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      標簽　>　光刻膠

      光刻膠

      +關(guān)注10人關(guān)注

      光刻膠（Photoresist）又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

      文章：324個 瀏覽：30941次 帖子：4個

      光刻膠資訊

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      2024-12-03 標簽：光刻膠刻蝕 942 0

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      近日，據(jù)相關(guān)報道，三星電子在3D NAND閃存生產(chǎn)領(lǐng)域取得了重要技術(shù)突破，成功大幅減少了光刻工藝中光刻膠的使用量。 據(jù)悉，三星已經(jīng)制定了未來NAND閃存...

      2024-11-27 標簽：半導(dǎo)體NAND光刻膠 631 0

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      2024-11-11 標簽：光刻膠 1677 0

      國產(chǎn)光刻膠通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗證

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      來源：太紫微公司 近日，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品，已...

      2024-10-17 標簽：半導(dǎo)體光刻膠 656 0

      掩膜版與光刻膠的功能和作用

      掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側(cè)重，但共同促進了芯片的精確制造。? 掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，...

      2024-09-06 標簽：芯片光刻膠掩膜 1688 0

      如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？

      在微流控PDMS芯片加工的過程中，需要使用烘膠臺或者烤膠設(shè)備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要...

      2024-08-27 標簽：微流控光刻膠 796 0

      如何成功的旋涂微流控SU-8光刻膠？

      在微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的過程中，需要把PDMS膠或SU-8光刻膠根據(jù)所需要的厚度來選擇合適的旋涂轉(zhuǎn)速并且使PDMS膠或SU-8膠涂布均勻...

      2024-08-26 標簽：微流控光刻膠 848 0

      如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？

      為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光刻膠掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。 首先，光掩模和晶圓...

      2024-08-23 標簽：微流控光刻膠掩膜 687 0

      日企大力投資光刻膠等關(guān)鍵EUV材料

      日本在EUV光刻領(lǐng)域保留著對供應(yīng)鏈關(guān)鍵部分的控制，例如半導(dǎo)體材料。 據(jù)了解，芯片制造涉及19種關(guān)鍵材料，且多數(shù)都具有較高技術(shù)壁壘，而日本企業(yè)在其中14種...

      2024-07-16 標簽：光刻膠 435 0

      導(dǎo)致光刻膠變色的原因有哪些？

      存儲時間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗，而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料，在 可見光譜的部分具有很強的吸...

      2024-07-11 標簽：光刻膠 1259 0

      光刻膠涂覆工藝—旋涂

      為了確保光刻工藝的可重復(fù)性、可靠性和可接受性，必須在基板表面上均勻涂覆光刻膠。光刻膠通常分散在溶劑或水溶液中，是一種高粘度材料。根據(jù)工藝要求，有許多工藝...

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      光刻膠的硬烘烤技術(shù)

      根據(jù)光刻膠的應(yīng)用工藝，我們可以采用適當(dāng)?shù)姆椒▽σ扬@影的光刻膠結(jié)構(gòu)進行處理以提高其化學(xué)或物理穩(wěn)定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現(xiàn)整個光刻膠結(jié)構(gòu)的熱交聯(lián)，...

      2024-07-10 標簽：光刻膠 1893 0

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      2024-07-10 標簽：光刻膠 1548 0

      光刻膠后烘技術(shù)

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      后烘是指（post exposure bake-PEB）是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影，也就是說還未閉合，PEB也可以在高于光...

      2024-07-09 標簽：光刻膠 2535 0

      光刻膠的圖形反轉(zhuǎn)工藝

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      圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言，負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)...

      2024-07-09 標簽：光刻膠 1359 0

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      通常，光刻膠只是用作構(gòu)建圖形步驟中的臨時掩膜。因此，光刻工藝的最后一步通常是需要去除光刻膠，我們稱之為去膠或者除膠。并且對去膠過程的要求是：迅速去膠且沒...

      2024-07-08 標簽：光刻膠 1464 0

      光刻膠的保存和老化失效

      我們在使用光刻膠的時候往往關(guān)注的重點是光刻膠的性能，但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題，其實這個問題應(yīng)該在我們購買光刻膠前就應(yīng)該提出并規(guī)劃好。并...

      2024-07-08 標簽：存儲電子束光刻膠 2255 0

      一份PPT帶你看懂光刻膠分類、工藝、成分以及光刻膠市場和痛點

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      共讀好書 前烘對正膠顯影的影響 前烘對負膠膠顯影的影響 需要這個原報告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料，內(nèi)含光刻膠多份精品報告【贈2024電子資料百份】...

      2024-06-23 標簽：半導(dǎo)體光刻光刻膠 1252 0

      SK海力士將在1c DRAM生產(chǎn)中采用新型Inpria MOR光刻膠

      據(jù) TheElec報道，SK Hynix 已決定在其第 6 帶（即 1c 工藝，約為 10nm）DRAM 生產(chǎn)過程中采用 Inpria 下一代金屬氧化物...

      2024-05-30 標簽：DRAM光刻膠SK海力士 2372 0

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        IoT是Internet of Things的縮寫，字面翻譯是“物體組成的因特網(wǎng)”，準確的翻譯應(yīng)該為“物聯(lián)網(wǎng)”。物聯(lián)網(wǎng)（Internet of Things）又稱傳感網(wǎng)，簡要講就是互聯(lián)網(wǎng)從人向物的延伸。
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        步進驅(qū)動器
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