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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。
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昇印光電完成超億元融資,開發(fā)原理級創(chuàng)新技術(shù):嵌入式納米印刷
當(dāng)談到該創(chuàng)新工藝時(shí),不可避免地要與傳統(tǒng)的光刻工藝體系進(jìn)行對比。光刻工藝體系是一種減法工藝:首先要在襯底表面沉積一層材料,例如銅;然后在材料層表面涂布一層...
評價(jià)一款光刻膠是否適合某種應(yīng)用需要綜合看這款光刻膠的特定性能,這里給出光刻膠一般特性的介紹。 1. 靈敏度 靈敏度(sensitivity)是衡量曝光速...
2024-07-10 標(biāo)簽:光刻膠 2k 0
來源:全球半導(dǎo)體觀察 編輯:感知芯視界 近日,半導(dǎo)體行業(yè)又一批項(xiàng)目迎來最新進(jìn)展,范圍涉及車規(guī)級模塊、功率器件、半導(dǎo)體設(shè)備零部件、半導(dǎo)體材料等。 瑞能車規(guī)...
來源:?果殼硬科技 1、光刻膠究竟是怎樣一個(gè)行業(yè)? 光刻膠,又稱“光致抗蝕劑”,是光刻成像的承載介質(zhì),可利用光化學(xué)反應(yīng)將光刻系統(tǒng)中經(jīng)過衍射、濾波后的光信...
高端光刻膠通過認(rèn)證 已經(jīng)用于50nm工藝
此前該公司指出,公司已建成年產(chǎn)5噸ArF干式光刻膠生產(chǎn)線、年產(chǎn)20噸ArF浸沒式光刻膠生產(chǎn)線及年產(chǎn)45噸的光刻膠配套高純試劑生產(chǎn)線,具備ArF光刻膠及配...
韓國光刻膠供應(yīng)過度依賴進(jìn)口,目前供應(yīng)不足導(dǎo)致庫存量告急
日前,據(jù)韓媒ETnews報(bào)道,韓國的光刻膠供應(yīng)出現(xiàn)了短缺狀況,導(dǎo)致庫存量降低到了通常標(biāo)準(zhǔn)的3個(gè)月供應(yīng)庫存以下。 韓國的光刻膠一向都主要靠日本廠商進(jìn)口供給...
2022-04-19 標(biāo)簽:光刻膠 1.8k 0
韓國SKMP開發(fā)出高厚度KrF光刻膠,可助力3D NAND閃存制造
據(jù)悉,skmp開發(fā)的新型KrF光刻膠的厚度為14至15米,與東進(jìn)半導(dǎo)體(DONGJIN SEMICHEM)向三星提供的產(chǎn)品相似。日本jsr公司的類似產(chǎn)...
摘要 幾個(gè)旨在補(bǔ)救的實(shí)驗(yàn)結(jié)果在噴濕化學(xué)品時(shí),光刻膠粘附失效報(bào)道了InGaP/GaAs NPN hbt的刻蝕。 幾個(gè)確定了影響?zhàn)じ胶宛じ降囊蛩夭捎脤?shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)...
上海衡封新材料科技A輪融資近億元,擴(kuò)大研發(fā),提升產(chǎn)品供應(yīng)能力
衡封新材誕生于2018年,主營業(yè)務(wù)為電子級酚醛樹脂與特種環(huán)氧樹脂產(chǎn)品,應(yīng)用范圍涵蓋半導(dǎo)體封裝、覆銅板、光刻膠、電子膠等諸多領(lǐng)域。在衡封新材的精英員工隊(duì)伍...
2023-12-15 標(biāo)簽:半導(dǎo)體封裝覆銅板光刻膠 1.7k 0
圖形反轉(zhuǎn)膠是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當(dāng)正膠使用又可以作為負(fù)膠使用。相比而言,負(fù)膠工藝更被人們所熟知。本文重點(diǎn)介紹其負(fù)膠工藝。 應(yīng)用領(lǐng)域 在反轉(zhuǎn)...
2024-07-09 標(biāo)簽:光刻膠 1.7k 0
光刻膠的性能:光刻膠的性能對套刻精度有顯著影響。它決定了圖形的套刻分辨率和邊緣清晰度,光刻膠的收縮和厚度不均勻性都可能導(dǎo)致實(shí)際圖案尺寸與設(shè)計(jì)尺寸之間的偏差。
日韓半導(dǎo)體“冰釋前嫌”,光刻膠供應(yīng)鏈進(jìn)入新牌局
芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能過剩:韓國統(tǒng)計(jì)廳發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,1月韓國芯片制造商的芯片庫存與銷售比達(dá)到265.7%,創(chuàng)下26年來的最高值。如果上游材料持續(xù)被日本卡脖子,韓...
陶氏化學(xué)工廠爆炸 牽動(dòng)半導(dǎo)體關(guān)鍵耗材生產(chǎn)
陶氏化學(xué)公司是粘合劑,輔助劑等在內(nèi)的多種材料提供的高純度化學(xué)產(chǎn)品生產(chǎn)線的半導(dǎo)體核心化學(xué)材料的主要供應(yīng)商,也供應(yīng)全球重要的CMP材料包括拋光墊、拋光液等。
日本與韓國半導(dǎo)體進(jìn)行正面沖突 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈迎變局
日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省7月1日宣布,日本將限制對韓國出口3種半導(dǎo)體及OLED材料。自7月4日起,包括“氟聚酰亞胺”、“光刻膠”和“高純度氟化氫”3種材料將限制向...
集成電路通過一系列特定的加工工藝的過程有哪些?? 集成電路是現(xiàn)代電子技術(shù)的關(guān)鍵部分,被廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)、通信、家用電器、汽車等領(lǐng)域。它是由微小的電子器件...
2023-08-29 標(biāo)簽:集成電路計(jì)算機(jī)光刻膠 1.6k 0
存儲時(shí)間 正膠和圖形反轉(zhuǎn)膠在存儲數(shù)月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因?yàn)樵擃愋凸饪棠z含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強(qiáng)的吸...
2024-07-11 標(biāo)簽:光刻膠 1.6k 0
康達(dá)新材投資2.89億元建設(shè)半導(dǎo)體光刻膠關(guān)鍵材料光引發(fā)劑技術(shù)項(xiàng)目?
康達(dá)新材表示,為了貫徹其“新材料+電子科技”戰(zhàn)略,優(yōu)化旗下彩晶光電產(chǎn)品構(gòu)成,填補(bǔ)內(nèi)地資源空缺,推進(jìn)國產(chǎn)化進(jìn)程,解決半導(dǎo)體光刻膠核心材料受限問題,打破國際...
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