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標(biāo)簽 > 光刻機(jī)
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盤(pán)點(diǎn)國(guó)產(chǎn)光刻產(chǎn)業(yè)鏈的“星星之火”,十三年磨一劍背后的中國(guó)芯片業(yè)隱痛
2020-12-27 標(biāo)簽:芯片半導(dǎo)體國(guó)產(chǎn) 7614 0
美國(guó)針對(duì)我們國(guó)家的芯片禁令令我們國(guó)家深刻的知道了半導(dǎo)體行業(yè)的重要性,并且我們也是深刻的了解到了掌握核心技術(shù)的重要性,只有我們自己掌握了核心技術(shù),這樣我們...
國(guó)內(nèi)在半導(dǎo)體領(lǐng)域有哪些不足之處?
半導(dǎo)體是一項(xiàng)非常復(fù)雜的產(chǎn)業(yè),不僅需要技術(shù)作為基礎(chǔ),還嚴(yán)重依賴(lài)各種關(guān)鍵設(shè)備。尤其是半導(dǎo)體的主要應(yīng)用芯片,更是對(duì)技術(shù)和設(shè)備有著極高的要求,缺少了其中任意一項(xiàng)...
先進(jìn)制程短期受阻。根據(jù)中芯國(guó)際最新財(cái)報(bào),14/28nm當(dāng)期占比提升至14.6%,N+1已進(jìn)入小量試產(chǎn),但美國(guó)將中芯國(guó)際列入實(shí)體清單后,雖然DUV能正常從...
未來(lái)幾年“中國(guó)芯”最有可能在哪些方向突破?
7納米、5納米先進(jìn)工藝能突破嗎?高端光刻機(jī)裝備可以“中國(guó)造”嗎?卡脖子技術(shù)體現(xiàn)在哪些方面?未來(lái)幾年“中國(guó)芯”最有可能在哪些方向突破?
中芯國(guó)際將針對(duì) EUV 光刻設(shè)備尋求與ASML進(jìn)行談判
據(jù)報(bào)道,業(yè)內(nèi)觀(guān)察人士稱(chēng),在新任副董事長(zhǎng)蔣尚義的幫助下,中國(guó)芯片巨頭中芯國(guó)際將尋求與荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備公司阿斯麥(ASML)就 EUV 光刻設(shè)備進(jìn)行談判。 報(bào)...
面對(duì)8英寸產(chǎn)能緊缺、恐慌情緒亦在全產(chǎn)業(yè)鏈傳導(dǎo)的當(dāng)下,盡管擴(kuò)充或新建產(chǎn)能并不是立竿見(jiàn)影,亦難解燃眉之急,但在二手設(shè)備已遍地難尋的情形下,國(guó)外設(shè)備廠(chǎng)商紛紛順...
中芯國(guó)際:加速先進(jìn)工藝開(kāi)發(fā)進(jìn)程,追趕全球龍頭臺(tái)積電
12月15日14時(shí),正是上海一天中氣溫的最高值——6℃,而在距離中芯國(guó)際總部步行約2公里處的上海長(zhǎng)榮桂冠酒店,一場(chǎng)氛圍稍顯涼意的臨時(shí)股東大會(huì)正在召開(kāi)。
獨(dú)家!中芯國(guó)際突發(fā)人事大調(diào)整
12月15日晚間消息,中芯國(guó)際于今日召開(kāi)臨時(shí)董事會(huì),會(huì)后發(fā)布公告,宣布委任蔣尚義為公司第二類(lèi)執(zhí)行董事、董事會(huì)副董事長(zhǎng)及戰(zhàn)略委員會(huì)成員,自2020年12月...
國(guó)內(nèi)EDA企業(yè)漸漸萌芽 人才、技術(shù)、市場(chǎng)等方面國(guó)產(chǎn)EDA軟件還需諸多考驗(yàn)
EDA等等一系列的設(shè)計(jì)軟件一直都是我們的痛點(diǎn),學(xué)校里面學(xué)的就是國(guó)外的、國(guó)外的便宜甚至有破解版,還很好用,順暢、快捷;當(dāng)然還有一些是出于對(duì)國(guó)產(chǎn)EDA軟件的...
慶祝!北方華創(chuàng)ICP刻蝕機(jī)交付已突破1000腔
北方華創(chuàng)(Naura)官方宣布,ICP等離子刻蝕機(jī)第1000腔交付儀式近日在北京亦莊基地舉行,NAURA刻蝕機(jī)研發(fā)團(tuán)隊(duì)見(jiàn)證了這一歷史性時(shí)刻。
臺(tái)積電已經(jīng)向ASML下定了至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)
需要明白的是,EUV光刻機(jī)不是有錢(qián)就能買(mǎi),因?yàn)锳SML每年的產(chǎn)能非常有限,2019年全年才出貨了26臺(tái),今年上半年出貨了13臺(tái),截至三季度結(jié)束累計(jì)才出貨23臺(tái)。
荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破,預(yù)計(jì)會(huì)在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化
? ? 11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來(lái)一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工...
快訊:傳臺(tái)積電向ASML下單,明年訂購(gòu)至少13臺(tái)EUV光刻機(jī)
據(jù)digitimes報(bào)道,業(yè)內(nèi)消息稱(chēng),臺(tái)積電早已針對(duì)這兩年的機(jī)臺(tái)需求做了超前準(zhǔn)備,要求ASML提前交付已下單的 EUV 設(shè)備。 業(yè)者透露,臺(tái)積電已向...
IMEC將下一代高分辨率EUV技術(shù)進(jìn)行了商業(yè)化
Luc Van den hove并公布了3nm及以下制程的微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。截至目前,ASML 已經(jīng)布局了 3m、2nm、1.5nm、1nm 甚至 Su...
編輯推薦廠(chǎng)商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語(yǔ)言教程專(zhuān)題
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