其他工藝器件的參與才能保障芯片的高良率。 ? 以光刻膠為例,這是決定芯片 圖案能否被精準(zhǔn) 刻下來的“感光神經(jīng)膜”。并且隨著芯片步入 7nm及以下先進制程芯片 時代,不僅需要EUV光刻機,更需要EUV光刻膠的參與。但在過去 國內(nèi)長
發(fā)表于 10-28 08:53
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,導(dǎo)致厚度顯著增加(約7%)并伴隨折射率下降(約-0.4%),且吸水行為受膠體年齡與后處理工藝影響,在表面呈現(xiàn)非均勻分布。此外,液體還可能萃取光刻膠中的光酸產(chǎn)生劑等
發(fā)表于 01-16 18:04
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裝載光刻膠的特種玻璃容器。李樂成介紹了展覽的裝光刻膠的玻璃瓶,稱其是重大的科技攻關(guān)內(nèi)容之一,能確保光刻膠在運輸和保管儲藏過程中不受污染、不受影響。據(jù)介紹,這項成果已打破國內(nèi)光刻膠行業(yè)長
發(fā)表于 01-13 12:45
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電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 在芯片制造領(lǐng)域,光刻膠用光引發(fā)劑長期被美日韓企業(yè)壟斷,成為制約我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵“卡脖子”技術(shù)。近日,這一局面被打破——湖北興福電子材料股份有限公司以4626.78萬元
發(fā)表于 12-17 09:16
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光刻膠剝離工藝是半導(dǎo)體制造和微納加工中的關(guān)鍵步驟,其核心目標(biāo)是高效、精準(zhǔn)地去除光刻膠而不損傷基底材料或已形成的結(jié)構(gòu)。以下是該工藝的主要類型及實施要點:濕法剝離技術(shù)有機溶劑溶解法原理:使用丙酮、NMP
發(fā)表于 09-17 11:01
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在芯片制造領(lǐng)域的光刻工藝中,光刻膠旋涂是不可或缺的基石環(huán)節(jié),而保障光刻膠旋涂的厚度是電路圖案精度的前提。優(yōu)可測薄膜厚度測量儀AF系列憑借高精度、高速度的特點,為光刻膠厚度監(jiān)測提供了可靠
發(fā)表于 08-22 17:52
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當(dāng)您尋找可靠的國產(chǎn)半導(dǎo)體材料供應(yīng)商時,一家在光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)全產(chǎn)業(yè)鏈突破的企業(yè)正脫穎而出——久日新材(688199.SH)。這家光引發(fā)劑巨頭,正以令人矚目的速度在半導(dǎo)體核心材料國產(chǎn)化浪潮中嶄露頭角
發(fā)表于 08-12 16:45
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? 電子發(fā)燒友網(wǎng)綜合報道 光刻膠作為芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心耗材,尤其高端材料長期被日美巨頭壟斷,國外企業(yè)對原料和配方高度保密,我國九成以上光刻膠依賴
發(fā)表于 07-13 07:22
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引言 在晶圓上芯片制造工藝中,光刻膠剝離是承上啟下的關(guān)鍵環(huán)節(jié),其效果直接影響芯片性能與良率。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝精度的重要手段。本文將介紹適用于晶圓芯片工藝的光刻膠剝離方法,并探討白光
發(fā)表于 06-25 10:19
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引言 在半導(dǎo)體及微納制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝對金屬結(jié)構(gòu)的保護至關(guān)重要。傳統(tǒng)剝離液易造成金屬過度蝕刻,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量是保障工藝質(zhì)量的關(guān)鍵。本文將介紹金屬低蝕刻率光刻膠
發(fā)表于 06-24 10:58
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引言 在顯示面板制造的 ARRAY 制程工藝中,光刻膠剝離是關(guān)鍵環(huán)節(jié)。銅布線在制程中廣泛應(yīng)用,但傳統(tǒng)光刻膠剝離液易對銅產(chǎn)生腐蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精準(zhǔn)測量對確保 ARRAY 制程工藝精度
發(fā)表于 06-18 09:56
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引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離是重要工序。傳統(tǒng)剝離液常對金屬層產(chǎn)生過度刻蝕,影響器件性能。同時,光刻圖形的精確測量也是確保制造質(zhì)量的關(guān)鍵。本文聚焦金屬低刻蝕的光刻膠剝離液
發(fā)表于 06-16 09:31
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? ? 引言 ? 在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,光刻膠剝離工藝是關(guān)鍵環(huán)節(jié),但其可能對器件性能產(chǎn)生負面影響。同時,光刻圖形的精確測量對于保證芯片制造質(zhì)量至關(guān)重要。本文將探討減少光刻膠剝離工藝影響的方法,并介紹白光
發(fā)表于 06-14 09:42
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引言 在半導(dǎo)體制造與微納加工領(lǐng)域,光刻膠剝離液是光刻膠剝離環(huán)節(jié)的核心材料,其性能優(yōu)劣直接影響光刻膠去除效果與基片質(zhì)量。同時,精準(zhǔn)測量光刻圖形對把控工藝質(zhì)量意義重大,白光干涉儀為此提供了
發(fā)表于 05-29 09:38
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光刻膠類型及特性光刻膠(Photoresist),又稱光致抗蝕劑,是芯片制造中光刻工藝的核心材料。其性能直接影響芯片制造的精度、效率和可靠性。本文介紹了光刻膠類型和
發(fā)表于 04-29 13:59
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