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標(biāo)簽 > 光刻膠
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。
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為了生產(chǎn)高純度、高質(zhì)量的光刻膠,需要高純度的配方原料,例如光刻樹(shù)脂,溶劑PGMEA…此外,生產(chǎn)過(guò)程中的反應(yīng)釜鍍膜和金屬析出污染監(jiān)測(cè)也是至關(guān)重要的控制環(huán)節(jié)...
一份PPT帶你看懂光刻膠分類(lèi)、工藝、成分以及光刻膠市場(chǎng)和痛點(diǎn)
共讀好書(shū) 前烘對(duì)正膠顯影的影響 前烘對(duì)負(fù)膠膠顯影的影響 需要這個(gè)原報(bào)告的朋友可轉(zhuǎn)發(fā)這篇文章獲取百份資料,內(nèi)含光刻膠多份精品報(bào)告【贈(zèng)2024電子資料百份】...
摘要 濕化學(xué)和高速固體 CO2 氣溶膠預(yù)處理的組合用于從圖案化的硅結(jié)構(gòu)中去除離子注入的抗蝕劑。頂部抗蝕劑表面通過(guò)重離子注入(1x1016 As atom...
全球光刻膠市場(chǎng)預(yù)計(jì)收入下滑,2024年有望反彈
所謂的“光刻膠”,即是在紫外線、電子束等輻射下,其溶解度會(huì)產(chǎn)生變化的耐腐蝕薄膜材料。作為光刻工藝中的關(guān)鍵要素,廣泛應(yīng)用于晶圓和分立器件的精細(xì)圖案制作中。...
國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體材料 邊補(bǔ)短板邊“掘金”
根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)顯示,2022年全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)年增長(zhǎng)率為8.9%,營(yíng)收達(dá)727億美元,超越2021年創(chuàng)下668億美元的市場(chǎng)最高紀(jì)錄。
1萬(wàn)億日元的半導(dǎo)體收購(gòu)案是怎么回事
為了完成這次收購(gòu),JIC計(jì)劃成立一家新公司,并籌集5000億日元(35億美元)的資金。瑞穗銀行將提供4000億日元的融資,其余的1000億日元?jiǎng)t預(yù)計(jì)通過(guò)...
2023-06-25 標(biāo)簽:光刻膠 1.5k 0
晶瑞電材子公司引入戰(zhàn)投中石化資本,定增募資8.5億元加碼光刻膠項(xiàng)目
控股子公司瑞紅(蘇州)電子化學(xué)品股份有限公司(以下簡(jiǎn)稱“瑞紅蘇州”)因經(jīng)營(yíng)發(fā)展需要,擬引入戰(zhàn)略投資者中國(guó)石化集團(tuán)資本有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中石化資本”),...
南大光電:預(yù)計(jì)今年底建成一條光刻膠生產(chǎn)線
南大光電(300346)7月17日在互動(dòng)平臺(tái)透露,公司設(shè)立光刻膠事業(yè)部,并成立了全資子公司寧波南大光電材料有限公司,全力推進(jìn)ArF光刻膠開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目...
光刻膠成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料
光刻膠是半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的一種重要材料,在整個(gè)電子元器件加工產(chǎn)業(yè)有著舉足輕重的地位。 它主要由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑等成分組成。其中,感光樹(shù)脂決定了光刻...
63億美元!日本宣布收購(gòu)光刻膠生產(chǎn)公司JSR
外媒24日?qǐng)?bào)道說(shuō),得到日本政府支援的jic正在討論以1萬(wàn)億日元收購(gòu)用于半導(dǎo)體制造的光合作用樹(shù)脂企業(yè)jsr的方案。jic計(jì)劃最早在今年提出預(yù)備收購(gòu)意向。j...
2023-06-27 標(biāo)簽:半導(dǎo)體制造光刻膠jic 1.5k 0
光刻膠“斷供”風(fēng)波再起 國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程提速
隨著美國(guó)在半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)χ袊?guó)制裁不斷加碼,使得原已開(kāi)始進(jìn)入下行周期的半導(dǎo)體行業(yè),更顯得雪上加霜。 本月美國(guó)發(fā)布的出口管制新規(guī)較為復(fù)雜,大體可概括為3個(gè)禁止...
一、光刻工藝概述 光刻工藝是半導(dǎo)體制造的核心技術(shù),通過(guò)光刻膠在特殊波長(zhǎng)光線或者電子束下發(fā)生化學(xué)變化,再經(jīng)過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)在掩膜上的圖...
2023年中國(guó)光刻膠行業(yè)市場(chǎng)前景及投資研究報(bào)告
光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,是半導(dǎo)體制造中使用的核心電子材料之一。伴...
高數(shù)值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發(fā)展以及高數(shù)值孔徑EUV的時(shí)間表和技術(shù)要求上。ASML戰(zhàn)略營(yíng)銷(xiāo)高級(jí)總監(jiān)Michael Lerce...
在被超60億美元收購(gòu)后,日本光刻膠巨頭JSR尋求擴(kuò)大規(guī)模
在被超60億美元收購(gòu)后,日本光刻膠巨頭JSR積極尋求擴(kuò)大規(guī)模,以適應(yīng)全球芯片制造行業(yè)的快速發(fā)展。
艾森股份科創(chuàng)板IPO獲受理!電子化學(xué)品供應(yīng)長(zhǎng)電科技、日月新等封測(cè)大廠,募資7.11億擴(kuò)產(chǎn)
電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道(文/劉靜)近日,上交所披露,江蘇艾森半導(dǎo)體材料股份有限公司(簡(jiǎn)稱:艾森股份)的招股說(shuō)明書(shū),正式受理艾森股份的科創(chuàng)板IPO上市申請(qǐng),為國(guó)...
2022-10-17 標(biāo)簽:半導(dǎo)體光刻膠長(zhǎng)電科技 1.4k 0
本文介紹了干法刻蝕側(cè)壁彎曲的原因及解決方法。 什么是側(cè)壁彎曲? 如上圖,是典型的干法刻蝕時(shí),側(cè)壁彎曲的樣子,側(cè)壁為凹形或凸形結(jié)構(gòu)。而正常的側(cè)壁幾乎是垂直...
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