終移交給(d)生產(chǎn)部門,負(fù)責(zé)設(shè)備配置、工藝實(shí)施、人員培訓(xùn),并依據(jù)客戶與設(shè)計(jì)師在成本、產(chǎn)能及質(zhì)量方面
2025-05-07 08:54:01

SMA接頭制造工藝詳解:精密加工技術(shù)與實(shí)現(xiàn)策略

SMA接頭制造工藝詳解:精密加工技術(shù)與實(shí)現(xiàn)策略
2025-04-26 09:22:35572

TSMC A14 第二代 GAA 工藝解讀

在半導(dǎo)體行業(yè),每一次制程工藝的突破都如同一場(chǎng)科技革命,它不僅重新定義了芯片性能的邊界,更為電子設(shè)備的智能化、高效能運(yùn)算等領(lǐng)域注入了強(qiáng)大的活力。而就在近期,TSMC在2025年北美技術(shù)研討會(huì)上正式宣布
2025-04-25 13:09:101569

廣明源172nm晶圓光清洗方案概述

在半導(dǎo)體制造中,清洗工藝貫穿于光刻、刻蝕、沉積等關(guān)鍵流程,并在單晶硅片制備階段發(fā)揮著重要作用。隨著技術(shù)的發(fā)展,芯片制程已推進(jìn)至28nm、14nm乃至更先進(jìn)節(jié)點(diǎn)。
2025-04-24 14:27:32715

Xilinx Ultrascale系列FPGA的時(shí)鐘資源與架構(gòu)解析

Ultrascale是賽靈思開發(fā)的支持包含步進(jìn)功能的增強(qiáng)型FPGA架構(gòu),相比7系列的28nm工藝,Ultrascale采用20nm工藝,主要有2個(gè)系列:Kintex和Virtex
2025-04-24 11:29:012261

三星在4nm邏輯芯片上實(shí)現(xiàn)40%以上的測(cè)試良率

較為激進(jìn)的技術(shù)路線,以挽回局面。 4 月 18 日消息,據(jù)韓媒《ChosunBiz》當(dāng)?shù)貢r(shí)間 16 日?qǐng)?bào)道,三星電子在其 4nm 制程 HBM4 內(nèi)存邏輯芯片的初步測(cè)試生產(chǎn)中取得了40% 的良率,這高于
2025-04-18 10:52:53

最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測(cè)

資料介紹 此文檔是最詳盡最完整介紹半導(dǎo)體前端工藝和后端制程的書籍,作者是美國(guó)人Michael Quirk??赐晗嘈拍銓?duì)整個(gè)芯片制造流程會(huì)非常清晰地了解。從硅片制造,到晶圓廠芯片工藝的四大基本類
2025-04-15 13:52:11

鑫雁微GH2101芯片獲得AEC-Q100認(rèn)證

近日,國(guó)際公認(rèn)的測(cè)試、檢驗(yàn)和認(rèn)證機(jī)構(gòu)SGS為上海鑫雁微電子股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱 “鑫雁微”)頒發(fā)AEC-Q100認(rèn)證證書,標(biāo)志著鑫雁微在汽車電子領(lǐng)域的技術(shù)水平和產(chǎn)品質(zhì)量得到了國(guó)際認(rèn)可,為其獲得更多與車企及汽車電子供應(yīng)商合作機(jī)會(huì)提供有力支持。
2025-04-14 11:07:54810

博泰車聯(lián)網(wǎng)獲得兩項(xiàng)國(guó)際權(quán)威認(rèn)證

近日,博泰車聯(lián)網(wǎng)成功通過國(guó)際權(quán)威機(jī)構(gòu)德國(guó)TüV NORD的嚴(yán)格評(píng)審,獲得ISO/IEC 27001信息安全管理體系及ISO/IEC 27701隱私信息管理體系雙項(xiàng)國(guó)際認(rèn)證。此殊榮標(biāo)志著博泰車聯(lián)網(wǎng)在信息安全和隱私保護(hù)領(lǐng)域得到國(guó)際認(rèn)可,為全球汽車智能化進(jìn)程注入強(qiáng)效“安全基因”。
2025-04-08 16:29:38839

3D閃存的制造工藝與挑戰(zhàn)

3D閃存有著更大容量、更低成本和更高性能的優(yōu)勢(shì),本文介紹了3D閃存的制造工藝與挑戰(zhàn)。
2025-04-08 14:38:392037

奧特尼克獲得DEKRA德凱ISO 26262 ASIL-D認(rèn)證

北京奧特尼克科技有限公司(以下簡(jiǎn)稱“奧特尼克”)近日成功通過汽車功能安全領(lǐng)域最高等級(jí)認(rèn)證——ISO 26262:2018 ASIL-D管理體系認(rèn)證,并獲得由DEKRA德凱頒發(fā)的功能安全流程認(rèn)證證書
2025-04-07 16:42:40852

芯科科技FG25 Sub-GHz SoC獲得Wi-SUN FAN 1.1認(rèn)證

的EFR32FG25(FG25)Sub-GHz SoC獲得Wi-SUN FAN 1.1路由器和邊界路由器應(yīng)用認(rèn)證后,這一領(lǐng)先地位得以延續(xù)。
2025-04-02 11:08:061229

【「芯片通識(shí)課:一本書讀懂芯片技術(shù)」閱讀體驗(yàn)】了解芯片怎樣制造

工藝流程: 芯片設(shè)計(jì),光掩模版制作,晶圓上電路制造,(薄膜氧化,平坦化,光刻膠涂布,光刻,刻蝕,離子注入擴(kuò)散,裸片檢測(cè))
2025-03-27 16:38:20

柵極技術(shù)的工作原理和制造工藝

本文介紹了集成電路制造工藝中的柵極的工作原理、材料、工藝,以及先進(jìn)柵極工藝技術(shù)。
2025-03-27 16:07:411958

不只依賴光刻機(jī)!芯片制造的五大工藝大起底!

在科技日新月異的今天,芯片作為數(shù)字時(shí)代的“心臟”,其制造過程復(fù)雜而精密,涉及眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)。提到芯片制造,人們往往首先想到的是光刻機(jī)這一高端設(shè)備,但實(shí)際上,芯片的成功制造遠(yuǎn)不止依賴光刻機(jī)這一單一工具。本文將深入探討芯片制造的五大關(guān)鍵工藝,揭示這些工藝如何協(xié)同工作,共同鑄就了現(xiàn)代芯片的輝煌。
2025-03-24 11:27:423167

千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道?據(jù)多方消息來源推測(cè),三星電子可能取消原計(jì)劃于?2027?年量產(chǎn)的?1.4nm(FS1.4)晶圓代工工藝。三星在?“Samsung?Foundry?Forum?2022”?上首
2025-03-23 11:17:401827

千億美元打水漂,傳三星取消1.4nm晶圓代工工藝?

在先進(jìn)制程領(lǐng)域目前面臨重重困難。三星 3nm(SF3)GAA 工藝自 2023 年量產(chǎn)以來,由于良率未達(dá)預(yù)期,至今尚未獲得大客戶訂單。
2025-03-22 00:02:002462

CMOS集成電路的基本制造工藝

本文主要介紹CMOS集成電路基本制造工藝,特別聚焦于0.18μm工藝節(jié)點(diǎn)及其前后的變化,分述如下:前段工序(FrontEnd);0.18μmCMOS前段工序詳解;0.18μmCMOS后段鋁互連工藝;0.18μmCMOS后段銅互連工藝。
2025-03-20 14:12:174132

智芯公司安全藍(lán)牙芯片獲得BQB權(quán)威認(rèn)證

近日,智芯公司自主研發(fā)的安全藍(lán)牙芯片成功通過藍(lán)牙技術(shù)聯(lián)盟(SIG)的BQB(Bluetooth Qualification Body)全面認(rèn)證,成為國(guó)內(nèi)藍(lán)牙芯片領(lǐng)域獲得BQB權(quán)威認(rèn)證的企業(yè)之一,標(biāo)志著智芯公司的安全藍(lán)牙芯片在兼容性、穩(wěn)定性和安全性方面均達(dá)到了國(guó)際先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)。
2025-03-18 14:13:241208

手機(jī)芯片進(jìn)入2nm時(shí)代,首發(fā)不是蘋果?

電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報(bào)道,2nm工藝制程的手機(jī)處理器已有多家手機(jī)處理器廠商密切規(guī)劃中,無論是臺(tái)積電還是三星都在積極布局,或?qū)⒂袛?shù)款芯片成為2nm工藝制程的首發(fā)產(chǎn)品。 ? 蘋果A19 或A20 芯片采用臺(tái)
2025-03-14 00:14:002486

集成電路制造中的電鍍工藝介紹

本文介紹了集成電路制造工藝中的電鍍工藝的概念、應(yīng)用和工藝流程。
2025-03-13 14:48:272307

集成電路制造工藝中的High-K材料介紹

本文介紹了在集成電路制造工藝中的High-K材料的特點(diǎn)、重要性、優(yōu)勢(shì),以及工藝流程和面臨的挑戰(zhàn)。
2025-03-12 17:00:212498

集成電路制造中的劃片工藝介紹

本文概述了集成電路制造中的劃片工藝,介紹了劃片工藝的種類、步驟和面臨的挑戰(zhàn)。
2025-03-12 16:57:582794

曝三星已量產(chǎn)第四代4nm芯片

據(jù)外媒曝料稱三星已量產(chǎn)第四代4nm芯片。報(bào)道中稱三星自從2021年首次量產(chǎn)4nm芯片以來,每年都在改進(jìn)技術(shù)。三星現(xiàn)在使用的是其最新的第四代4nm工藝節(jié)點(diǎn)(SF4X)進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。第四代4nm工藝
2025-03-12 16:07:1713207

樂鑫科技RISC-V芯片ESP32-C6獲得PSA Certified Level 2認(rèn)證

樂鑫科技 (688018.SH) 榮幸宣布 ESP32-C6 于 2025 年 2 月 20獲得 PSA Certified Level 2 認(rèn)證。這一重要突破使 ESP32-C6 成為全球首款基于 RISC-V 架構(gòu)獲此認(rèn)證的芯片,體現(xiàn)了樂鑫致力于為全球客戶提供安全可靠、性能卓越的物聯(lián)網(wǎng)解決方案的堅(jiān)定承諾。
2025-03-07 15:18:101100

芯片制造中的淺溝道隔離工藝技術(shù)

淺溝道隔離(STI)是芯片制造中的關(guān)鍵工藝技術(shù),用于在半導(dǎo)體器件中形成電學(xué)隔離區(qū)域,防止相鄰晶體管之間的電流干擾。本文簡(jiǎn)單介紹淺溝道隔離技術(shù)的作用、材料和步驟。
2025-03-03 10:00:473388

2025年中國(guó)成熟芯片將占全球產(chǎn)量的28%

的市場(chǎng)格局。 成熟工藝節(jié)點(diǎn)(通常指20nm及以上的工藝)看似工藝遠(yuǎn)落后于先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)(典型如5nm),但卻是芯片市場(chǎng)的主流,被廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子和汽車等諸多日常產(chǎn)品中,而這些看似落后的芯片產(chǎn)品實(shí)則為整個(gè)芯片行業(yè)的研發(fā)部門提供了寶貴的利潤(rùn)
2025-02-28 14:29:292814

電芯UL1642認(rèn)證?安全解鎖全球市場(chǎng)

監(jiān)督:獲得UL1642認(rèn)證后,電芯需要接受UL認(rèn)證機(jī)構(gòu)的定期監(jiān)督,以確保持續(xù)符合認(rèn)證要求。 2.更新認(rèn)證信息:如果電芯的設(shè)計(jì)、材料或生產(chǎn)工藝發(fā)生變更,需要及時(shí)向UL認(rèn)證機(jī)構(gòu)提交變更申請(qǐng),并接受相應(yīng)的測(cè)試
2025-02-21 09:11:42

集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù)介紹

本文介紹了集成電路制造工藝中的偽柵去除技術(shù),分別討論了高介電常數(shù)柵極工藝、先柵極工藝和后柵極工藝對(duì)比,并詳解了偽柵去除工藝。 高介電常數(shù)金屬柵極工藝 隨著CMOS集成電路特征尺寸的持續(xù)縮小,等效柵氧
2025-02-20 10:16:361303

接觸孔工藝簡(jiǎn)介

本文主要簡(jiǎn)單介紹探討接觸孔工藝制造流程。以55nm接觸控工藝為切入點(diǎn)進(jìn)行簡(jiǎn)單介紹。 ? 在集成電路制造領(lǐng)域,工藝流程主要涵蓋前段工藝(Front End of Line,F(xiàn)EOL)與后段工藝
2025-02-17 09:43:282173

敏實(shí)集團(tuán)榮獲DEKRA德凱認(rèn)證證書

近日,敏實(shí)集團(tuán)順利通過ISO 26262:2018 ASIL-D汽車功能安全管理體系認(rèn)證和ASPICE CL2級(jí)認(rèn)證,并獲得由DEKRA德凱頒發(fā)的功能安全流程認(rèn)證證書和ASPICE CL2級(jí)認(rèn)證報(bào)告。該認(rèn)證證書和報(bào)告的獲得標(biāo)志著敏實(shí)集團(tuán)在安全管理體系和汽車電子軟件開發(fā)方面已達(dá)到國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。
2025-02-15 09:27:101118

臺(tái)積電加大亞利桑那州廠投資,籌備量產(chǎn)3nm/2nm芯片

據(jù)最新消息,臺(tái)積電正計(jì)劃加大對(duì)美國(guó)亞利桑那州工廠的投資力度,旨在推廣“美國(guó)制造”理念并擴(kuò)展其生產(chǎn)計(jì)劃。據(jù)悉,此次投資將著重于擴(kuò)大生產(chǎn)線規(guī)模,為未來的3nm和2nm等先進(jìn)工藝做準(zhǔn)備。
2025-02-12 17:04:04995

通快與SCHMID集團(tuán)合作創(chuàng)新芯片制造工藝

德國(guó)通快集團(tuán)(TRUMPF)與SCHMID集團(tuán)近期宣布了一項(xiàng)重大合作,旨在為全球芯片行業(yè)帶來革命性的制造工藝升級(jí)。雙方正攜手開發(fā)最新一代微芯片的創(chuàng)新制造流程,旨在提升智能手機(jī)、智能手表及人
2025-02-06 10:47:291119

德明利高端存儲(chǔ)芯片eMMC通過紫光展銳移動(dòng)芯片平臺(tái)認(rèn)證

應(yīng)用中取得重大的市場(chǎng)拓展。紫光展銳平臺(tái)認(rèn)證信息此次認(rèn)證涉及的紫光展銳T606是新一代8核LTE移動(dòng)芯片平臺(tái),基于先進(jìn)的12nm制程工藝,搭載了雙核ArmCorte
2025-01-21 16:35:112135

歐洲啟動(dòng)1nm及光芯片試驗(yàn)線

高達(dá)14億美元,不僅將超越當(dāng)前正在研發(fā)的2nm工藝技術(shù),更將覆蓋從1nm至7A(即0.7nm)的尖端工藝領(lǐng)域。NanoIC試驗(yàn)線的啟動(dòng),標(biāo)志著歐洲在半導(dǎo)
2025-01-21 13:50:441023

創(chuàng)飛芯90nm BCD工藝OTP IP模塊規(guī)模量產(chǎn)

一站式 NVM 存儲(chǔ) IP 供應(yīng)商創(chuàng)飛芯(CFX)今日宣布,其反熔絲一次性可編程(OTP)技術(shù)繼 2021年在國(guó)內(nèi)第一家代工廠實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)后,2024 年在國(guó)內(nèi)多家代工廠關(guān)于 90nm BCD 工藝上也
2025-01-20 17:27:471647

FinFET制造工藝的具體步驟

本文介紹了FinFET(鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)制造過程中后柵極高介電常數(shù)金屬柵極工藝的具體步驟。
2025-01-20 11:02:395360

海伯森六維力傳感器獲得國(guó)家防爆認(rèn)證

,獲得國(guó)家防爆合格證,為工業(yè)應(yīng)用的安全與高效注入了新的活力。 防爆認(rèn)證,是根據(jù)防爆標(biāo)準(zhǔn)對(duì)設(shè)備或系統(tǒng)進(jìn)行的檢驗(yàn)認(rèn)證工作。GB/T 3836.1 - 2021 與 GB/T 3836.4 - 2021是國(guó)家針對(duì)爆炸性環(huán)境用電氣設(shè)備精心制定的重要安全準(zhǔn)則,對(duì)設(shè)備的防爆性能
2025-01-16 16:42:021072

光耦的制造工藝及其技術(shù)要求

光耦的制造工藝 1. 材料選擇 光耦的制造首先需要選擇合適的半導(dǎo)體材料,如硅、鍺等。這些材料需要具有優(yōu)良的光電特性,以確保光耦的高性能。 2. 芯片制備 光耦的芯片制備包括發(fā)光二極管和光敏元件的制造
2025-01-14 16:55:081780

鉭電容的制造工藝詳解

鉭電容的制造工藝是一個(gè)復(fù)雜而精細(xì)的過程,以下是對(duì)其制造工藝的詳細(xì)解析: 一、原料準(zhǔn)備 鉭粉制備 : 鉭粉是鉭電容器的核心材料,通常通過粉末冶金工藝制備。 將鉭金屬熔化,然后通過噴霧干燥技術(shù)制成粉末
2025-01-10 09:39:412746

天合光能兩大制造基地獲得SSI ESG標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證

)ESG標(biāo)準(zhǔn)認(rèn)證,成為行業(yè)首家獲得此項(xiàng)殊榮的企業(yè)。此次認(rèn)證不僅彰顯了天合光能在ESG領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)地位和堅(jiān)定承諾,更體現(xiàn)了其在推動(dòng)光伏行業(yè)可持續(xù)標(biāo)準(zhǔn)體系建設(shè)方面的建設(shè)性作用。
2025-01-10 09:12:241261

芯片制造的7個(gè)前道工藝

本文簡(jiǎn)單介紹了芯片制造的7個(gè)前道工藝。 ? 在探索現(xiàn)代科技的微觀奇跡中,芯片制造無疑扮演著核心角色,它不僅是信息技術(shù)飛速發(fā)展的基石,也是連接數(shù)字世界與現(xiàn)實(shí)生活的橋梁。本文將帶您深入芯片制造的前道工藝
2025-01-08 11:48:344037

聯(lián)發(fā)科調(diào)整天璣9500芯片制造工藝

近日,據(jù)外媒最新報(bào)道,聯(lián)發(fā)科正在積極籌備下一代旗艦級(jí)芯片——天璣9500,并計(jì)劃在今年末至明年初正式推出這款備受期待的芯片。 原本,聯(lián)發(fā)科有意采用臺(tái)積電最先進(jìn)的2nm工藝制造天璣9500,以期在
2025-01-06 13:48:231130

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